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Fターム[5F004BC00]の内容

半導体のドライエッチング (64,834) | 装置の細部 (2,084)

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Fターム[5F004BC00]に分類される特許

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【課題】小型で設置面積の小さい真空処理装置を提供する。
【解決手段】真空容器の内部に配置されその上に処理対象の試料が載置される試料台504と、この試料台504と前記側壁との間で試料台の側方を囲んで且つ側壁と空間を空けて配置されその内側でプラズマが形成される略円筒形上の内側壁部材533と、この内側壁部材533の上端部または下端部の周縁に配置されフランジ部と、前記内側壁部材533と前記真空容器の側壁との間の空間及び前記内側壁部材の内側を減圧するための排気手段508とを備え、前記内側壁部材533が前記真空容器内が減圧された状態でその上端部及び下端部がそれに接した部材から力を受けてその位置が前記真空容器の内側で固定されるとともに、前記フランジ部が前記力を受けて前記内側壁部材533の内側と外側とを封止するシールを挟んで押圧されるプラズマ処理装置。 (もっと読む)


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