【課題】 半導体処理装置の取付け面に対する取り付けの容易なロードポート装置を提供する。
【解決手段】 ロードポート装置において載置台を支持するベース部材を、該ロードポート装置の取付け面側に配置される前方車輪を有する第一の支持ユニット及び該前方車輪より離れて配置される後方車輪を有する第二の支持ユニットにより支持することとし、ベース部材に対する第一の支持ユニットによる前方車輪の昇降の操作と第二の支持ユニットによる後方車輪の昇降の操作とを独立して行うこととする。 （もっと読む）

【課題】組み立て時の調整時間を短縮できる基板搬送装置及び基板処理装置を提供する。
【解決手段】駆動部と、基板に当接することで搬送力を付与する搬送用コロを有する第１シャフトと、駆動部による駆動力を第１シャフトに伝達する第２シャフトと、第１シャフトを着脱可能に支持する支持部材と、第２シャフトに対して第１シャフトを着脱可能に連結する連結部材と、を備えた基板搬送装置に関する。連結部材は、第１シャフト及び第２シャフトにおける径方向に対する位置ズレを許容可能に構成される。 （もっと読む）

【課題】連続的に多数の基板を成膜するのに適した基板搬送機構を真空槽内部に備えた下方蒸着装置を提供する。
【解決手段】本発明の蒸着装置は、真空槽、真空槽内で基板を格納位置と成膜位置の間で移動させる搬送機構、及び真空槽内に配置され成膜位置の上方から蒸着材料を蒸発させる蒸発源を備え、搬送機構は、開口部を有し水平方向に延在する中空体からなる水平経路、水平経路内で、格納位置と開口部の直下である方向転換位置との間で基板を移動させる水平搬送手段、及び基板を方向転換位置と成膜位置の間で移動させる昇降可能な基板ステージを備える。 （もっと読む）

【課題】薄板状ワークがより薄くても、この薄板状ワークに移動力を確実に伝えて滞りなくそして蛇行なく安定して搬送することが可能である薄板状ワーク搬送装置及び薄板状ワーク搬送方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板Ｗの下面に空気を吹き付けて非接触状態で支持するエア浮上ユニット２と、ガラス基板Ｗの下面に接触してワーク搬送方向の移動力を付与する搬送ローラ３７を備え、エア浮上ユニット２は、ガラス基板Ｗの下面に向けて空気を噴出させる多数の空気噴出孔２４ａを有し、且つ、ワーク搬送方向と直交する断面形状が下方に凸の湾曲形状を成すワーク非接触支持板２４を具備し、搬送ローラ３７をワーク搬送方向と直交する方向の中央に配置して、エア浮上ユニット２のワーク非接触支持板２４から上方に突出する周縁部をガラス基板Ｗの下面に接触させてワーク搬送方向の移動力を付与する。 （もっと読む）

【課題】成膜処理の生産性の向上を図ることができ、且つキャリアの洗浄回数を減らすことができる等のキャリアの管理コストの低減に寄与する真空処理装置を提供する。
【解決手段】真空処理装置は、ロードロックチャンバＬＬとプロセスチャンバＰＣの間で移送されるキャリア７と、プロセスチャンバＰＣ内に移送されたキャリア７から基板７を受け取るフック１９を備えており、基板５への真空処理はキャリア７がロードロックチャンバＬＬに退避した後に行われる。 （もっと読む）

【課題】高速の薄板状ワーク搬送を安定して行うことができ、薄板状ワークがより薄くなった場合であったとしても、薄板状ワークの反りによる影響を受けることなく安定して搬送することが可能である薄板状ワーク搬送装置及び薄板状ワーク搬送方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板Ｗの下面に空気を吹き付けて非接触状態で支持するエア浮上ユニット２と、ガラス基板Ｗの下面に接触してワーク搬送方向の移動力を付与する搬送ローラ３７と、ガラス基板Ｗの搬送ローラ３７との接触部位Ｗｔを搬送ローラ３７側に引き寄せる吸引手段４を備え、ガラス基板Ｗの上面に向けて空気を噴出させて、ガラス基板Ｗを搬送ローラ３７に押し付けるエア押し付けユニット５を設けた。 （もっと読む）

【課題】簡単な機構で、ラックギヤとピニオンギヤとを円滑に噛み合わせることができる搬送装置、及びこれを備えた真空処理装置を提供する。
【解決手段】本発明の搬送装置は、基板３を搭載して搬送軌道９上を移動するキャリア２０に設けられたラックギヤ７と、ラックギヤ７に噛合する複数のピニオンギヤ５ａ，５ｂとを備え、ラックギヤ７は、ピニオンギヤ５ａがラックギヤ７の一端で歯合するときに、ピニオンギヤ５ｂと歯合する箇所のラックギヤ７が高くなるように形成されている。 （もっと読む）

【課題】可撓性を有するワークを非接触で安定的にチャックすることができるチャック装置およびチャック方法を提供する。
【解決手段】可撓性を有するワークＷを保持するチャック装置であって、ワークＷの鉛直上方に位置して当該ワークＷを非接触状態で吸引するベルヌーイチャック機構４と、当該ベルヌーイチャック機構４を挟んで水平面上に対向配置され、当該ベルヌーイチャック機構４による吸引力で浮上するとともに自重で撓んだワークＷの側縁Ｗ_２を挟持し、当該側縁Ｗ_２よりも中央部Ｗ_１が鉛直上方に位置する湾曲姿勢にワークＷを保持する一対の保持手段１０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】処理動作のタクトタイムを短縮することができ、且つ、ノズルのメンテナンス処理に起因する被処理基板の汚染を防止する。
【解決手段】被処理基板Ｇの幅方向に延びる吐出口を有し、前記処理ステージ上の前記基板の上方を基板搬送方向に沿って移動されると共に、前記吐出口から前記基板上に処理液を吐出するノズル３１と、前記ノズルを昇降移動可能であって、前記ノズルを基板搬送方向上流側または下流側に向けて移動可能なノズル移動手段３２と、基板搬送路４の下方に設けられ、前記ノズルの吐出口の状態を整えるノズルメンテナンス手段３５と、前記基板搬送路において前記処理ステージの上流側または下流側に所定長さの空き区間ｄを出没自在に形成可能な空き区間形成手段２１，２２，２３Ａ、２３Ｂ、３０とを備える。 （もっと読む）

【課題】基板がエアー洗浄部に接触することにより損傷を受けることを防止可能な基板処理装置を提供する。
【解決手段】上側エアー洗浄部５は、搬送路の途中に設けられた洗浄領域４の上方に配置され、基板２の上面にカーテン状にエアーを噴き付けつつ、噴き付けたエアーを吸入することにより基板２を洗浄する。下側エアー洗浄部は、搬送路の下方において上側エアー洗浄部５と対向する位置に配置され、基板２の下面にカーテン状にエアーを噴き付けつつ、噴き付けたエアーを吸入することにより基板２を洗浄する。上側エアー洗浄部５および下側エアー洗浄部は、端辺３が伸びる方向に対して基板２上において交差するようにカーテン状にエアーを噴き付ける。洗浄領域４には基板案内部１３が配置され、下側エアー洗浄部によるエアーの吸入によって基板２が下側エアー洗浄部に接触することを、基板案内部１３が基板２の下面を支持することによって防止する。 （もっと読む）

【課題】基板の位置調整に伴う傷の発生を防止できる基板のアラインメント方法及び装置を提供する。
【解決手段】本発明のアラインメント方法は、複数のフリーボールベアリング１５で基板Ｓを裏面側から支持し、複数のフリーボールベアリングで支持された基板Ｓの縁部ｅに対して接触部材２８を押し当てて基板Ｓを目標位置に動かす工程（ｄ）を含む。 （もっと読む）

【課題】 反りが大きい基板に対して塗布液を塗布する場合においても、精度よく塗布液を塗布することが可能な塗布装置を提供する。
【解決手段】 基板は、基板搬送機構１４によりステージ１２上に搬送されて、その保持面３０に吸着保持される。そして、ステージ１２の保持面３０上に吸着保持された基板の表面に、スリットノズル４１における塗布液吐出用スリットを近接させた状態で、このスリットノズル４１を基板に対して移動させることにより、基板の表面に塗布液を塗布する。スリットノズルに４１より基板に塗布液を塗布している間、複数の吸着盤７１により基板の裏面の複数の位置を吸着保持した状態でステージ１２の保持面３０に押し付ける。 （もっと読む）

【課題】 重量が大きく反りが大きい基板に対して塗布液を塗布する場合においても、装置コストを増大させることなく、短い処理時間で精度よく塗布液を塗布することが可能な塗布装置を提供する。
【解決手段】 基板は、基板搬送機構１４によりステージ１２上に搬送されて、その保持面３０に吸着保持される。そして、ステージ１２上に吸着保持された基板の表面に、スリットノズル４１における塗布液吐出用スリットを近接させた状態で、スリットノズル４１を基板に対して移動させることにより、基板の表面に塗布液を塗布する。しかる後、塗布液が塗布された基板は、基板搬送機構１５によりステージ上から搬出される。 （もっと読む）

【課題】収納棚を保持台に位置決めするための位置決め個所を少なくして、収納棚を保持する保持台との合計質量を軽減でき、その昇降手段の大型化を防ぐことができる基板搬入出装置を提供する。
【解決手段】基板搬入出装置１は、下面に枠体２ａを持つ収納棚２と、この収納棚２を移載台５の周囲に保持する保持台６とを備え、枠体２ａの交差する二辺それぞれに位置して対となる位置決めローラ１２ｂを配置し、これら位置決めローラ１２ｂを位置決めローラ相対離合手段８により相対離合可能に構成し、相対離合する位置決めローラ１２ｂにより枠体２ａを挟むように構成している。この構成により、収納棚２が保持台６に載置されると、位置決めローラ１２ｂが枠体２ａを挟む方向に相対移動して、各位置決めローラ１２ｂの中間位置に位置決めすることができる。 （もっと読む）

【課題】基板の搬送中に振動が発生した場合であっても基板を確実に保持することが可能。
【解決手段】搬送対象の基板Ｗを載置して、基板Ｗを所定の搬送方向Ｄに沿って搬送する搬送ステージ１２，１３，１４を有するＦＰＤ検査装置１であって、搬送ステージ１２，１３，１４上で搬送方向Ｄに沿って移動可能であり、基板Ｗを保持する保持部２３と、保持部２３の近傍に設けられ、保持部２３で保持された基板Ｗの主面を押圧する押圧部２５と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】基板搬送を効率良く行うことで、基板処理のスループットを向上する技術を提供する。
【解決手段】基板９を処理する基板処理装置１００である。基板処理装置１００は、外部から基板を受け入れる基板受入部１と、基板９に処理液を塗布する塗布部２と、処理液が塗布された基板９を乾燥させる乾燥部３と、基板９を外部に払い出す基板払出部４とを備えている。また、基板処理装置１００は、基板受入部１にある複数の基板９を同時に塗布部２に搬送する搬送機構５と、塗布部２において処理液が塗布された複数の基板９を同時に乾燥部３へ搬送する搬送機構６と、乾燥部３にて乾燥された複数の基板９を同時に基板払出部４へ搬送する搬送機構７とを備えている。 （もっと読む）

【課題】歪みの発生を抑えつつ基板を搬送すること。
【解決手段】帯状のシート基板ＦＢを搬送する搬送装置３０であって、シート基板ＦＢを案内する表面を有し、表面とシート基板ＦＢとの間に液状媒体ＬＱを介してシート基板ＦＢを案内するローラー部材Ｒを備える。ローラー部材Ｒは、外周面Ｒａ上のうち支持領域Ｒｂで基板ＦＢの裏面を支持した状態で、基板ＦＢを案内する。この場合、基板ＦＢとローラー部材Ｒの外周面Ｒａとの間に液状媒体ＬＱが介在しているため、液状媒体ＬＱの表面が基板ＦＢを案内する案内面となる。基板ＦＢが液状媒体ＬＱを介して案内されるため、基板ＦＢとローラー部材Ｒとの間における摩擦力の発生が抑制される。 （もっと読む）

【課題】真空において熱をともなう処理を行う基板処理装置において、基板を高速で搬送しても基板の位置精度を高くすることができること。
【解決手段】熱をともなう真空処理が行われる真空処理ユニットに対して基板の搬入および搬出を行う基板搬送装置は、基板を位置決めする位置決めピンを有し、基板を位置決めした状態で保持するピックと、ピックにより真空処理ユニットに対して基板を搬入および搬出するようにピックを駆動させる駆動部と、ピックによる基板の搬送動作を制御する搬送制御部とを有し、搬送制御部は、基板を真空処理ユニットに搬入する際の、常温における基板の基準位置情報を予め把握しておき、実処理において、基板を真空処理ユニットに搬入する際に、その基板の基準位置からの位置ずれを算出し、位置ずれを補正して基板を真空処理ユニットに搬入するように駆動部を制御する。 （もっと読む）

【課題】 ２メートル角程度以上の大サイズ基板を移載用架台から基板保持用枠体へ受け渡しする方法、または基板保持用枠体からの受け取り方法、およびそれらの方法に用いる移載用架台を提供する。
【解決手段】
移載用架台は、上部に複数の回転輪が回転可能に配され、全ての該回転輪と載置する基板との接点が架台水平面を形成するように配設され、架台水平面の下方に上昇下降が可能なリフトピンを配列し、架台水平面の外周域を基板保持用枠体の開口の通過が可能なように形成されている。基板の基板保持用枠体への受け渡しは、リフトピンが基板をその中央域を低く両端辺を高くした状態に支持しておき、移載用架台の下側から基板保持用枠体を上昇させて行う。また、基板の受け取りは、リフトピンが、中央域を低くした状態で待機し、そのリフトピン上に基板を載置してから平面状態にする特徴を有する。 （もっと読む）