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Fターム[5F031EA11]の内容

ウエハ等の容器、移送、固着、位置決め等 (111,051) | 容器の構造 (2,912) | 蓋の構造 (350)

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【課題】 ポッド最上段の予備位置にウエハを収容した場合であっても好適なウエハマッピングを可能なロードポート装置を提供する。
【解決手段】 センサを支持するマッピングフレームを、ポッド内のウエハの重ね合わせ方向に沿った第一の方向に駆動する第一の駆動手段と、センサがマッピングを行い始める側で鋭角を形成するように第一の方向と交錯する第二の方向に駆動する第二の駆動手段とにより駆動することとする。 (もっと読む)


【課題】基板を保持した基板ホルダを搬送装置内に高精度に収納する。
【解決手段】複数枚のウエハを収納可能なポッド(フープ)にウエハホルダによって保持されたウエハを収納する際に用いられる治具であり、台座部91と位置決めブロック92とグリップ部93とを有しており、台座部91に一段下がったザグリ面91bが形成され、ザグリ面91bにウエハホルダの回転方向を位置決めする3つの突起部91fが設けられ、位置決めブロック92の突出部92aとポッドとで位置決めを行ってポッドに前記ウエハホルダを収納する。 (もっと読む)


【課題】基板処理装置において占有床面積を小さくすることができる技術を提供すること。
【解決手段】キャリアブロックの背面側に設けられ、基板の処理の順番が前後する複数の階層部分を積層した構造を備えると共に各階層ごとに基板搬送機構及び基板を処理する処理モジュールが設けられた処理ブロックと、各々対応する階層の前記基板搬送機構により基板の受け渡しが行われる基板載置部を積層したタワー部と、キャリア載置部上のキャリアと前記タワー部の基板載置部との間、及び前記タワー部の基板載置部の間で基板の移載を行う基板移載機構と、を備え、基板移載機構は、キャリアと基板載置部との間で基板の移載を行うときに専用に用いられる第1の基板保持部材と、タワー部の基板載置部の間で基板の移載を行うときに専用に用いられる第2の基板保持部材と、を備えるように構成する。 (もっと読む)


【課題】基板処理装置のスループットを低減させることなく、キャリアの内部やキャリアに収容された基板の汚損を防止すること。
【解決手段】本発明では、キャリア載置台(6)に載置されたキャリア(3)の蓋(5)を開放し、キャリア(3)に収容された基板(2)を基板処理室(7)へ搬送し、基板処理室(7)で基板(2)の処理を行う基板処理装置(1)及び基板処理方法並びに基板処理プログラムにおいて、キャリア載置台(6)に載置された第1のキャリア(3)に対して処理が行われている場合、第2のキャリア(3)の蓋(5)を閉塞させた状態で第2のキャリア(3)をキャリア載置台(6)に待機させ、その後、所定の条件が満たされたときに第2のキャリア(3)の蓋(5)を開放し、基板(2)の処理を開始することにした。 (もっと読む)


【課題】設備費を抑えつつ、様々なサイズの複数枚のパネルを収容することが可能なパネル収容ケースを提供する。
【解決手段】複数枚のパネルPを互いに間隔をあけて保持した状態に収容するパネル収容ケース10であって、上部が開口部とされ、内部がパネルPの収容空間とされた有底のケース本体20と、ケース本体20の上部に被せられてケース本体20の開口部を塞ぐ蓋体と、パネルPの側縁部を係合可能な上下方向に沿う複数の保持溝61が間隔をあけて形成された一対の溝ユニット53と、一対の溝ユニット53をケース本体20内における対向位置に保持することにより保持溝61同士を対向させてパネルPの両側縁部を係合可能とする保持ユニット81とを備え、一対の溝ユニット53は、保持ユニット81によって、互いの間隔が調整可能とされている。 (もっと読む)


【課題】ラミネーティング過程で発生する接触面上の気泡を除去できるようなエアープレッシングパターンを形成できるラミネーティング装置及びそのラミネーティング方法を提供する。
【解決手段】ラミネーティング装置は、キャリア装置及び正圧プレス装置を含み、キャリア装置は、被加工物である基板などを収容し、真空を形成して基板と基板とを固定圧着させ、正圧プレス装置は、キャリア装置の弾性膜に向かってエアーを噴射して基板間の接着力を高めると同時に、噴射されたエアーがまるで基板をその中心から縁部に掃き出すような効果を持たせることによって、ラミネーティング過程で発生しうる基板間の気泡を除去する。このようなエアープレッシングによる加圧では、基板などをチャンバーではなく別の移送可能なキャリア装置に収容するため、正圧プレス装置が複数個のキャリア装置に対して反復的なエアープレッシング工程を行うことができる。 (もっと読む)


【課題】容器本体の側壁の撓み変形や歪みを抑制でき、ガラス基板等の板状体の撓みを防ぎ、溝外れ及び干渉による破損を防止でき、板状体の薄肉化にも対応できる、板状体の搬送容器を提供する。
【解決手段】相対向する側壁12bの内面に板状体の側端部を支持する支持用溝13を設けた容器本体1と、蓋体3と、中蓋5とを備え、中蓋5を、四周各辺部51a,51bを側壁上端部の内側に嵌合することにより容器本体1の側壁12a,12bの変形を抑制できる板体よりなるものとし、少なくとも一方の相対向辺部51bの側端面に突設した突縁5a,52bを、容器本体1の側壁上端部の内側に形成された切欠段部22a、22bに嵌合して所定位置に位置決めするように設ける。 (もっと読む)


【課題】ダミーウェハを適切に使用することで生産処理とダミー処理とを効率よく実行する基板処理装置を提供する。
【解決手段】ダミー基板と製品基板とを含む基板に処理を施す複数の処理室と、前記各処理室へ基板を基板保持部に保持して搬送する第一搬送手段を備えた第一搬送室と、大気圧状態で基板を搬送する第二搬送手段を備えた第二搬送室と、前記第一搬送室と前記第二搬送室を連結する減圧可能な予備室と、前記搬送室と前記予備室に対して設けられる排気手段と、複数の基板が収納された基板収納手段と前記処理室との間の前記第一搬送手段および前記第二搬送手段の搬送を制御する制御手段とを設けた基板処理装置である。前記制御手段は、複数のダミー基板の使用状態を個別に管理し、ダミー基板の使用状態が予め定められた使用状態に達したか否かを判定する。 (もっと読む)


【課題】高温の基板を冷却する際に、基板と基板支持部との摩擦により生じる傷を抑制することのできる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置を、基板に熱処理を施す処理室と、前記処理室に接続され基板を搬送する基板搬送装置を備える搬送室と、前記搬送室に接続され前記処理室で熱処理された基板を冷却する冷却室とを備えるように構成し、さらに、前記冷却室内には、基板を支持するための基板支持部を備え、前記熱処理された基板を基板支持部で支持して冷却する際に、前記基板支持部により基板裏面に形成される傷の長さが0.25mm以下となるように、前記基板支持部が基板裏面の3ヶ所以上の位置を支持するように構成する。 (もっと読む)


【課題】直径300mmの第1ウエハを収容可能な第1カセット用のロードポートに対してカセットアダプタを使用して、直径200mmの第2ウエハを収容可能な第2カセットをセットする際に、第2カセットの全体を覆うカセットカバーの提供。
【解決手段】正面、背面及び底面の3面が開口されていて、アダプタ本体及び第2カセットK2の全体を覆うことができると共に、正面開口を通してアダプタ本体を手前側に傾転させられるように、アダプタベースVに一体に取付けられ、ロードポートPのキャリアベース5の前進により、カセットカバーCで覆われた第2カセットK2が前進端位置である第2ウエハの搬入・搬出位置に達した状態で、カセットカバーCの前端周縁が、ロードポート本体1のウエハ移載窓1aの周縁に密着又は近接可能なように、カセットカバーCの前端には、左右の両方向に向けて閉塞用フランジ部46が一体に設けられた構成とする。 (もっと読む)


【課題】光透過性の高い基板を使用する場合であっても、基板の配設状態を検知可能な基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板を処理する反応室と、前記基板が載置された基板ホルダを保持すると共に基板処理中前記反応室内に配置される基板保持具12と、前記基板が前記基板ホルダに載置された状態で該基板ホルダの搬送を行う基板移載機11とを具備し、基板移載機11は前記基板ホルダを保持するアーム13と、光を投光する第1の投光部と該第1の投光部から投光された光を受光する第1の受光部を有する第1のファイバセンサとを有し、該第1のファイバセンサはアーム13が正常に前記基板ホルダを保持している場合に、前記第1の投光部と前記第1の受光部との間に前記基板ホルダが位置する様に配置される。 (もっと読む)


【課題】簡単な構成にも拘わらず、たとえ異なる方向から観ても、容易に基板収納容器を区別できるように構成した基板収納容器を提供する。
【解決手段】開口を有しこの開口を通して基板を収納する容器本体と、この容器本体の前記開口を閉鎖する蓋体とを有する基板収納容器である。容器本体の第1外壁面とこの第1外壁面と隣接する第2外壁面との稜線部に、識別プレートが第1外壁面側および第2外壁面側に延在された幅を有して取り付けられている。識別プレートは着色されている。 (もっと読む)


【課題】容器本体に対して搬送部材を新規な取り付け構造によって固定することにより、容器本体の変形を防ぎ、たとえばシール性の確保等が図れた信頼性のある基板収納容器を得る。
【解決手段】基板収納容器は、開口を有しこの開口を通して基板を収納する容器本体と、容器本体の開口を閉鎖する蓋体と、容器本体の天面、開口から観た左右のそれぞれの側壁面、および底面のうち隣接する複数の面に対向して取り付けられる取り付け枠体と、前記取り付け枠に取り付けられた搬送部材と、を備えて構成される。これにより、搬送部材は取り付け枠体を介在させて間接的に容器本体に取り付けられる。また、前記取り付け枠体は、前記容器本体よりも剛性の高い材料で構成されている。 (もっと読む)


【課題】基板搬送装置(10)を使用する方法を提供する。
【解決手段】該装置はケーシング(11)及びドア(13)を有する。該ケーシングは調節された環境を内部に形成する。該ケーシングは少なくとも1つの基板(s)を該ケーシング内に保持すべく、内部にサポート部(12、14)を有している。該ケーシングは基板搬送開口部を画定し、かかる開口部を介して基板搬送システムがケーシング内の基板にアクセスする。該ドアは、ケーシング内の基板搬送開口部を閉鎖すべくケーシングに結合している。ケーシングは迅速に交換する構成要素を形成する構造を有し、よって基板搬送システムを退避せしめることなくケーシング内の基板のローディングとは独立して該装置からの基板を他の基板と交換することが可能となる。 (もっと読む)


【課題】 落下や振動での極限的な条件下においても、中央部に配設した基板も適切に保持され得る基板収納容器を提供する。
【解決手段】 容器本体の左右の側壁の内側には、基板を一定間隔で水平に支持する相対向する1対の支持部材が備えられ、支持部材の奥側には、基板の挿入限界を規制する位置規制部が備えられ、この位置規制部の外側の側壁には、補強用リブが形成されていることを特徴とする。
前記補強用リブが、側壁から外側に突出する格子状のリブ、側壁の上部から底部にかけて外側に突出する細長のリブ、また、側壁にハニカム状に形成されるリブであることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】基板の支持部との接触部を少なくできると共に、基板の撓みを小さくできる基板収納容器を提供する。
【解決手段】開口を通して基板を収納する容器本体と、この容器本体の前記開口を閉鎖する蓋体と、蓋体に設けられるフロントリテーナとを備え、前記容器本体の開口側から観た場合の左右内壁面に一対の支持部が対向配置されている基板収納容器である。前記一対の支持部は、それぞれ前記容器本体の前記開口側と奥側において、収納された前記基板の周辺と当接する接触部分を有し、平面的に観て前記基板の収納方向に対する、前記一対の支持部の開口側の前記接触部分と収納された前記基板の中心を結ぶ線の角度をθ1とした場合、次式(1)の関係を有する。
70°≧θ1>θ0+10° …… (1)
ここで、前記θ0は、前記θ1を小さくなる方向に変化させた際に、前記基板の開口側の周縁が重力の方向への撓みから前記方向と反対側に撓み始める角度とする。 (もっと読む)


【課題】ウェハーを横方向で収容した状態で確実に保持できるウェハーキャリヤを提供する。
【解決手段】容器とドアとを有するウェハー容器はウェハーの横方向の最小接触での支持を与え、また、前縁支持と後縁支持との間の一つの面的な支持を伴うことなく縦方向の支持を与える。ウェハーキャリヤは各ウェハーに対して互いに軸方向にずれた2つの異なる支持レベルを有している。第1の支持レベルは各ウェハーの左側及び右側において底面と接触するウェハー棚によって得られる。第2の支持レベルはウェハーを左側及び右側の縁部における一つの面的な支持を伴うことなく前縁及び後縁においてウェハーを保持するクッションによって与えられる。 (もっと読む)


【課題】酸化膜生成工程等、基板からの熱により高温になった基板保持ハンドからの熱伝導により基板保持ハンド付近に設置された検出手段が故障あるいは破損するのを防止することが可能な基板搬送装置を提供する。
【解決手段】基板Wを把持して搬送する基板保持ハンド11と、収納容器7内の前記基板Wの位置を検出する反射型センサ14と、前記反射型センサ14と前記基板保持ハンド11との間に、断熱部材13(例えば樹脂)を配置する。 (もっと読む)


【課題】IMSシステムにおいてポッドの蓋に付随する極微小な塵等のミニエンバイロンメント内への拡散を抑制するポッド及び該ポッドに応じたFIMSシステムを提供する。
【解決手段】ポッドの蓋外側面内に被係合部を配置し、ポッド開口周囲に配される該蓋が嵌合可能なフランジ部に対して外部空間より該被係合部にアクセス可能となる挿通孔を配する。ラッチ機構はフランジ部におけるポッド本体側の面においてフランジ側壁に平行な方向に摺動可能に支持され、該ラッチ機構における係合部は該挿通孔を介して被係合部に至り、該ラッチ機構の移動に応じて係合及び非係合の状態変化を為す。 (もっと読む)


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