説明

Fターム[5F031HA28]の内容

ウエハ等の容器、移送、固着、位置決め等 (111,051) | 処理時の固着、保持 (16,861) | ステージ、チャック、サセプタ (15,090) | 固着・保持機構 (3,822) | クランプ、把持 (775) | ウエハ等への押圧力の与え方 (408) | 載置部と押え部材とで挟んで表裏を押圧 (105)

Fターム[5F031HA28]に分類される特許

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【課題】イオンビーム照射装置において、安価かつ簡単な構成で、広範囲に渡って基板割れの検出を行う。
【解決手段】基板8の裏面と対向する面に1つ以上の開口部を有する基板支持部材9と、基板8を搭載した基板支持部材9を駆動させて、イオンビーム3の少なくとも一部が基板8上に照射される照射領域とイオンビーム3が基板8上に照射されない非照射領域に基板8を搬送する基板駆動機構と、基板8の下流側でイオンビーム3が照射される位置に配置されたビーム電流計測器11を備えたイオンビーム照射装置1で、照射領域内に基板8が搬送されているときに、ビーム電流計測器11によって計測されたビーム電流の計測値に基づいて、基板割れの有無を検出する。 (もっと読む)


【課題】 反りが大きい基板に対して塗布液を塗布する場合においても、精度よく塗布液を塗布することが可能な塗布装置を提供する。
【解決手段】 基板は、基板搬送機構14によりステージ12上に搬送されて、その保持面30に吸着保持される。そして、ステージ12の保持面30上に吸着保持された基板の表面に、スリットノズル41における塗布液吐出用スリットを近接させた状態で、このスリットノズル41を基板に対して移動させることにより、基板の表面に塗布液を塗布する。スリットノズルに41より基板に塗布液を塗布している間、複数の吸着盤71により基板の裏面の複数の位置を吸着保持した状態でステージ12の保持面30に押し付ける。 (もっと読む)


【課題】接合後のウエハの主面が平行となり生産性を向上させるウエハの接合方法を提供する。
【解決手段】一方のウエハの一方の主面に接着剤を塗布し、一方のウエハと他方のウエハとが対向するように接着剤をウエハの主面間で挟んだ状態でウエハを重ね合わせてワークを形成し、第一のプレス板と第二のプレス板と第二のプレス板から第一のプレス板に向かう方向に所定の圧力を加えることができる加圧手段とを備えたプレス装置の、第二のプレス板側を向く第一のプレス板の面に一方のウエハの他方の主面が接触するようにワークを配置するワーク配置工程と、加圧手段により第一のプレス板と第二のプレス板とでワークに加圧するワーク加圧工程と、プレス装置の第一のプレス板からワークを取り出した後、ウエハ間に存在する接着剤を硬化させる接着剤硬化工程と、を備えていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】リング状シールド部材の構成部品と基板載置台との間の隙間の発生を防止するとともに、構成部品の破損を防止することができるリング状シールド部材を提供する。
【解決手段】シールドリング15は4つのリング構成部品41〜44からなり、各リング構成部品41〜44の長手方向に関する固定端には全方位移動規制部45が設けられ、一方向移動許容部46が全方位移動規制部45から離間して設けられ、例えば、一のリング構成部品41の固定端41aの端面が、隣接する他のリング構成部品43の自由端43bの側面に当接し、一のリング構成部品41の自由端41bの側面が、隣接する別のリング構成部品44の固定端44aの端面に当接するように、各リング構成部品41〜44が組み合わせられている。 (もっと読む)


【課題】基板を保持するキャリアのクリーニングを行わなわずとも、高品質な被膜を基板に対して成膜することが可能であり、かつ、効率的な成膜を可能とする成膜装置を提供する。
【解決手段】基板Wがキャリア21からヒータ(アノードユニット)90に移載された後、キャリアは成膜室11から搬出される。基板をヒータに渡した後のキャリアは、成膜中は、仕込・取出室内で待機すればよい。この後、成膜室と仕込・取出室とを隔てるドアバルブを閉状態にする。 (もっと読む)


【課題】テーブルユニットの小型化や軽量化が図れる。
【解決手段】加工対象品101が隙間10に横方向から搬入された後、昇降駆動機構4が下降駆動するのに伴い、上クランプユニット7の自重だけで又は第1弾性部材9の弾力又は第2弾性部材17の弾力の作用により上クランプユニット7が下降して、上クランプユニット7と下クランプユニット8とが加工対象品101の周縁部を上下方向から掴むように支持し、テーブルユニット5が加工対象品101の中央部を下から支持した後、昇降駆動機構4が上クランプユニット7及びテーブルユニット5から機構的に離れた縁切れ状態となることにより、上クランプユニット7を開閉する駆動機構に必要な電気駆動のためのケーブルや空気駆動のためのエアーチューブなどがテーブルユニット5から除去するこができるようになっている。 (もっと読む)


【課題】ダイ供給装置において、突き上げポットがウエハパレットの円形開口縁部と干渉しないXY方向の移動可能範囲の情報を入力する作業を不要にする。
【解決手段】ウエハパレット22に張ったダイシングシート上のウエハから分割したダイ21を吸着ノズルで吸着する際に、該ダイシングシートのうちの吸着しようとするダイ21の貼着部分をその真下から突き上げポットで突き上げるダイ供給装置11において、ダイシングシート上のウエハのサイズ等のウエハ情報を記述した情報記録部35をウエハパレット22に設ける。この情報記録部35として、上面にウエハ情報を表す2次元コード等のコードが記録されたものを使用すると共に、情報読取り部として、ダイ撮像用のカメラ24を使用し、該カメラ24で情報記録部35のコードを撮像して画像処理することで、該コードを読み取って突き上げポットのXY方向の移動可能範囲を自動設定する。 (もっと読む)


【課題】被照射物たる半導体ウエハの温度ばらつきを抑制しつつ冷却する半導体ウエハ冷却装置の提供を目的とする。
【解決手段】本発明の半導体ウエハ冷却装置は、半導体ウエハ10を載置する載置面を有するトレイ1と、トレイ1内に配置され、載置面上に載置された半導体ウエハ10を冷却する冷媒が流れる冷却配管2と、載置面に開口を有してトレイ1に設けられ、載置面上に載置された半導体ウエハ10を吸着する真空配管3と、を備える。 (もっと読む)


【課題】基板の反り量が大きい場合等であっても適切な露光を行うことができ、好ましくは基板内のチップ等の損傷を回避することもできる露光装置及び露光方法を提供する。
【解決手段】露光装置には、ステージ3上に載置された基板12に光を照射する光源1と、光源1側から基板12をステージ3に押圧する押圧部材2と、基板12の押圧部材2により押圧されている領域の平坦度を測定するセンサ4と、センサ4により測定された平坦度に応じて押圧部材2が基板12を押圧する力を制御する制御部5と、が設けられている。 (もっと読む)


【課題】 環状フレームをクランプしない状態で被加工物の切削を開始したり、又は押さえ部材の上面に環状フレームが載置された状態で被加工物の切削を開始して、クランプ装置や切削ブレードを破損させてしまうことのないクランプ装置を提供することである。
【解決手段】 チャックテーブルの外周に配設されて、粘着シート上に貼着された被加工物を支持する環状フレームを固定するフレームクランプ装置であって、該環状フレームを支持する支持部材と、回転軸を有し、該支持部材に固定されたエアアクチュエータと、該エアアクチュエータの該回転軸に固定され、該エアアクチュエータを駆動することによりクランプ位置と解放位置との間で回動される押さえ部材と、該押さえ部材が該クランプ位置又は該解放位置に位置づけられたことを検出する検出手段と、を具備したことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】レジストが形成された基板を保持した際に、押圧部材へのレジストの付着を抑制
することができる基板ホルダーを提供する。
【解決手段】レジスト101が形成された基板100が載置されるステージ14と、ステ
ージ14上に載置された基板100の周縁部に先端面15aが当接する爪部15を備えて
基板100をステージ14側に向かって押圧する押圧部材16とを有し、爪部15の先端
面15aに複数の突起部21が設けられている構成とする。 (もっと読む)


【課題】基板処理装置の各液処理ユニットに処理液を供給するときに、流量の精度を落とすことなく流量制御機構をまとめることができる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。
【解決手段】処理液が流れる供給流路68aと、供給流路68aに処理液を供給する処理液供給部70と、供給流路68a上に設けられ、供給流路68aの流量を制御する流量制御機構131と、流量制御機構131の下流側に接続される第1の経路68c又は第1の経路68cと平行に接続される第2の経路68dに切り替える切替機構135とを有する。流量制御機構131は、供給流路68aの流量を計測する流量計測部132と、内部に開閉可能な弁を備えた流量制御弁133と、流量設定値FSと流量計測値FMとが等しくなるように、流量制御弁133を制御する流量制御部134とを有する。 (もっと読む)


【課題】ゴム系材料からなるワークの冷却切削を行う際に、ワークを効率良く冷却する搬送治具を提供する。
【解決手段】
本発明の搬送治具は、ゴム系材料を含んで構成されるワーク10の冷却切削に用いられる搬送治具100であって、第1の面においてワーク10を搭載するように構成され、第1の面とは反対側の第2の面において冷却チャック70に接触するように構成された固定板20と、ネジ25を用いて固定板20に固定された断熱板30と、固定板20に接触することなく、ネジ35を用いて断熱板30に固定されたワーク支持枠体40とを有する。 (もっと読む)


【課題】ウェハの直径が大きくなる傾向にある近年、重ねあわされる互いのウェハ全面において均一に加圧加熱することが困難になってきている。
【解決手段】ウェハを加圧加熱する加圧加熱モジュールは、軸方向に押圧力を発生させるアクチュエータに接続された支柱部と、押圧力を受けた支柱部に押圧されるヒータプレートと、ヒータプレートに押圧及び加熱されるステージ部を備え、支柱部がヒータプレートを押圧する第1の押圧面は、ヒータプレートがステージを押圧する第2の押圧面より小さい。 (もっと読む)


【課題】簡便に蒸着を行うことができる蒸着用治具及び蒸着装置を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明にかかる蒸着用治具は、ウエハ4の非蒸着面を覆うハット2を有する。ハット2には、第1凸部2a及び第2凸部2bが設けられる。第1凸部2aは、ウエハ4側におけるハット2の外周部に設けられ、ウエハ4を保持する。第2凸部2bは、ウエハ4とは反対側におけるハット2の外周部に設けられる。このように、ハット2の両面に凸部を設けることにより、簡便に蒸着を行うことができる。 (もっと読む)


【課題】成膜工程における背板の着脱作業を解消し、基板の面の温度を均一に昇温することが容易であり、効率のよい薄膜の化学蒸着を可能にすることができる基板保持部材及び薄膜の製造方法を提供することである。
【解決手段】凹部5及びシール部材31等によって、基板密着面とガラス基板20の一方の面の略全面を密着した状態で保持することが可能であり、ガラス基板20を保持した状態のまま走行装置によって化学蒸着室内に導入可能であり、炭素繊維強化炭素複合体によって形成される基板保持部材1を提供する。 (もっと読む)


【課題】真空吸着機構からの基板の落下を防止する。
【解決手段】基板を保持する保持領域を有する本体と、本体における保持領域の外周に配され、保持領域を下向きにして本体が支持された状態で本体の落下を防止する落下防止部材が係合する係合部とを備える基板ホルダが提供される。また、基板を保持する保持領域および保持領域の外周に配された係合部を有する基板ホルダをその保持領域が下方を向いた状態で保持する上ステージと、上ステージに保持された基板ホルダの係合部に係合して基板ホルダの落下を防止する落下防止位置と、基板ホルダの外方へ退避する退避位置との間で移動可能な落下防止部材とを備えるステージ装置が提供される。 (もっと読む)


【課題】 レチクルのような板部材を強固に保持すると共に、板部材の上面、下面又は板部材を保持する部材に異物が付着していても板部材を歪ませることのないステージ装置を提供する。
【解決手段】 ステージ装置は、ステージと、前記ステージに設けられていて、前記板部材の下面に当接して前記板部材の面に垂直な方向における前記板部材を位置決めする第1位置決め部材と、前記ステージに設けられていて、前記板部材の上面に当接して前記第1位置決め部材と共に前記板部材の面に垂直な方向における前記板部材を位置決めする第2位置決め部材と、前記第1位置決め部材の周囲に第1密閉空間を形成する弾性を有する第1密閉部材と、前記第2位置決め部材の周囲に第2密閉空間を形成する弾性を有する第2密閉部材と、前記第1密閉空間と前記第2密閉空間とに前記板部材を真空吸着させるように、前記第1密閉空間及び前記第2密閉空間から空気をそれぞれ吸引する第1吸引機構及び第2吸引機構と、を備える。 (もっと読む)


【課題】純物濃度が均一な半導体膜を化学気相成長により基板上に形成する化学気相成長半導体膜形成装置を提供する
【解決手段】サセプタ1は、ウェハ載置部11及び固定突起13により構成されている。ウェハ載置部11の上面は、平面状に構成されている。ウェハ載置部11の上面は、SiCウェハを載置するための載置面P1として機能する。固定突起13は、各SiCウェハの外周面SP1〜3に沿うように3カ所に配置されている。これにより、サセプタ1では、従来のサセプタのようなザグリを設けなくとも、固定突起13によって各SiCウェハを所定の位置に固定できる。従って、ザグリとSiCウェハとの間に隙間が形成され、当該隙間によって原料ガスの流れが乱されるということがなくなる。よって、不純物濃度が均一な炭化珪素膜をSiCウェハ上に形成できる。 (もっと読む)


【課題】
真空処理チャンバ内の寸法を真空処理に必要な寸法まで縮小でき、しかも基板や基板を載せるトレーを操作しやすく、基板又は基板を載せたトレーを制御可能に保持できる真空処理装置用基板クランプ装置を提供する。
【解決手段】
真空処理チャンバ内で処理されることになる基板又は基板を載せたトレーを基板又は基板を載せたトレーの周縁部の少なくとも二つの相対した部位に対して係合する少なくとも二つのクランプ本体を設け、各クランプ本体に接続されて該クランプ本体を昇降させる少なくとも一つの昇降ピンンにより基板又は基板を装着したトレーを基板ホルダー上に独立して調整可能な押圧力で保持する構成される。 (もっと読む)


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