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Fターム[5F031GA41]の内容

ウエハ等の容器、移送、固着、位置決め等 (111,051) | 移送装置、手段 (13,292) | アーム部 (5,670)

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【課題】
露光工程のタクトタイムを短縮することができる露光装置を提供する。
【解決手段】
搬送中に露光される基板Pが載置されるステージ1と、前記ステージ1の中間に設けられ、前記基板Pを露光する露光手段2と、前記露光手段2より基板1の搬送方向の手前側のステージ12と奥側のステージ13との間を往復し、前記手前側のステージ12上に載置された基板Pを前記奥側のステージ13上に搬送する搬送手段3と、を含んで構成され、前記搬送方向の手前側のステージ12上には複数枚の基板Pが搬送方向と平行な列を成して載置され、前記搬送手段3は、前記手前側のステージ12上に載置された複数枚の基板Pを同時に搬送し、前記露光手段2は、搬送手段3により搬送中の基板Pを露光する露光装置である。 (もっと読む)


【課題】ワークの板厚が薄く形成されたとしても、簡易な構成で、ワークの利用部位を非接触状態に維持したまま安定してチャックできる。
【解決手段】チャック装置1は、ワークWと対向する本体2と、本体に配され、ワークと接触する突出部3と、本体と突出部とワークとで囲繞される囲繞空間Nから気体を吸引する吸引手段5と、ワークまでの相対距離dを測定する測定センサ6と、相対距離に基づいて、相対距離が所定の目標値で安定化するように吸引手段の吸引力を制御する吸引制御部7と、を備える。 (もっと読む)


【課題】基板の位置決め精度が向上すると共に、プロセスへの影響が低減する基板の載置構造及び基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板を内側に収容する複数の貫通孔と、貫通孔の内壁の3箇所に突設され、基板を上面に保持する保持部とを備える基板トレイと、貫通孔に対応して突設された複数の載置台11と、保持部に対応して、載置台11の外周部分の3箇所に形成され、保持部を収容する切欠部13とを備える載置板10とを有し、基板トレイを載置板10上に載置すると、貫通孔の内側に載置台11が配置されて、基板が載置台11の上面に各々載置される基板の載置構造において、載置台11の外径を基板の外径より大きくすると共に、大きくした載置台11の外周部分に基板の外縁を案内するガイド12を設けた。 (もっと読む)


【課題】 収納ケースから基板を受取って搬送し、且つ位置決めすることができる搬送システムを提供する。
【解決手段】 搬送システム1は、収納ケース12と、昇降装置13と、受渡装置14と、搬送装置15とを備えている。昇降装置13は、収納ケース12を昇降させてその中の各基板11を順に受取位置に位置させる。受渡装置14は、受取位置の基板11を受取って受渡位置にて搬送装置15に渡す。搬送装置15は一対のベルト51,51を有している。一対のベルト51,51は、左右方向に間隔をあけて設けられ、そこには複数のプロファイル54が互いに対応付けて夫々設けられている。対応付けられたプロファイル54は、搬送方向に一緒に移動し、また受渡位置にて渡された基板11の外縁部を支持し且つその基板11を規定位置へと位置決めするよう構成されている。 (もっと読む)


【課題】EUV露光装置内でのウェハー割れを防ぐ薬液塗布装置を提供すること。
【解決手段】実施形態の薬液塗布装置101は、基板の主表面上に薬液を塗布する薬液塗布ユニット102と、前記基板の裏面全体への異物の付着状態を検査する検査ユニット104と、前記検査ユニット104による検査結果に基づいて前記基板を良品として外部に搬出するか否かを判定する制御ユニット114と、を備える。 (もっと読む)


【課題】コンパクトな構成でワークを汚すことなく搬送することができるワーク搬送装置及びワーク加工装置を提供する。
【解決手段】移動可能な第1アーム60には、ウェーハ把持機構72と、第1吸着保持機構74とが備えられる。また、移動可能な第2アーム66には、トレイ76と位置決め機構78と、第2吸着保持機構80とが備えられる。カセットCに格納されたウェーハWは、縁部をウェーハ把持機構72に把持されてカセットCから引き出され、トレイ76の上に載置される。トレイ76に載置されたウェーハWは、位置決め機構78によって位置決めされた後、第1吸着保持機構74によって吸着保持されて、ワークテーブル30に搬送される。加工後、ウェーハWは第2吸着保持機構80に吸着保持されて、ワークテーブル30から回収され、ワーク洗浄装置56に搬送される。 (もっと読む)


【課題】搬送ロボット等により吸着された反りのあるウェーハでも破損させることなく収納する。
【解決手段】ウェーハ収納カセット10であって、ウェーハWの周縁部W1を厚さ方向両側から押圧可能なウェーハ固定板11とウェーハ固定板をウェーハ厚さとなる方向に略平行状態に移動可能とする位置規制手段とからなり、ウェーハ固定板には収納するウェーハ口径に対応してウェーハ周縁部以外にウェーハ固定板が当接しないように開口部11cが設けられ、位置規制手段は、複数のウェーハ固定板に設けた貫通孔11a,11bを貫く位置規制棒15,16と、隣接するウェーハ固定板にそれぞれ両端が回動可能に接続されたリンク棒12,13とを有し、ウェーハの搬出入時にはウェーハの両側のウェーハ固定板の間隔を広げ、ウェーハの収納時にはウェーハ固定板でウェーハを押圧してウェーハの反り変形を矯正する。 (もっと読む)


【課題】絶縁性基板などの半導体部品の受け渡しの際、特にその搬送アームから該絶縁性基板などを分離する際の剥離帯電の問題を簡単な構成により解消することができ、しかも、加湿空気の噴き付けによる除電に伴う結露や異物の付着といった弊害を招くことのない基板処理装置を得る。
【解決手段】スパッタ処理の対象となる絶縁性基板W5を搬送する基板搬送装置100において、該絶縁性基板を載置して一枚ごと搬送するセラミックなどからなる搬送アーム151を備え、該搬送アーム151は、その基板載置部の表面を、絶縁性基板W5と該基板載置部との接触面積が小さくなるよう微細な凹凸形状にし、さらに、搬送アーム151を構成するセラミック材料の表面に導電樹脂を導電性コート膜151aとしてコートした構造を有している。 (もっと読む)


【課題】ボート上におけるウェーハの多様な配列に対応でき、複数枚のウェーハ保持プレートを用いてウェーハの移載を行うことにより、ウェーハ移載時間が短縮できるウェーハ移載機およびウェーハ移載方法を提供する。
【解決手段】少なくとも第1のスライダ、第2のスライダおよび第3のスライダとを備え、第1のスライダを水平移動させ、第1のスライダに、第2のスライダ、あるいは第2のスライダおよび第3のスライダを一緒に動くように連結し、第2のスライダ、あるいは第2のスライダおよび第3のスライダを連結機構で連結することによって、ウェーハ保持プレート上のウェーハを1枚、2枚あるいは5枚同時にボートに移載する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、搬送機構の搬送先の位置調整を単純な構成で低コストにできる基板処理装置の調整方法を提供する。
【解決手段】
調整工程においては、ピン75に代えて、治具100を使用する。治具100は、取付穴72aにはめ込むことが可能な直径6mmの円筒形の胴部101と、その胴部101と同軸に形成された直径8mmの円筒形の頭部102とからなる。ウエハWがサセプタ72上に載置されるべき正しい位置から外れて載置されたときにはそのウエハWと治具100が接触するので、オペレータはハンドHがウエハWを治具100に接触せずに載置できるように、ハンドHの位置等を調整する。 (もっと読む)


【課題】吸着状態の誤判断を防ぐことができる吸着装置、当該吸着装置を備えた気相成長装置、および吸着方法を提供すること。
【解決手段】本発明では、吸着部16を構成する各吸着パッド(図示せず)には、流量センサ66が接続されており、個々の流量センサ66は、各吸着パッドとポンプ82との間の空気の流量を測定する。また、全体用流量センサ62は、吸着部16とポンプ82との間の空気の流量を測定する。制御部54では、個々の流量センサ66および全体用流量センサ62の測定値に応じて、流量センサ66の測定値の閾値を変更する。変更した閾値に基づいて、吸着部16の吸着状態の判定を再度行うことによって、実際には基板トレイ32を吸着しているにも拘らず、基板トレイ32を吸着していないと誤判断されてしまうのを防ぐことができる。 (もっと読む)


【課題】基板移載時の基板支持姿勢を安定させることで高スループット化に寄与する基板支持装置を提供する。
【解決手段】本発明に係るエンドエフェクターは、センタ孔9aを有する基板を鉛直姿勢で支持するものであり、進退方向及び上下方向の動作を駆動源よって制御されるアーム部材6aと、アーム部材6aに取り付けられ、基板9を支持する係止機構6bとを備え、係止機構6bは、センタ孔9a内側の縁部分が載せられる、上方に開放された窪み状の支持溝32が形成された支持ブロック8を有する。また、支持溝32は、センタ孔9a内側の縁部分と4箇所の接点31で接した状態で、鉛直姿勢の基板9を支持することができるため、基板支持姿勢を安定させることができる。 (もっと読む)


【課題】半導体搬送装置が外部ユニットにアクセスするときに発生する恐れのある気流の乱れ、それによるウェーハへの異物の付着を抑制する。
【解決手段】ファンフィルタユニット4からのダウンフローによって、半導体搬送装置2内の風量は矢印24のようになる。半導体製造装置1のチャンバー内の状態によって、シャッター22を開けたときに気流が乱れ、矢印25,26,27の気流が生じ、その影響でウェーハカセット5内のウェーハ6を汚染するおそれがある。そこでロボットアーム29の上面及び下面に風量測定器23を設け、気流の乱れ25,26を検出して、シャッター21を閉じることで、ウェーハ6に異物が付着することを防止する。 (もっと読む)


【課題】真空雰囲気と大気雰囲気とを切り替える真空室内における異物低減とスループット向上を両立できる真空処理装置を提供する。
【解決手段】複数のプロセス処理装置、該プロセス処理装置のそれぞれに試料を搬送するための真空搬送室、真空搬送室内に設置され試料の搬送を行う真空搬送ロボットと、大気中で、複数の試料を収納したカセットを備え、カセット内に収納された試料を搬送するための大気搬送室、該大気搬送室内に配置され試料の搬送を行う大気搬送ロボットと、前記真空搬送装置と大気搬送装置との間に配設されたロック室とを備えた真空処理装置において、前記真空処理装置を構成する室は、ベント用バルブ207を介して乾燥ガスを供給するガス供給路209とロック室内の湿度を検出する湿度センサ211を備え、真空排気に際して湿度が所定値以下となるまで前記ベント用バルブを開いて乾燥ガスを供給して、液体微粒子の発生を抑制する。 (もっと読む)


【課題】処理媒体を用いて物体の表面を処理するための処理装置を提供すること。
【解決手段】処理装置1は、物体2を保持するための保持デバイス5と、保持デバイス5に結合される回転駆動部6と、物体の表面21に対して第1の処理媒体31及び第2の処理媒体32を供給するための供給デバイス7とを備え、分離要素80を有する収集コンテナ8を備える。分離要素80は、収集コンテナ8を第1のチャンバ81及び第2のチャンバ82に区分する。第1の処理媒体31は、第1のチャンバ81内に収集され、第2の処理媒体32は、第2のチャンバ82内に収集される。収集コンテナ8は、保持デバイス5に対して変位不能なベース・チャンバ部分800を備え、分離要素80は、第1の処理媒体31を第1のチャンバ81内に送る第1の位置Aと、第2の処理媒体32を第2のチャンバ82内に送る第2の位置Bとの間で移動可能である。 (もっと読む)


【課題】形状が互いに異なる複数種類の板状の被搬送物を安定して吸着保持・搬送するための搬送システム、搬送方法および薄膜形成装置を提供する。
【解決手段】搬送システムは、第1の被搬送物2および第2の被搬送物3を載置可能な回転テーブル4と、被搬送物に接触する吸着面に吸着孔を有する吸着部材40と、吸着部材40を回転テーブル4の径方向に移動可能な移動機構21とを有する。そして、前記吸着孔内の気圧を下げることで被搬送物を前記吸着面に接触させた状態で吸着可能であり、前記被搬送物2の外面で前記吸着孔が吸着可能な第1の吸着可能領域の形状と、前記被搬送物3の外面で前記吸着孔が吸着可能な第2の吸着可能領域の形状とを重ね合わせて重複する領域から求められる第1の重心と、前記吸着孔の開口領域の第2の重心とが、吸着部材40で被搬送物2または被搬送物3を吸着する場合のいずれにおいても略同一の垂線上にある。 (もっと読む)


【課題】 成膜装置の搬送路に複数の基板ホルダを保管する基板ホルダ保管室を設けることにより、基板ホルダの表面に堆積した膜の除去の工程および基板ホルダの交換工程、または膜の除去の工程若しくは基板ホルダの交換工程に影響を受けることなしに基板の生産を効率的に行うことができる成膜装置及び成膜装置用ストックチャンバーを提供すること。
【解決手段】真空状態に連結した複数の真空チャンバー、前記複数の真空チャンバー内に設けられた搬送路、前記搬送路に沿って移動可能に設けた複数の基板ホルダ、前記基板ホルダを移動させる駆動手段、前記搬送路からの基板ホルダの回収、及び/又は前記搬送路への基板ホルダの供給が可能であり、かつ前記複数の真空チャンバーの一つと連結したストックチャンバー、を備え、前記ストックチャンバーは、基板ホルダを回転機構の中心軸の周りに垂直の状態で配置可能な構成とした。 (もっと読む)


【課題】 アルカリ成分がオゾン洗浄液に混入することを抑制して、オゾン洗浄能力の低下が抑制できる洗浄方法を提供する。
【解決手段】 チャック部材で、予めオゾン洗浄槽内のオゾン洗浄液に浸漬していた他の被処理物を保持するに先立ち、搬送アームの一部およびチャック部材に付着したアルカリ成分を洗浄除去して、アルカリ成分がオゾン洗浄液に混入するのを抑制することを特徴とする洗浄方法。 (もっと読む)


【課題】基板移載装置による基板の移載を適確に行うことができる基板搬送設備の提供。
【解決手段】基板を出し入れする出し入れ口及び基板を上下方向に間隔を隔てる状態で複数枚収納可能な基板収納空間を備えた容器本体3と、その容器本体3を載置支持可能で且つ容器本体3を載置支持した状態で基板収納空間に清浄空気を送風するファンフィルタユニットを備えた載置支持部材4とを備えた基板用収納容器2、容器本体3を載置支持した載置支持部材4を支持台8に対して上方から載置支持させる形態で基板用収納容器2を支持台8に搬送する容器搬送装置、及び、基板用収納容器2を支持台8に載置支持させた状態で容器本体3に直接に当接することにより、容器本体3の水平方向での位置を基板移載装置が出し入れ口を通して基板を移載するための基板移載用位置に調整する位置調整手段51を設ける。 (もっと読む)


【課題】マスクブランクを大気に曝すことなく描画から熱処理までを行うことができるフォトマスクの製造装置を提供する。
【解決手段】描画手段100の真空状態にある描画チャンバ100a内でフォトレジスト塗布後のマスクブランク上にパターン像を描画する。描画後のマスクブランクを真空状態に保持された真空搬送路105内を通して熱処理手段110の真空状態にある熱処理チャンバ110a内に搬送する。そして、熱処理チャンバ110a内に搬送された描画後のフォトレジストを加熱しベーキングする。これにより素子精度・安定性およびパターン荒さを向上させ、抜け不良を低減させ、孤立スペースパターンの解像度を向上させる。 (もっと読む)


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