【課題】小型、省エネルギーの除湿機を有するミニエンを提供する。
【解決手段】ミニエンにおいて、ウェーハ搬送を行う搬送室を内部に有するミニエン本体と、ミニエン本体の排気側と吸気側との間に設置され、ミニエン本体の内部を除湿する除湿機とを備えている。そして、除湿機は、吸着式除湿機からなり、水分を吸着する除湿材に供給する空気を冷却するプレクーラー２７、アフタークーラー２８と、水分を吸着する除湿材に供給する空気を加熱する排気ヒーター３３、再生ヒーター２３とを備え、プレクーラー２７、アフタークーラー２８と排気ヒーター３３、再生ヒーター２３との熱源にペルチェ素子４１が使用されている。 （もっと読む）

【課題】設備を策定する設備策定作業の簡素化を図ることができ、しかも、物品の搬送効率を向上できる天井設置型の物品搬送設備を提供する。
【解決手段】物品搬送車が同じ方向に向けて走行する複数の走行経路４Ａ，４Ｂが、経路横幅方向に並べた状態で天井側に設けられ、複数の走行経路４Ａ，４Ｂにおける隣り合う一対の走行経路４Ａ，４Ｂのうちの一方側走行経路４Ａから他方側走行経路４Ｂに物品搬送車が分岐走行する第１分岐経路５Ａ及び他方側走行経路４Ｂから一方側走行経路４Ａに物品搬送車が分岐走行する第２分岐経路５Ｂが、平面視において走行経路４Ａ，４Ｂに対して傾斜する傾斜姿勢で、一方側走行経路４Ａと他方側走行経路４Ｂとを接続するように設けられ、第１分岐経路５Ａと第２分岐経路５Ｂとが、平面視にて、交差する形態で設けられている。 （もっと読む）

【課題】 半導体処理装置の取付け面に対する取り付けの容易なロードポート装置を提供する。
【解決手段】 ロードポート装置において載置台を支持するベース部材を、該ロードポート装置の取付け面側に配置される前方車輪を有する第一の支持ユニット及び該前方車輪より離れて配置される後方車輪を有する第二の支持ユニットにより支持することとし、ベース部材に対する第一の支持ユニットによる前方車輪の昇降の操作と第二の支持ユニットによる後方車輪の昇降の操作とを独立して行うこととする。 （もっと読む）

【課題】気体を効率的に置換してその作業の迅速化や効率化を図ることができ、容器本体からの蓋体の取り外しを容易にして基板を円滑に加工等できる基板収納容器を提供する。
【解決手段】半導体ウェーハ収納用の容器本体１と、容器本体１の開口した正面７に嵌合される蓋体２０と、容器本体１と蓋体２０の間に介在される変形可能なシールガスケット３０とを備え、容器本体１の正面内周にシールガスケット３０用のシール形成面８を形成し、蓋体２０の裏面周縁部にシールガスケット３０用の取付溝２５を形成する。また、シールガスケット３０を、取付溝２５に嵌入される基体３１と、基体３１から突出する延出片３３と、延出片３３の先端部から伸びてシール形成面８に圧接する第一のシール片３５と、延出片３３から突出する第二のシール片３７とから形成し、第二のシール片３７を延出片３３に直交させてシール形成面８に隣接する隣接面９に接触させる。 （もっと読む）

【課題】各生産装置の稼働率が低下することを抑制することができると共にリードタイムの増加を抑制することができる搬送システムおよびその制御方法を提供する。
【解決手段】複数の生産装置それぞれに対する保管庫に収容されている合計カセット数を示す保管庫データを作成し、保管庫データに基づいて合計カセット数が閾値以上である場合には当該カセットを処理する生産装置を特定装置とする特定装置データを作成する。そして、特定装置データに基づいて搬送元移載箇所または搬送先移載箇所が特定装置である搬送指示の優先度を高いものに変更し、搬送元エリアに搬送指示が割付けられていない搬送台車がなく、選択した搬送指示の優先度が搬送指示変更部で高いものに変更され、かつ搬送元エリアに搬送指示が割付けられているがカセットを搭載せずに搬送元エリアを搬送している搬送台車がある場合、当該搬送台車に改めて選択した搬送指示を割付ける特別割付けを行う。 （もっと読む）

【課題】製造プロセス中のウエハの反りを防止する。
【解決手段】基板処理装置は、ウエハにおける、サポートプレートが貼り付けられている面とは反対側の被支持面の内周部を支持する支持ピンにより支持された積層体を減圧環境下において搬送する搬送ユニット２０とを備え、製造プロセス中のウエハの反りを防止することを可能とした。 （もっと読む）

【課題】複数台の搬送ロボットを備えた線形ツールにおいて、スループットを低下させない搬送効率の高い搬送制御を提供する。
【解決手段】真空処理装置の制御部を、処理室、搬送機構部、中間室、保持機構部のそれぞれにおける動作状態、並びに被処理体の有無およびその処理状態を表わす装置状態情報を実時間に更新して保持し、装置状態情報と、被処理体の処理時間とに基づいて、予め処理室の数・配置と被処理体の処理時間との組合せの条件毎に被処理体の搬送を制御する複数の搬送アルゴリズムをシミュレーションして得られた搬送アルゴリズム判定ルールの中から搬送アルゴリズムを選択し、および選択された前記搬送アルゴリズムに基づいて、前記被処理体の搬送先を算出するように構成した。 （もっと読む）

【課題】密閉式の蓋付きカセットを用いる形態の加工装置において、カセット蓋が取り外された際に、カセット本体から半導体ウェーハが飛び出したことを検出可能とする加工装置を提供する。
【解決手段】一側面に搬出入開口部７１ａを有するカセット本体７１と搬出入開口部７１ａを開閉するカセット蓋７２とからなり、カセット本体７１中に半導体ウェーハＷを収容したカセット７を載置するカセットテーブル８１を備えたカセット載置機構８と、カセットテーブル８１に載置されたカセット７から搬出された半導体ウェーハＷを保持するチャックテーブル１９と、チャックテーブル１９に保持された半導体ウェーハＷを加工する加工手段としての切削ユニット２４と、を具備する加工装置とする。 （もっと読む）

【課題】ウェーハ搬送室内に搬送可能なウェーハの数を効果的に増大させることができ、ＥＦＥＭに用いた場合にはウェーハ搬送の処理能力を向上させることが可能な装置を提供する。
【解決手段】ウェーハ搬送室Ｂ及びロードポートＣとともにＥＦＥＭを構成し、載置テーブルを、ロードポートＣがＦＯＵＰ搬送装置との間でＦＯＵＰｘを受け渡す位置と同一直線Ｌ上に設定したＦＯＵＰ受渡位置と、ウェーハ搬送室Ｂの側面にＦＯＵＰｘを密着させ得る位置に設定したウェーハ出入位置との間で移動させる移動機構を備えたサイド用ロードポート１を案出した。 （もっと読む）

【課題】 クリーンルームで行われる半導体製造プロセス等において、棚に運搬容器を保管する際に塵埃が発生し、また他のエリアで運搬容器に付着した塵埃が落下して、同じ棚に保管されている他の運搬容器に付着する可能性があった。
【解決手段】 棚１０は、クリーンルームで用いられるものであり、少なくとも１段の棚板１１を有する。各棚板１１は、所定の間隔Ｇをあけて上下に対向配置された上板部１２と下板部１３とを有している。上板部１２は、空気を通過させる複数の開口部１４を有している。下板部１３は、少なくとも上板部１２の開口部１４に対向する部分に、塵埃を捕捉する塵埃捕捉部（粘着マット１５）を有している。 （もっと読む）

【課題】アーム部の昇降範囲を大きくしつつ、最低限必要な高さ位置までアーム部を降下可能とした搬送ロボットおよび基板処理装置を提供する。
【解決手段】アーム部（１２）を水平方向に回転自在に支持し、所定の基台設置フレーム（２３）に設置される基台部（１３）と、基台部（１３）内に立設した縦軸に沿ってアーム部（１２）を、基台部（１３）の上方に規定されたアーム部昇降範囲（α）内で昇降させる昇降機構（７）とを備える。基台部（１３）は、基台設置フレーム（２３）に形成された基台収容凹部（２５）内に、底壁（１３１）から所定高さ（ｈ）に設定された基台固定用フランジ（８）までを埋没させた状態で固定されている。 （もっと読む）

【課題】基板処理システムのフットプリントを小さくする。
【解決手段】複数の処理ユニットが上下方向に多段に設けられた処理ステーション３と、複数枚のウェハＷを収容するカセットを載置するカセット載置台１２と、処理ステーション３とカセット載置台１２との間に配置されたウェハ搬送機構２１と、を備えた基板処理システム１において、処理ステーション３とウェハ搬送機構２１との間には、カセット載置台１２と処理ステーション３との間で搬送されるウェハ、及び各処理ユニットの各段の間で搬送される基板を一時的に収容する複数の受け渡しユニットが多段に設けられた受け渡しブロック２２が配置されている。ウェハ搬送機構２１は、カセット載置台１２と受け渡しブロック２２との間でウェハを搬送する第１の搬送アームと、受け渡しユニットの各段の間でウェハを搬送する第２の搬送アームとを備えている。 （もっと読む）

【課題】キャリア搬送システムを有効に利用することができる基板処理システムを提供する。
【解決手段】基板処理装置は、ＦＯＵＰをロードポートに搬入するためにキャリア搬送システムが移動してきた際に、ロードポートに別のＦＯＵＰが載置された状態である場合には、キャリア搬送システムが搬送開始を通知しても、ＦＯＵＰを内部バッファへ搬送し終えるまでキャリア搬送システムに対して搬入不可を通知せず、待機させる対キャリア搬送システム制御部を備えている。したがって、前のＯＨＴに続いてＯＨＴがＦＯＵＰを搬送する場合であっても、後のＯＨＴが周回軌道を回ることがない。その結果、ＦＯＵＰの搬入に関してキャリア搬送システムを有効利用することができる。 （もっと読む）

【課題】基板処理装置においてスループットの向上を図ることができ、さらに占有床面積を小さくすることができる技術を提供すること。
【解決手段】キャリアブロックの手前側から見て互いに左右に離れて第１のキャリア載置部及び第２のキャリア載置部をキャリアブロックに配置し、処理ブロック側からキャリアブロックを見て第１のキャリア載置部及び第２のキャリア載置部の間に設けられ、処理ブロックの各階層の基板搬送機構により基板の受け渡しが行われるように基板載置部を積層したタワー部と、前記第１のキャリア載置部、前記第２のキャリア載置部に夫々臨む位置に設けられ、各キャリア載置部上のキャリアと前記タワー部の各基板載置部との間で基板の移載を行う進退、昇降自在な第１、第２の基板移載機構を備えるように装置を構成する。 （もっと読む）