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Fターム[5F031FA18]の内容

ウエハ等の容器、移送、固着、位置決め等 (111,051) | 移送の形態 (16,275) | 移送時の姿勢 (432) | 垂直,傾斜状態 (272)

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【課題】薄板状ワークがより薄くても、この薄板状ワークに移動力を確実に伝えて滞りなくそして蛇行なく安定して搬送することが可能である薄板状ワーク搬送装置及び薄板状ワーク搬送方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板Wの下面に空気を吹き付けて非接触状態で支持するエア浮上ユニット2と、ガラス基板Wの下面に接触してワーク搬送方向の移動力を付与する搬送ローラ37を備え、エア浮上ユニット2は、ガラス基板Wの下面に向けて空気を噴出させる多数の空気噴出孔24aを有し、且つ、ワーク搬送方向と直交する断面形状が下方に凸の湾曲形状を成すワーク非接触支持板24を具備し、搬送ローラ37をワーク搬送方向と直交する方向の中央に配置して、エア浮上ユニット2のワーク非接触支持板24から上方に突出する周縁部をガラス基板Wの下面に接触させてワーク搬送方向の移動力を付与する。 (もっと読む)


【課題】成膜処理の生産性の向上を図ることができ、且つキャリアの洗浄回数を減らすことができる等のキャリアの管理コストの低減に寄与する真空処理装置を提供する。
【解決手段】真空処理装置は、ロードロックチャンバLLとプロセスチャンバPCの間で移送されるキャリア7と、プロセスチャンバPC内に移送されたキャリア7から基板7を受け取るフック19を備えており、基板5への真空処理はキャリア7がロードロックチャンバLLに退避した後に行われる。 (もっと読む)


【課題】簡単な機構で、ラックギヤとピニオンギヤとを円滑に噛み合わせることができる搬送装置、及びこれを備えた真空処理装置を提供する。
【解決手段】本発明の搬送装置は、基板3を搭載して搬送軌道9上を移動するキャリア20に設けられたラックギヤ7と、ラックギヤ7に噛合する複数のピニオンギヤ5a,5bとを備え、ラックギヤ7は、ピニオンギヤ5aがラックギヤ7の一端で歯合するときに、ピニオンギヤ5bと歯合する箇所のラックギヤ7が高くなるように形成されている。 (もっと読む)


【課題】
各処理室間のゲートバルブ等を設けずに長尺の基板を搬送し、且つ、各処理室を真空に保持し、連続的に成膜処理することである
【解決手段】
基板連続処理装置は、第1組の前処理室,成膜処理室,後処理室の連結可能な連続体からなり、またこの連続体と合体でき得る第2組の前処理密封室,成膜処理密封室,後処理密封室の連結可能な連続体で構成される。また第2組の前処理密封室,成膜処理密封室,後処理密封室には、基板が通過でき得る溝が設けられ、前処理室密封,成膜処理密封室及び後処理密封室にはシールするために、1つ若しくは複数の密封材(Oリング等)を設置するための、密封材用取り付け溝を設置してなる構成により課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】突発故障が発生しても、生産性の高い成膜を行うことのできる薄膜製造装置及び薄膜製造方法、並びに薄膜製造装置のメンテナンス方法を提供することである。
【解決手段】成膜室を有し当該成膜室内で基体に薄膜を成膜する成膜チャンバーの集合である成膜チャンバー群42と、基体を搬送可能な移動チャンバー6と、基体を仮置き可能な基体仮置き装置を3基以上有し、前記移動装置はいずれの成膜チャンバーに対しても基体の受け渡しが可能であり、且つ前記移動装置は前記3基以上の基体仮置き装置に対して基体の受け取りまたは払い出しの少なくともいずれかが可能である薄膜製造装置を提供する。 (もっと読む)


【課題】非磁性金属板等の被吸着部材をコンベアに正確に供給する。
【解決手段】被吸着部材(a)を吸着してコンベア(2)に垂直状態で受け渡し、被吸着部材(a)をコンベア(2)の把持部(6)に把持させる被吸着部材の供給方法において、被吸着部材(a)の吸着に静電チャック部材(9)を用い、この静電チャック部材(9)に電圧を印加することより静電チャック部材(9)で被吸着部材(a)を吸着して上記コンベア(2)の把持部へと送り、被吸着部材(a)が上記コンベア(2)の把持部で把持された直後に電圧の印加を解除して被吸着部材(a)を解放させるようにした。 (もっと読む)


【課題】歪みの発生を抑えつつ基板を搬送すること。
【解決手段】帯状のシート基板FBを搬送する搬送装置30であって、シート基板FBを案内する表面を有し、表面とシート基板FBとの間に液状媒体LQを介してシート基板FBを案内するローラー部材Rを備える。ローラー部材Rは、外周面Ra上のうち支持領域Rbで基板FBの裏面を支持した状態で、基板FBを案内する。この場合、基板FBとローラー部材Rの外周面Raとの間に液状媒体LQが介在しているため、液状媒体LQの表面が基板FBを案内する案内面となる。基板FBが液状媒体LQを介して案内されるため、基板FBとローラー部材Rとの間における摩擦力の発生が抑制される。 (もっと読む)


【課題】処理槽内への基板の降下時及び処理槽内からの基板の上昇(引き上げ)時の双方において、隣接する基板同士の接触や、基板の浮き上がりを確実に防止する。
【解決手段】処理液で満たされた処理槽内に被処理基板を収納したキャリアを浸漬して処理を行う被処理基板の浸漬処理方法であって、キャリアを処理液の表面に対して水平に保持して処理槽内に下降させる降下工程と、キャリアを傾斜させて処理槽内より上昇させる上昇工程と、を実施する。 (もっと読む)


【課題】ウェハ表面に残った水の表面張力によりウェハが貼り付くことを防ぐウェハカセット搬送装置を得ること。
【解決手段】対向する一対の側面の内壁に設けられた複数のリブが形成する複数の保持溝の各々によって、複数のウェハ2を立てた状態で前後に並べて収容するウェハカセットを搬送するウェハカセット搬送装置10であって、ウェハカセット1を把持する把持装置6と、一対の側面と略同じ間隔で二列に配列され、複数の保持溝と同じピッチで配置された複数の歯を有するクシ5と、把持装置6及びクシ5を移動させる移送装置4と、を備え、移送装置4は、把持装置6がウェハカセット1を把持するのに先だって、複数の保持溝の各々において、ウェハ2とリブとの間に歯が挿入されるように把持装置6及びクシ5を移動させる。 (もっと読む)


【課題】 極めて簡単な構成で液中でも半導体基板を安全かつ確実に保持でる半導体基板の保持機構を提供し、さらに、ウエット状態で密着した半導体基板同士を破損することなく自動的に、高速で分離し、保持して搬送することが可能な半導体基板の保持装置とこれを用いた分離装置および分離方法を提供する
【解決手段】チャック本体110に2以上の液体流入口113とこの液体流入口に接続されている中空円筒状のノズル本体120とを有し、前記ノズル本体にはその前端を閉鎖する蓋121とこの蓋から僅かに離れた位置に径方向に向けて開口形成された吐出口122を有し、吐出口から排出された流体の流路に所定角度に傾斜した斜面を有する液流規制部119を有し、前記液流規制部の外周に基板面と平行な平坦部118を有し、前記平坦部の一部領域に半導体基板に接するように突出した保持部材125が配置されている構成の基板保持機構とした。 (もっと読む)


【課題】 基板を傾斜させて搬送する場合においても、基板の裏面のみに適切に処理液を塗布することが可能な塗布装置を提供する。
【解決手段】 処理液吐出パイプ30は、搬送ローラ10により搬送される基板100が塗布ローラ20に到達する前に、基板100の下方側で、かつ、搬送ローラ10による基板100の搬送方向の上流側から、塗布ローラ20の表面に向けて処理液を吐出する。そして、搬送ローラ10により搬送される基板100の後端が塗布ローラ20に到達する前に、処理液吐出パイプ30からの処理液の吐出が停止される。 (もっと読む)


【課題】パーティクルの発生を抑制可能な搬送装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る搬送装置は、チャンバと、チャンバ内の経路に沿って移動可能な基板支持体と、基板支持体上に直線的に並べられた複数のラック磁石を有する第1磁気ラックと、複数のピニオン磁石を有する、回転軸に対して回転可能な第1磁気ピニオンであって、第1磁気ラックの一方の側に配置され、第1磁気ラックとの間に回転軸方向で磁気結合された第1磁気ピニオンと、チャンバに固定して設けられ、基板支持体を移動可能に支持する支持部材とを備え、第1磁気ピニオンを回転することにより、基板支持体を移動させる。 (もっと読む)


【課題】インゴットをスライスして形成されるウエハを1枚ずつ分離して、ウエハの表裏面を容易かつ均一に洗浄可能にするウエハの分離装置の提供。
【解決手段】支持台Cに接着剤により貼着されたインゴットが支持台Cの一部まで含めて短冊状にスライスされて形成されたウエハWを、当該ウエハWが支持台Cにぶら下げられた状態で保持するホルダ20と、ウエハWを1枚ずつ吸着して、支持台Cの部分で分離するための分離ハンド22とを含む分離装置2である。 (もっと読む)


【課題】空気の巻き込みによる基板の位置ずれを防止できる基板載置装置を提供する。
【解決手段】基板10を載置する基板載置装置100は、基板10を保持するステージ30と、ステージ30に設けられ、基板10を吸着する真空チャック31とを備える。真空チャック31は、ステージ30の表面30sに配列された吸着孔32を有しており、真空チャック31は、ステージ30の一端30aから他端30bに向けて基板10の吸着を実行する。 (もっと読む)


【課題】ボートの傾きの矯正機構を低コストに提供する。
【解決手段】この発明のウエハ搬送装置1は、ボート2の中心から近い内側に第1接点31よりも周長が長い第2接点32を有し、両車輪3L,3Rの高さが等しくボート2が略水平なときは、両車輪3L,3Rとも第1接点31でボート受け4の走行面41に接して回転し、一方の車輪3Rが下方で、他方の車輪3Lが上方となるようにボート2が傾いたとき、一方の車輪3Rが第1接点31でボート受け4の走行面41に接して回転するとともに、他方の車輪3Lが第2接点32でボート受け4の走行面41に接して回転する。 (もっと読む)


【課題】基板を保持するキャリアのクリーニングを行わなわずとも、高品質な被膜を基板に対して成膜することが可能であり、かつ、効率的な成膜を可能とする成膜装置を提供する。
【解決手段】基板Wがキャリア21からヒータ(アノードユニット)90に移載された後、キャリアは成膜室11から搬出される。基板をヒータに渡した後のキャリアは、成膜中は、仕込・取出室内で待機すればよい。この後、成膜室と仕込・取出室とを隔てるドアバルブを閉状態にする。 (もっと読む)


【課題】ガラス板の一方の主面に部材を接触させることなくガラス板を搬送することができる搬送装置及び搬送方法を提供する。
【解決手段】搬送装置1は、移動可能な台座部10に対して上下方向に変位可能に設けられており、上方に向かって開口する第1の凹条部24aを有する第1の保持部24と、第1の保持部24の上方において、第1の保持部24に対して上下方向に変位可能に設けられており、下方に向かって開口する第2の凹条部32aを有する第2の保持部32とを備えている。第2の保持部32は、下方に向かって台座部10側に傾斜する第1の壁部32a1と、第1の壁部32a1に対して台座部10とは反対側に位置し、第1の壁部32a1と共に第2の凹条部32aを構成している第2の壁部32a2とを有する。第1の壁部32a1は、第2の壁部32a2よりも下方に位置している。 (もっと読む)


【課題】基板をトレイに移載するトレイ搬送ユニットから搬送部へトレイを移送するときに、基板の移載および搬送部への搬送が、スムーズに行われることが可能な基板の搬送装置を提供することを目的とする。
【解決手段】トレイに基板を移載する基板移載部と、基板移載部からロードロック室へトレイを搬送する搬送部と、基板移載部に配設した第一のトレイ搬送ユニットと、搬送部に配設した第二のトレイ搬送ユニットおよび第三のトレイ搬送ユニットと、基板搬送を制御する制御手段と、を有し、第一のトレイ搬送ユニットは、予め前記制御手段に記憶された第一のポジションと、第二のポジションと、第三のポジションとのいずれかに、前記第一のトレイ搬送ユニットに設けた回動軸を中心に回動可能であり、制御手段により各ポジションに回動させる。 (もっと読む)


【課題】ステータ表面と永久磁石表面の間隔を縮小してリニアモータ効率を向上することができる基板搬送装置を提供する。
【解決手段】永久磁石42と駆動磁石41の間に配置され、永久磁石42が配置されている空間を真空雰囲気に、駆動磁石41が配置されている空間を大気圧雰囲気に隔てる真空隔壁45は、永久磁石42と対向する部分が大気圧雰囲気側に凸に湾曲した断面形状を有し、永久磁石42及び駆動磁石41はいずれも、真空隔壁45と所定の距離を保つように真空隔壁45と対向する部分が湾曲している。このため、真空隔壁45の最大たわみ量を小さくすることができ、永久磁石42と駆動磁石41の距離を縮めることができる。 (もっと読む)


【課題】電圧印加手段から電圧が印加される給電部材の弾性の劣化やヘタリを評価することができる。
【解決手段】基板処理装置は、搬入口と搬出口を有するチャンバ85と、チャンバ内にガスを供給するガス供給手段12と、ガスをプラズマにするためのプラズマ発生手段と、基板を保持する基板ホルダ20と、搬入口から搬入され、搬出口へと基板ホルダを保持しながら搬送するキャリア2と、基板ホルダ20に電圧を印加するための電圧印加手段16と、給電部材13を可動して、該給電部材を基板ホルダ20に接触又は非接触させることにより、電圧印加手段16からの電圧を供給するための駆動手段18と、給電部材13に流れる電流を測定する電流測定手段17と、を備えることを特徴とする。 (もっと読む)


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