【課題】基板保持用枠体は、大型ガラス基板を載置し、複数枚を積層して搬送あるいは保管に用いられ、搬送時の衝撃や振動に対しての強度が求められると同時に発塵による基板への異物付着や傷による製品の品質不良の発生を防止することが求められる。２メートル角程度の大サイズ基板を安全に保管・輸送できる基板保持用枠体等を提供する。
【解決手段】少なくとも対向する２辺の金属枠部１１のそれぞれの上面に、基板保持用枠体１０を懸垂するための複数の開口部１７を有する。 （もっと読む）

【課題】セラミックス等の脆性部材で構成された基板保持部材を備えた基板搬送装置において、破損した場合に破片の飛散を抑えること。
【解決手段】多関節アームの最上段の基板保持部材２の基体としてセラミックスからなるフォーク状の板状体を用いる。この板状体の周縁に沿って板状体の中に埋設した状態で延性部材である金属線５を配置する。また板状体の裏面側に延性部材である樹脂フィルムを貼着するようにしてもよい。このような構成では、基板保持部材が構造物に衝突し破損した場合にも、金属線によって破片を繋ぎ止めることで、破片の飛散防止あるいは抑制をすることができる。 （もっと読む）

【課題】空気の巻き込みによる基板の位置ずれを防止できる基板載置装置を提供する。
【解決手段】基板１０を載置する基板載置装置１００は、基板１０を保持するステージ３０と、ステージ３０に設けられ、基板１０を吸着する真空チャック３１とを備える。真空チャック３１は、ステージ３０の表面３０ｓに配列された吸着孔３２を有しており、真空チャック３１は、ステージ３０の一端３０ａから他端３０ｂに向けて基板１０の吸着を実行する。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ・プロセスを評価し、かつ制御するための方法、システムを提供する。
【解決手段】リソグラフィ・プロセス（１６）中にウェハ上に配置されたレジストの少なくとも１つの特性を測定する（２２）ことを含むことができる。リソグラフィ・プロセスのクリティカルな測定基準には、それだけには限られないかもしれないが、リソグラフィ・プロセス（３２）中に形成されたフィーチャのクリティカル寸法を含むことができる。本方法はまた、リソグラフィ・プロセスのステップを実行するように構成されたプロセス・モジュール（３６）の少なくとも１つのパラメータを変更し、クリティカルな測定基準（４６）のウェハ内変動を低減することを含むことができる。プロセス・モジュールのパラメータは、レジスト（１６）の少なくともその１つの測定された特性に応答して変更することができる。 （もっと読む）

【課題】極薄のウェーハを安全、簡単、確実かつ迅速に単離させることができ、かつ従来と比べて処理スピードが改善されたウェーハ単離方法及びウェーハ単離装置を提供する。
【解決手段】多数枚又は複数枚のウェーハが積層されたウェーハ積層体を液体中に浸漬させて準備するステップと、前記最上層のウェーハの一端部を吸着し、前記最上層のウェーハの他端部は吸着せずにおさえ、前記最上層のウェーハを水平方向で傾斜させる吸着ステップと、前記最上層のウェーハの下面と隣接する下側のウェーハの上面との間に流体を吹き込む流体吹き込みステップと、前記傾斜させた最上層のウェーハを、その傾斜の延長線上に沿って変位させて液中から前記最上層のウェーハを取出せしめるウェーハ変位ステップと、を含み、ウェーハを単離するようにした。 （もっと読む）

【課題】本発明は、搬送装置のメンテナンス作業を効率よく行うことができる搬送装置のメンテナンス方法を提供する。
【解決手段】 マスクケース搬送装置（２９）のメンテナンス方法は、ＣＺ軸駆動部（２６）によってケース保持部（２３）を上下方向の第１位置に配置する工程（Ｓ１０２）と、最上段、最下段および中央段に設けられた複数のＣＺ軸駆動部２６のカバー部材のうち第１位置に配置されたケース保持部と異なる高さに位置するカバー部材を取り外す第１取り外し作業を行う工程（Ｓ１０６）と、第１取り外し作業後に取り外されていない複数の前記カバー部材のうち第１位置に配置されたケース保持部と異なる高さに位置するカバー部材を取り外す第２取り外し作業を行う工程（Ｓ１０７）と、を含む。 （もっと読む）

【課題】ベルヌーイチャックで基板を吸引保持するときのハンド部の位置精度を緩やかなものとしながら、吸引保持した基板の位置決めを基板自身で自動的に行なって、非接触状態での基板の移載を高速度で能率よく行なえる移載装置を提供する。
【解決手段】パラレルメカニズムのハンド部に、基板を非接触状態で吸引保持するベルヌーイチャックと、基板を位置決めする複数個のガイド体とを設ける。基板を吸引する際には、吸引開始位置におけるベルヌーイチャックをハンド部で位置保持して、ガイド体が基板の外郭線の外に位置する状態にして基板を吸引保持する。吸引保持された基板を、ノズル穴から吹き出される空気流で一方向へ旋回させ、旋回変位する基板の辺部をガイド体で受け止めて位置決めする。以上により、基板を吸引保持するときのハンド部の位置精度を緩やかにできる。さらに、吸引保持した基板の位置決めを基板自身で自動的に行なえる。 （もっと読む）

【課題】構造を簡易にでき、占有面積を小さくできる枚葉式の基板搬送装置を提供すること。
【解決手段】枚葉式の基板搬送装置５は、第１枚葉ハンド４５、第２枚葉ハンド４６、第１進退機構、第２進退機構、一体移動機構、相対移動機構、および枚葉ハンド移動機構を備えている。第１進退機構は、第１水平方向Ｄ１に向かって第１枚葉ハンド４５を進退させることができ、第２進退機構は、第１水平方向Ｄ１と正反対の第２水平方向Ｄ２に向かって第２枚葉ハンド４６を進退させることができる。一体移動機構は、第１および第２枚葉ハンド４５，４６を鉛直方向に一体移動させることができ、相対移動機構は、第１および第２枚葉ハンド４５，４６を鉛直方向に相対移動させることができる。枚葉ハンド移動機構は、第１および第２枚葉ハンド４５，４６をＸ方向に一体移動させることができる。 （もっと読む）

【課題】装置の設置床面から低い位置で基板を搬送するとともに、装置全体を簡単な構造にすることができる基板搬送装置を提供することを課題とする。
【解決手段】基板搬送装置１であって、ハンド部材３０と、上下スライド機構４０と、横スライド機構５０と、を備え、上下スライド機構４０は、旋回ベース部材２０に取り付けられた上下スライド用固定レール４１と、上下スライド用固定レール４１に取り付けられた横スライド用可動レール４２と、を備え、横スライド機構５０は、旋回ベース部材２０に取り付けられた横スライド用固定レール５１と、横スライド用固定レール５１に取り付けられた上下スライド用可動レール５２と、を備え、上下スライド機構４０はハンド部材３０に対して一方の側部に配設され、横スライド機構５０はハンド部材３０に対して他方の側部に配設されている。 （もっと読む）

【課題】基板搬送用ロボットにおいて、基板を目的位置へ搬送する場合の搬送経路の選択肢を増やし、これにより搬送時間の最短経路を選択することを可能にさせる。
【解決手段】基板搬送用ロボットのコントローラが、複数の教示位置が教示された際、教示位置の各々に対するアクセス待機位置１１を生成し、アクセス待機位置１１から基板搬送用ロボットの最小旋回姿勢１２までの複数の経路を生成して記憶する。 （もっと読む）

【課題】 対象物を雰囲気ガス環境下で熱処理する際に、対象物に損傷を生じることなく、熱処理後の対象物を短時間で冷却することが可能な技術を提供する。
【解決手段】 本発明は対象物を雰囲気ガス環境下で熱処理する熱処理装置として具現化される。その熱処理装置は、対象物と雰囲気ガスを収容する搬送容器と、搬送容器を加熱する加熱装置と、搬送容器を冷却する冷却装置を備えている。この熱処理装置では、加熱装置から冷却装置へ搬送容器を搬送する際に、搬送容器の内部に収容された対象物が搬送用の治具と接触することがない。従って、熱処理が施された直後の高温の対象物が常温の搬送用治具と接触して、対象物に熱ショックによる損傷が発生する事態を未然に防止することができる。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板とその保護シートの高速搬送を実現し、併せて、高精度で高品質の積載梱包を達成する。
【解決手段】ガラス基板梱包装置は、保護シート３上にガラス基板４が載置される載置ステーションと、保護シート３とガラス基板４とを交互に積載する積載ステーションと、保護シート３上に載置されたガラス基板４を保護シート３と共に保持し、積載ステーションに積載する積載手段としてのガラス基板積載装置とを備える。ここで、ガラス基板積載装置を構成するロボットアームは保護シート３およびガラス基板４を保持する保持部４３を有し、この保持部４３は、ガラス基板４を吸着する複数の吸着パッド４５と、載置された状態のガラス基板４からはみ出た保護シート３の辺縁部分のうち互いに対向する２つの辺縁部３ａ，３ｂを挟持する挟持部４６とを有する。 （もっと読む）

【目的】シリコンウェハとホルダの貼り付きを防止することが可能な気相成長装置および方法を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様のエピタキシャル成長装置１００は、シリコンウェハ１０１を載置する円盤部材１１２と、円盤部材１１２表面にシリコンウェハ１０１を密着させた状態で、シリコンウェハ１０１が載置された円盤部材１１２を搬入し、シリコンウェハ１０１にシリコン（Ｓｉ）含有膜を成膜するチャンバ１２０と、チャンバ１２０内で、シリコンウェハ１０１が載置された円盤部材１１２の裏面外周部を支持するホルダ１１０と、シリコンウェハ１０１を回転させる回転部材１７０と、を備えたことを特徴とする。本発明によれば、シリコンウェハとホルダとの貼り付きを防止することができる。 （もっと読む）

【課題】積み動作時と卸し動作時とでフォークのストロークを変えることにより、置台でのワークの位置ずれをなくし、置台側のガイドとの擦れによる発塵を防止するようにした移載機のフォークストロークの補正方法を提供すること。
【解決手段】ベース１からフォーク２を横方向に移動させるアーム３と、アーム３のベース１を昇降させる昇降装置４とを備え、積み動作時にワークＷの積載によりフォーク２が傾斜状態から水平状態になる移載機のフォークストロークの補正方法において、フォーク２が傾斜状態から水平状態になることにより変位するフォーク２のずれ量ΔＳを検出し、積み動作に続く卸し動作でずれ量ΔＳだけフォークストロークを短くする。 （もっと読む）

【課題】許容値を越えた位置ずれに対しても適切に処置することができ、しかも、ウエハ異常およびセンサ異常にも適切に対応することが出来る半導体処理装置を提供する。
【解決手段】真空ロボット回転時のウエハの遮光角度を検出するθ軸センサ、及び、真空ロボット伸縮時のウエハの遮光距離を検出するＲ軸センサの出力に基づいて、ウエハの真空ロボットに対する位置補正量を求め、位置補正量が所定の規格値を外れていた場合に位置データの変更動作を行い、更に所定の許容値を外れていた場合は動作停止を行う。また、真空ロボットハンドとウエハの状態を確認し、問題なければリトライ動作にて位置データの変更動作を行う。また、距離データが所定の規格値を越えていた場合には位置ずれ警告として上位装置に警告を報告し、更に所定の許容値を越えた場合には位置ずれエラーとして動作停止を行う。 （もっと読む）

【課題】収容棚に収容された収容器搬送するのに必要となる搬送時間を低減させたまま、複数の収容棚を完全に同期させて、収容器を搬送することができる収容器搬送装置を提供する。
【解決手段】棒状部材６５を係合部材７１で係合させ、エアシリンダ６１で最上部の変位収容棚２５ａを移動させると、その棒状部材６５が延出されたその他の変位収容棚２５ｂが最上部の変位収容棚２５ａに連動して変位する。したがって、一つのエアシリンダ６１の駆動でその他の変位収容棚２５ｂを連動して変位させることができるので、複数の変位収容棚の移動を完全に同期させることができる。また、変位収容棚が変位して形成された空間を通して、搬送ロボットが固定棚列からＦＯＵＰをオープナーの載置棚へ搬送するので、ＦＯＵＰを搬送するのに必要な搬送時間を低減させたまま、ＦＯＵＰを搬送することができる。 （もっと読む）

【課題】磁極の固定に起因する雰囲気汚染を回避しながらも、ロボットに必要な剛性を確保でき且つ信頼性の高い，大気外の雰囲気中で用いられるダイレクトドライブモータ及びスカラーロボットを提供する。
【解決手段】直列的に連結された３段のブラシレスモータＢＭ１において、ステータ２９と、大気軸受装置３３と、大気側回転子３０と、角度検出器３５，３６と、モータ回転子２１と、真空軸受装置１９のうち少なくとも２つを、モータ軸線方向において互いに少なくとも一部が重合する位置に配置しているので、コンパクトな構成ながら、高い剛性を確保することができる。 （もっと読む）

【課題】基板に付着している大気の成分を除去する。
【解決手段】ロードロック室に基板が搬入されると、ロードロック室の中は、まず排気され、その後パージガスが導入されて圧力が上昇する。そしてロードロック室は再び排気される。これにより、基板上に付着している大気の成分は除去される。その後、基板はロードロック室から処理室に搬送され、処理室の中で処理される。基板を処理する工程は、例えば大気に含まれる成分と反応するガスを用いて基板に膜を成膜する工程である。 （もっと読む）

【課題】反転受渡部の数を最小限にしつつ、搬送ロボットの待機時間を極力低減することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】反転受渡部ＲＶＰＡＳＳ２は、第３保持機構９３および第４保持機構９４を備える。第３保持機構９３と第４保持機構９４とは回転中心軸ＲＸを挟んで上下対称位置に設けられており、回転中心軸ＲＸの周りで１８０°回転して互いの位置が入れ替わる。搬入側の搬送ロボットは高さ位置Ｈ４にて第３保持機構９３または第４保持機構９４に基板を渡す。反転受渡部ＲＶＰＡＳＳ２にて表裏反転された基板は、高さ位置Ｈ３にて第３保持機構９３または第４保持機構９４から搬出側の搬送ロボットによって受け取られる。搬入側の搬送ロボットは、先行する基板の反転処理が完了する前に、後続の基板の搬送を開始することができる。 （もっと読む）

【課題】プラズマＣＶＤ装置において、各処理室の処理タクトに影響を及ぼすことなく各処理室に付設する機構の個数を低減する。
【解決手段】プラズマＣＶＤ装置は、ロードロック室、成膜室、アンロード室の各処理室を備え、各処理室内に複数個の基板カートを収納可能とし、アンロード室は、基板カートを成膜室から搬入する搬入口と、基板カートを帰還路に搬出する搬出口と、複数の基板カートを保持するカート保持部と、基板カートを搬送するカート搬送機構と、搬入口および搬出口間で昇降するカート昇降機構とを備える。カート昇降機構は、基板カートを搬入口と搬出口との間で移動させ、アンロード室内外への複数個の基板カートの搬出入を可能とする。カート昇降機構は、基板カートの搬入口、搬出口への移動を、他の基板カートをアンロード室内に保持した状態のままで行い、他の基板カートの干渉によって動作が停滞するといった処理タクトへの影響を回避する。 （もっと読む）