【課題】自公転型の気相成長装置において、複数の基板の温度を均一化することができる気相成長装置を提供する。
【解決手段】サセプタ１３の外周部に回転可能に設けた回転歯車部材１５に、スペーサリング２６を介装した状態で基板保持部材１４を保持し、複数の基板保持部材の表面温度に応じて前記スペーサリングの厚さを変化させることにより、複数の基板保持部材の表面温度を均一化し、各基板保持部材にそれ保持した各基板１６の温度分布を極力小さくする。 （もっと読む）

【課題】ダイシングテープを劣化することなく、基板を支持するサポートプレートを基板から剥離する処理を実現する積層体および基板の処理方法を提供する。
【解決手段】本発明にかかる基板を含む積層体は、薄板化された基板１０と、サポートプレート１２とを含む積層体２０であって、基板１０の一方の面１０ａに第１接着剤を介して貼着された第１サポートプレート１２と、基板１０の他方の面に第２接着剤を介して貼着された第２サポートプレート１４とを備え、第２接着剤は、第１接着剤とは異なる溶解性を有していることを特徴とし、基板１０から第１サポートプレート１２および第２サポートプレート１４の剥離処理を良好に行なうことができる積層体である。 （もっと読む）

【課題】プラズマＣＶＤ装置において、各処理室の処理タクトに影響を及ぼすことなく各処理室に付設する機構の個数を低減する。
【解決手段】プラズマＣＶＤ装置は、ロードロック室、成膜室、アンロード室の各処理室を備え、各処理室内に複数個の基板カートを収納可能とし、アンロード室は、基板カートを成膜室から搬入する搬入口と、基板カートを帰還路に搬出する搬出口と、複数の基板カートを保持するカート保持部と、基板カートを搬送するカート搬送機構と、搬入口および搬出口間で昇降するカート昇降機構とを備える。カート昇降機構は、基板カートを搬入口と搬出口との間で移動させ、アンロード室内外への複数個の基板カートの搬出入を可能とする。カート昇降機構は、基板カートの搬入口、搬出口への移動を、他の基板カートをアンロード室内に保持した状態のままで行い、他の基板カートの干渉によって動作が停滞するといった処理タクトへの影響を回避する。 （もっと読む）

【課題】少なくとも１つの光源を使用してエンドエフェクタ・アラインメントを校正するためのシステムおよび方法
【解決手段】プラズマ処理システムにおいてチャックに対するエンドエフェクタのアラインメントを校正するための方法が提供される。方法は、エンドエフェクタからチャックへ第１の光ビームを提供することを含む。方法は、第１の光ビームがチャックの表面を走査するようにあらかじめ定められた校正経路に沿ってエンドエフェクタを移動させることを含む。方法は、また、反射光信号の集合を受信することを含み、反射光信号の集合は、少なくとも、移動時に表面が第１の光ビームを反射するときに生成される。方法は、３つ以上の不連続性を特定するために反射光信号の集合を分析することを含む。３つ以上の不連続性は、第１の光ビームがチャックの縁に当たるときに生成される３つ以上の反射光信号に関係している。方法は、また、３つ以上の不連続性に基づいて３つ以上の座標データ点を決定することも含み、３つ以上の座標データ点は、チャックの縁上の３つ以上の点を表している。方法は、３つ以上の座標データ点に基づいてチャックの中心を決定することを含む。 （もっと読む）

【課題】ウエハキャリア駆動装置およびそれを動作させるための方法
【解決手段】駆動レールは、密封内部空洞と、駆動レールの長手方向に沿って伸びる外側駆動表面とを含む。内部空洞内に、外側駆動表面のちょうど反対側で内部空洞の表面に隣接して第１の磁気部材が配置される。内部空洞内に、第１の磁気部材に関連して駆動メカニズムが配置され、該駆動メカニズムは、第１の磁気部材が外側駆動表面のちょうど反対側にあり続けるように、第１の磁気部材を内部空洞内において駆動レールの長手方向に沿って移動させるように構成される。第１の磁気部材は、外側駆動表面に隣接して配置されたウエハキャリアに外側駆動表面を通じて磁気的に結合するように構成される。内部空洞内における駆動レールに沿った第１の磁気部材の移動は、外側駆動表面に沿ったウエハキャリアの対応する移動を生じさせる。 （もっと読む）

【課題】プラズマ処理システムにおいてエンドエフェクタのアラインメントを校正するためのシステムおよび方法
【解決手段】プラズマ処理システムにおいてチャックに対するエンドエフェクタのアラインメントを校正するための方法が提供される。方法は、エンドエフェクタをチャックの上に位置決めすることと、チャックおよびエンドエフェクタの静止画像を撮影することとを含む。方法は、チャックの中心およびエンドエフェクタによって定められたエンドエフェクタ規定中心を決定するために静止画像を処理することを含む。方法は、エンドエフェクタ規定中心とチャックの中心との間の位置差を決定することを含む。方法は、また、エンドエフェクタがウエハを運ぶときにロボットメカニズムが位置差を調整するようにロボットメカニズムを制御するために、位置差をロボットコントローラに提供することも含む。 （もっと読む）

トランスデューサー、それを製造するシステム及び方法は、圧電ピラーの複合物を利用する。一実施形態において、本発明は、音響エネルギーを発生させるための装置であって、圧電物質で造られる複数のピラーを含んでおり、ピラーは、隣接したピラー間に空間が存在するように離隔方式で配列されており、ピラーは、幅と、上面と底面との間で延びる高さとを有しており、ピラーの高さは、ピラーの幅よりさらに大きく、空間は、複合アセンブリーを形成するように弾性物質で満たされている。
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【課題】液浸リソグラフィ投影システムの光学性能を効果的に制御可能にする。
【解決手段】投影システムの最終エレメントと基板の間に充填された液浸液から形成された、調整装置によって調整することができる光学特性を有するレンズを備えた液浸リソグラフィ装置である。調整装置は、液体レンズの特性、たとえば形状、組成、屈折率或いは吸収率などを空間若しくは時間の関数として調整するべく構成されており、それにより液浸リソグラフィ装置の画像化性能を変更することができる。 （もっと読む）

【課題】露光の高能率化を図ると共に、装置コストの低減を図る。
【解決手段】被露光部材としての基板を保持する基板保持部を複数搭載する複数の移動テーブル３を案内軸で案内して個別に露光位置に配置すべく前記マスクに対して相対移動可能に構成し、複数の前記基板保持部の内のいずれかが前記露光配置に配置されたときに、該露光位置に配置されてない前記基板保持部に対して前記基板を搬入、搬出する基板搬送部を設け、前記露光位置にある前記基板保持部を前記マスクに対してステップ移動させるように前記移動テーブルを移動させるリニアモータ１４を配置し、前記案内軸及び前記リニアモータ１４のステータをベース７上に形成し、当該ベース７を前記移動テーブル３毎に分解して輸送可能とするように分割し、当該ベース７の分割に合わせて前記リニアモータのステータを分割する構成とした。 （もっと読む）

【課題】 レーザ測長器を用いた位置決め装置において、レーザ光路の屈折率変動による移動体の位置の測定誤差を軽減し、高精度な位置決めを実現する。
【解決手段】 ガイド面を有する固定部と、前記ガイド面上を移動する移動体と、前記移動体の前記固定部との相対位置を測定するレーザ測長器とからなる位置決め装置であって、前記移動体は、上壁部と、側壁部と、前記上壁部及び前記側壁部に囲まれた空間部と、前記側壁部の前記ガイド面に対向する面であって、前記空間部の外周に配置されたシール部と、を有し、前記空間部に前記レーザ測長器を収容し、前記空間部を減圧することによって、高精度な位置決めを実現する。 （もっと読む）

【課題】基板支持体又はパターニングデバイス支持体などの支持体を駆動する固定磁石モータを有するリソグラフィ装置に、例えば支持体と別の部品との衝突を防止する安全システムを提供する。
【解決手段】問題の支持体の位置を測定する測定システムを設ける。測定システムは、固定磁石モータの磁石アセンブリによって生成された交番磁界の磁界強度を測定する、及び／又は渦電流を引き起こす交番磁界を生成する電磁石のインダクタンス測定値で、磁石アセンブリを保護する金属層内の渦電流の生成を測定する、及び／又はエミッタによって放出された光面に配置されたＣＣＤメトリック又は直線光ダイオードなどの光学位置検知型センサを使用して光を測定する。 （もっと読む）

ウェハ(1010)又は基板の表面を洗浄する装置であって、ウェハ(1010)又は基板の表面に対して隙間を隔てて配設され且つ該ウェハ(1010)又は基板の表面に垂直な軸周りに回転するプレート(1008)を含む。ウェハ又は基板の表面に対向する回転プレートの表面には、洗浄効率を高めるために、規則的なパターン及び不規則なパターンを有する溝が形成されている。他の実施例では、上記洗浄装置は、洗浄処理中に回転プレートを振動させる超音波変換器又はメガソニック変換器を更に含む。
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【課題】ガラス基板の種別数が増加してもカセットポートの個数は増加しない移載装置を提供する。
【解決手段】加工装置に検査装置が設けられ、Ａ）搬送ロボットは、ガラス基板の搬送順序でカセット内の棚位置順に収納し、空のカセットに連続して収納する機能を有し、Ｂ）基板情報伝達手段は、カセット番号及びガラス基板番号を設定し、カセット番号、ガラス基板番号、カセット内の棚位置番号、検査結果の種別（欠陥）などの基板情報を修正装置に伝達し、修正装置が修正するガラス基板を抜き出し、修正を行い、元の棚位置に収納する指示、及び、修正しないガラス基板と、修正終了したガラス基板とで充填したカセットを次工程へ搬送する指示をする機能を有する。 （もっと読む）

【課題】ステージの変形を最小限に抑えるか望ましくは避けるべきであるということを考慮に入れると、そのような過剰作動ステージの制御は困難であるため、過剰作動ステージの性能を向上させることを目的とする。
【解決手段】リソグラフィ装置向けのステージシステムは、ステージ、ステージに作用するように配置された過剰指定された数のアクチュエータ、およびこれらのアクチュエータへ電流を供給するように構成された電源を含み、これらのアクチュエータの第１のアクチュエータに関連したコイルおよびこれらのアクチュエータの第２のアクチュエータに関連したコイルに電流が供給される。 （もっと読む）

【課題】真空室においてパーティクルが基板に付着することを低減する雰囲気置換方法を提供する。
【解決手段】真空環境下で基板を処理する処理装置の真空室の雰囲気を置換する方法であって、前記真空室内に設置された保持ユニットで前記基板を保持する工程と、前記真空室の雰囲気を排気又は給気によって置換する工程とを有し、前記真空室の雰囲気を置換する工程では、前記真空室内に設置された集塵ユニットの温度が前記基板の温度よりも低い温度に調節された状態で、前記真空室の圧力を１０Ｐａ以上１００００Ｐａ以下の範囲で１０秒以上６００秒以下維持することを特徴とする。 （もっと読む）

第１軸に沿って及び第２軸周りにステージ（２３８）を移動させる移動体（３４４）は、磁性部品（４５４）と導体部品（４５６）とを含む。磁性部品（４５４）は、磁界に囲まれた１以上のマグネット（４５４Ｄ）を含む。導体部品（４５６）は、磁界内で磁性部品（４５４）の近くに配置される。また、導体部品（４５６）は、電流が導体部品（４５６）に導かれるときに磁性部品（４５４）と相互作用して第１軸に沿った制御された力と第２軸周りの制御されたモーメントを発生させる。さらに、導体部品（４５６）は、電流が導体部品（４５６）に導かれたときに磁性部品（４５４）と相互作用して第１軸及び第２軸に垂直な第３軸に沿った制御された力を発生させる。
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ステージアセンブリ８は、少なくとも１つの自由度、すなわち少なくとも１つのロングストローク運動能力を有し、第１のステージ基部フレーム１２に可動に取り付けられる第１のステージ１０を含み、第１のステージ基部フレームが、第１の方向における運動を可能にする。第２のステージ２０は、少なくとも１つの自由度、すなわち少なくとも１つのロングストローク運動能力を有し、第２のステージ基部フレーム２２に可動に取り付けられる。第２のステージ基部フレームは、第１の方向と異なる第２の方向における運動を可能にする。第１のステージ及び第２のステージは、第１及び第２の方向に直交する第３の方向において、重なり合って位置する。分離された基準計測フレーム１８は、１又は複数の自由度で、第１及び第２のステージのための基準ポイントを提供するように構成される。他の自由度は、１つのステージから他方に対してより直接的に測定されることができる。
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【課題】 ステージの動的性能を向上させることである。
【解決手段】 リソグラフィ装置用のステージシステムは、ステージと、ステージに作用する過剰設定された数のアクチュエータと、ステージの位置依存パラメータを測定し、各センサ信号を供給する少なくとも２つのセンサとを含む。少なくとも２つのセンサは、同じ自由度で各位置依存パラメータを測定するように配置される。センサのうちの少なくとも１つによって測定された設定値および位置依存パラメータに応じてアクチュエータのうちの少なくとも１つにコントローラ出力信号を供給するように、コントローラが設けられる。別のコントローラには、センサによって測定された位置依存パラメータが供給される。この別のコントローラは、センサからの位置依存パラメータ間の差を求め、求めた差に応じてアクチュエータのうちの少なくとも１つに別のコントローラ出力信号を供給するように構成される。 （もっと読む）

【課題】基板を処理する装置及び方法を提供すること。
【解決手段】複数のチャックが工程チャンバー内で相互平行に配置される。前記チャックは基板の裏面を全体的に支持し、多数の貫通ホールを有する。サポーターは、前記貫通ホールを通じて、移動可能に配置され、前記基板は前記チャックと前記サポーターの間の相対的な運動によって、前記チャック上にロードされるか前記チャックからアンロードされる。よって、前記基板を処理する期間、前記基板の裏面上に不希望の膜が形成されることを防止することができる。
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【課題】処理中に基板の縁部を保護し、基板を支持部材に固定する方法及び装置を提供する。
【解決手段】本発明は、基板との接触を最小にし、改善された縁部の遮断を提供する。支持タブがルーフ下面から内向きに延びて、基板上に装置を支持し、装置の内端部が基板の縁部に近づいて、改善された縁部の遮断を提供する。変更可能な高さのルーフ下面が基板の縁部の上方に設けられ、大きい有効ルーフアスペクト比（ルーフ幅：基板上方のルーフ高さ）を提供して、装置及び基板の間、又は基板を越えてブリッジ層が形成される可能性を低減する。 （もっと読む）