【課題】被露光部材とマスクとのアライメントを行うための位置調整を単純化することによって効率的なアライメントを可能とする。
【解決手段】被露光部材２０の位置を調整する被露光部材位置調整装置１００と、被露光部材２０に形成すべき所定のパターン象が描かれているマスク３０の位置を調整するマスク位置調整装置２００とを備える露光装置１０であって、直交する２軸の一方の軸をＸ軸とし、他方の軸をＹ軸としたとき、被露光部材位置調整装置１００は、被露光部材２０をＸ軸及びＹ軸を含むＸＹ平面上におけるＸ軸に沿った方向及びＹ軸に沿った方向に移動可能に構成され、マスク位置調整装置２００は、マスク３０をＸＹ平面に直交するＺ軸に沿った軸を中心に回転可能に構成されている。 （もっと読む）

【課題】処理装置側の処理速度が速くなった場合でも対応することが出来、また横行コンベア又はトラバーサーが故障してしまった場合であっても、上記ガラス基板の投入や回収を行うことが出来る高速マルチローダーを提供する。
【解決手段】ガラス基板を処理する処理装置にガラス基板を投入し、処理装置で処理されたガラス基板を回収するマルチローダーであって、ガラス基板を収納したカセットとガラス基板を回収するカセットをそれぞれ載置する部位を三個以上備えた載置部と、載置部から処理装置側に順に設けられた、ガラス基板の受け入れ受け渡しを行う上下二段からなる第一搬送手段と、第一搬送手段とガラス基板の受け入れ受け渡しを行う左右二列と上下二段からなる第二の搬送手段と、第二の搬送手段と処理装置との間でガラス基板の受け渡し受け入れを行う第三の搬送手段と、を備えたことを特徴とするガラス基板の高速マルチローダー。 （もっと読む）

【課題】 搬送ワークの搬送中に生じるヨーイングを搬送しながら補正できるヨーイング補正機構を提供すること。
【解決手段】 搬送ワーク５の側部を保持する保持装置３と、レール６に沿って保持装置３をワーク送り方向Ｘに搬送する走行装置２と、保持装置３を走行装置２のワーク送り方向前部及び後部で支持する支持機構３１，３２とを備え、支持機構３１，３２は、走行装置２に設けた駆動軸の軸線O₁ ，O₂ に対して所定の偏心量ｅで前部又は後部の一方がワーク送り方向Ｘに偏心した位置で、他方がワーク送り方向Ｘと交差する方向に偏心した位置で保持装置３と係合する軸線O₃ を具備した偏心軸３８を有し、搬送ワーク５のヨーイングを、偏心軸３８の軸線O₃ を駆動軸３６，３７の軸線O₁ ，O₂ を中心に回動させることで保持装置３と走行装置２との位置を相対移動させて補正する。 （もっと読む）

【課題】組み立て時の調整時間を短縮できる基板搬送装置及び基板処理装置を提供する。
【解決手段】駆動部と、基板に当接することで搬送力を付与する搬送用コロを有する第１シャフトと、駆動部による駆動力を第１シャフトに伝達する第２シャフトと、第１シャフトを着脱可能に支持する支持部材と、第２シャフトに対して第１シャフトを着脱可能に連結する連結部材と、を備えた基板搬送装置に関する。連結部材は、第１シャフト及び第２シャフトにおける径方向に対する位置ズレを許容可能に構成される。 （もっと読む）

【課題】基板保持用枠体は、大型ガラス基板を載置し、複数枚を積層して搬送あるいは保管に用いられ、搬送時の衝撃や振動に対しての強度が求められると同時に発塵による基板への異物付着や傷による製品の品質不良の発生を防止することが求められる。２メートル角程度の大サイズ基板を安全に保管・輸送できる基板保持用枠体等を提供する。
【解決手段】少なくとも対向する２辺の金属枠部１１のそれぞれの上面に、基板保持用枠体１０を懸垂するための複数の開口部１７を有する。 （もっと読む）

【課題】より確実にトレイからリフトアームを用いてガラス基板を離脱させることができる簡素な構成の基板移載装置を提供する。
【解決手段】基板移載装置１Ａは、トレイ１００上に載置されたガラス基板２００をトレイ１００から離脱させることによってガラス基板２００を移載するものであって、トレイ１００の周縁部を開放させた状態でトレイ１００を支持する支持部２０と、トレイ１００の周縁部を下方に向けて撓み変形させることにより、トレイ１００の周縁部とガラス基板２００の周縁部との間に隙間を生じさせる押圧ピン１４と、トレイ１００の周縁部とガラス基板２００の周縁部との間に生じた隙間に側方から挿入されることにより、ガラス基板２００の周縁部を下方から支持してガラス基板２００をトレイ１００から離脱させるリフトアーム１３とを備える。 （もっと読む）

【課題】小型化及びコスト低減を実現した紫外線照射装置及び基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板に対する紫外線照射を行う処理室と、少なくとも処理室内の基板を加熱する加熱機構と、処理室内を脱酸素及び脱水分状態に保持するように処理室内に気体を供給する気体供給部と、紫外線照射装置内に基板の搬入を行うための基板搬入口と処理室との間に少なくとも設けられ、処理室に連通されることで処理室内を所定雰囲気に維持する予備室と、を備えた紫外線照射装置に関する。 （もっと読む）

【課題】搬送機構及び反転機構が各々独立したチャンバーに設けられているため、チャンバーの数が複数必要となり、設置面積が大きくなる。
【解決手段】、基板搬送装置１は、基板９０を搬送方向へ移動させる搬送機構２と、基板９０の上下を反転させる反転機構３と、を具備し、搬送機構２は、基板９０を搬送方向へ摺動させる搬送アーム１４を備え、反転機構３は、基板９０を反転させる際に上方向から抑える上部チャック３４と、基板９０を反転させる際に下方向から支持する下部チャック３５と、上部チャック３４及び下部チャック３５を上下方向に回動可能に軸支する回動軸３２とを備え、搬送機構２及び反転機構３は一つの支持台５に固定支持される。搬送機構２及び反転機構３が同一チャンバー内に設けられることにより必要なチャンバーの数を少なくし、配置するための面積を小さくすることができる。 （もっと読む）

【課題】板材の受け渡しの際に、板材が滑ることのない板材の搬送システムを提供する。
【解決手段】第１送出装置１０から第２送出装置１１へ板材１０１が受け渡される前においては、第１送出装置１０は搬送部２０と加圧部４０の流体１０４とによって板材１０１を挟むように保持しながら搬送するとともに、第２送出装置１１の搬送部２０は板材１０１と接触しないようにし、第１送出装置１０から第２送出装置１１へ板材１０１が受け渡された後においては、第２送出装置１１は搬送部２０と加圧部４０の流体１０４とによって板材１０１を挟むように保持しながら搬送するとともに、第１送出装置１０の搬送部２０は板材１０１と接触しないように構成されている。 （もっと読む）

【課題】薄板状ワークがより薄くても、この薄板状ワークに移動力を確実に伝えて滞りなくそして蛇行なく安定して搬送することが可能である薄板状ワーク搬送装置及び薄板状ワーク搬送方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板Ｗの下面に空気を吹き付けて非接触状態で支持するエア浮上ユニット２と、ガラス基板Ｗの下面に接触してワーク搬送方向の移動力を付与する搬送ローラ３７を備え、エア浮上ユニット２は、ガラス基板Ｗの下面に向けて空気を噴出させる多数の空気噴出孔２４ａを有し、且つ、ワーク搬送方向と直交する断面形状が下方に凸の湾曲形状を成すワーク非接触支持板２４を具備し、搬送ローラ３７をワーク搬送方向と直交する方向の中央に配置して、エア浮上ユニット２のワーク非接触支持板２４から上方に突出する周縁部をガラス基板Ｗの下面に接触させてワーク搬送方向の移動力を付与する。 （もっと読む）

【課題】温度の高い比較的大型の搬送対象物を搬送する場合であっても、熱の影響による軸受の摩耗や損傷を抑制すること、熱の影響によるアームの変形を抑制すること、および、ハンドの重量を軽減することが可能な産業用ロボットを提供する。
【解決手段】この産業用ロボットは、搬送対象物が搭載される搭載部２７を有するハンド３と、その先端側でハンド３を保持するアームと、アームの基端側を保持する本体部と、搭載部２７の少なくとも上面を覆うカバー部材３０とを備えている。カバー部材３０における輻射熱の反射率は、搭載部２７における輻射熱の反射率よりも高く、カバー部材３０の熱伝導率は、搭載部２７の熱伝導率よりも低く、搭載部２７の比重は、カバー部材３０の比重よりも小さくなっている。 （もっと読む）

【課題】基板載置装置を用いて基板を位置決め状態で載置する基板載置方法を提供する。
【解決手段】リフトピン８を上昇させるとともに、基板除給材部２０を駆動させて基板１７を作業開始位置に向けて搬入開始するステップと、基板１７を基板テーブル６の作業開始位置の直上に位置させて基板１７の搬入を完了させ、基板保持アーム２１を下降させて基板１７をリフトピン８上に載置するステップと、基板保持アーム２１の後退を開始するとともに第１のカメラ７５ａにより基板１７の位置を検出し第１補正量を計算するステップと、リフトピン８を下降させるとともに、第１補正量に基づき基板１７の位置を補正する第１位置補正ステップと、基板テーブル６に基板１７を吸着するステップと、第２のカメラ７５ｂにより基板１７の位置を検出し第２補正量を計算するステップと、第２補正量に基づき基板１７の位置を補正する第２位置補正ステップと、を含む基板載置方法。 （もっと読む）

【課題】成膜処理の生産性の向上を図ることができ、且つキャリアの洗浄回数を減らすことができる等のキャリアの管理コストの低減に寄与する真空処理装置を提供する。
【解決手段】真空処理装置は、ロードロックチャンバＬＬとプロセスチャンバＰＣの間で移送されるキャリア７と、プロセスチャンバＰＣ内に移送されたキャリア７から基板７を受け取るフック１９を備えており、基板５への真空処理はキャリア７がロードロックチャンバＬＬに退避した後に行われる。 （もっと読む）

【課題】基板を収納する端数カセットを減らし、カセットを格納するストッカー規模を縮小し、更に従来行われていたオペレーターによる端数カセットに収納されていた基板の集約混載、及び生産工程へ投入するロットの基板を集約混載されたカセットから選び出し事前準備することを可能とした在庫管理システム及び在庫管理方法を提供する。
【解決手段】予定管理部と、設定管理部と、ライン管理部と、実績管理部と、カセット情報管理部と、に基づいて端数カセットに格納されている基板を集約混載すると判断または集約混載されているカセットから当該工程へ投入予定の基板を事前準備して当該工程へ投入可能なカセットを用意すると判断する判断部と、カセット搬送指示をストッカー設備に通知するストッカー搬送管理部と、カセット搬送指示に従ってカセット内の基板のソート計画を作成するソート計画部と、を備えたことを特徴とする在庫管理システム。 （もっと読む）

【課題】基板の搬送にともなう浮上環境の変化に速やかに応答し、基板を一定の浮上高さで搬送することができる浮上搬送装置を提供する。
【解決手段】噴出口１１と吸引口１２とが基板Ｗの搬送される方向に複数個ずつ配列された表面を有する浮上ステージ１０と、吸引力供給手段３０と、吸引力供給手段３０と連通する主配管１３と、主配管１３と連通し、それぞれの吸引口１２と連通する分岐配管１５と、主配管１３の途中に設けられた差圧ダンパ２０と、を備える浮上搬送装置であり、差圧ダンパ２０は、主配管１３内と外気とを連通する経路であるマニホールド２１および当該経路を遮断する弁２２を有し、弁２２は、主配管１３内と外気との差圧が弁２２に及ぼす外力によって開閉する動作をとり、差圧の変化に応じて弁２２が動作して開度が変化することにより、所定の差圧を保持することを特徴とする。 （もっと読む）