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Fターム[5F031HA52]の内容

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【課題】1つのピックを前進及び後退させることで未処理の被処理体と処理済みの被処理体とを入れ替えすることが可能な載置台構造を提供する。
【解決手段】被処理体Wを収容することができる容器46内に設けられて、搬入される被処理体を載置するための載置台構造において、載置台58と、ベース台64と、ベース台を昇降させる昇降手段72と、ベース台に設けられ、その上端部で被処理体を支持する複数の第1のピン部66と、載置台の外周側に位置されると共に外側へ屈伸復帰可能にベース台に起立させて設けられ、第1のピン部よりも長く設定されると共にその上端部で載置台上の被処理体とは異なる被処理体を支持する複数の第2ピン部68と、ベース台の上昇時に第2ピン部を一時的に外側へ展開させる展開機構69とを備える。これにより1つのピックを前進及び後退させることで未処理の被処理体と処理済みの被処理体とを入れ替える。 (もっと読む)


【課題】基板の処理不良を防止できる基板保持装置を提供する。
【解決手段】基板保持装置は、基板支持部材100及び回転調節部450を具備する。基板支持部材100は、基板がローディングされ、回転できる支持プレート111と、該支持プレート111に設置され、支持プレート111にローディングされた基板の側面で基板のエッジを支持して支持プレート111の上面から離隔させ、各々自転して支持されている前記基板を回転させる多数のチャッキングピン112とを具備する。回転調節部450は、支持プレート111の下に設置され、各チャッキングピン112の自転を調節する。チャッキングピン112は、工程の時基板を回転させて基板がチャッキングピンと接点される位置を変更させるため、チャッキングピンに当たった処理液が基板上に落ちる位置が継続変更される。 (もっと読む)


【課題】 マスクを被処理対象物に対して位置合わせ後、基台にマスクを設置固定する際に、高精度にマスクと被処理対象物の相対的な位置のずれを無くすること。
【解決手段】保持装置は、基板が載置される基台と、マスクを支持する為に、基板が載置される保持面の外側の周辺部に少なくとも3個配置され、マスクが基板の上に載置されるときには保持面から突き出ているマスク支持部材と、マスク支持部材により支持されているマスクの位置を調整する調整機構と、調整機構により位置が調整されたマスクを基台に固定する固定機構と、を有する。 (もっと読む)


【課題】計測した被処理物の処理面の位置情報に基づいて、処理装置の処理位置を正確に位置決めすることにより、高性能でかつ高歩留まりな被処理物を得ることができる位置決め装置を提供する。
【解決手段】インクジェットヘッド4の処理位置を、主走査軸3により基板1の処理面上の目標位置に向かって主走査方向に移動させるとき、基板位置記憶部25に記憶された基板1の処理面上の被処理箇所の位置に基づいて、目標位置が副走査方向にずれているときは、インクジェットヘッド4の処理位置を、副走査軸10により副走査方向に処理面に対して相対的に移動させる補正動作によって目標位置に到達するように、主走査軸3と副走査軸10を制御する制御部(23,26,27,28,29)とを備える。 (もっと読む)


【課題】効率的な除湿がなされる除湿手段を備えたウェーハ加工装置を提供する。
【解決手段】チャックテーブル26に空気吸引作用を発生させる減圧管30や、切削ユニット47,57のエアベアリング機構に供給する圧縮空気を除湿する除湿装置80を備える。除湿装置80には、除湿によって分離された水分を外部に放出するためのパージ用空気が供給されるが、そのパージ用空気として、減圧管30および切削ユニット47,57から排出される圧縮空気を再利用する。従来のように除湿した圧縮空気の一部をパージ用空気に利用するといったロスを生じさせず、除湿の効率化を図る。 (もっと読む)


【課題】半導体などの基板の全体に対して均一に工程が行なわれるように基板を保持する基板保持ユニット、及びこれを利用する効率の良い基板処理装置及び基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板保持ユニットは、第1保持部及び第2保持部を含む。第1保持部は第1方向に移動可能であり、第1方向に対応する方向に工程流体が提供される基板に対して、基板の第1部分を保持する。第2保持部は第2方向に移動可能であり、基板の第2部分を保持する。第1及び第2保持部のうち少なくとも一つは、工程流体が提供される間、基板を保持する。 (もっと読む)


ステージアセンブリ8は、少なくとも1つの自由度、すなわち少なくとも1つのロングストローク運動能力を有し、第1のステージ基部フレーム12に可動に取り付けられる第1のステージ10を含み、第1のステージ基部フレームが、第1の方向における運動を可能にする。第2のステージ20は、少なくとも1つの自由度、すなわち少なくとも1つのロングストローク運動能力を有し、第2のステージ基部フレーム22に可動に取り付けられる。第2のステージ基部フレームは、第1の方向と異なる第2の方向における運動を可能にする。第1のステージ及び第2のステージは、第1及び第2の方向に直交する第3の方向において、重なり合って位置する。分離された基準計測フレーム18は、1又は複数の自由度で、第1及び第2のステージのための基準ポイントを提供するように構成される。他の自由度は、1つのステージから他方に対してより直接的に測定されることができる。
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【課題】断続的な切り込みによって形成された接着用シートを被着体に貼付することに適した貼付用シートを提供すること。
【解決手段】シート基材S1の片面側に接着剤層Aが設けられているとともに、所定間隔ごとに略閉ループ状の軌跡に沿う断続的な切り込み11によって接着用シートS2が形成される。接着用シートS2の外側は不要シート部分S3として形成され、当該不要シート部分S3には、切り込み11に連なる引裂部12が形成されている。接着用シートS2をウエハW等に貼付するときは、貼付用シートSを幅方向外側にエキスパンドして引裂部12が引き裂かれるようにすることで、断続的な切り込み11を形成する非切り込み部11Bが切り込まれ、接着用シートS2と不要シート部分S3と分離することにより行われる。 (もっと読む)


【課題】断続的な切り込みによって形成された接着用シートを被着体に貼付することに適したシート貼付装置及び貼付方法を提供することにある
【解決手段】片面側に接着剤層Aが設けられているとともに、所定間隔ごとに略閉ループ状の軌跡に沿う断続的な切り込み11によって形成された接着用シートS2と、不要シート部分S3に設けられた引裂部12を有する帯状シートSを用いたシート貼付装置であり、前記接着用シートS2を押圧ローラ15で押圧してリングフレームRF及びウエハWに貼り付けるとともに、引き裂き手段18で帯状シートSを幅方向にエキスパンドして切り込み11とこれに連なる引裂部12に引き裂き力を付与し、これにより接着用シートS2と不要シート部分S3とを分離する (もっと読む)


【課題】剥離力をできるだけ小さく保ってウエハ等の被着体に貼付されたシートを剥離するシート剥離装置及び剥離方法を提供すること。
【解決手段】ウエハWの表面にシートSが貼付され、当該ウエハWがテーブル20上に支持されている。シートSの外周部分には、剥離用テープTが貼付され、当該剥離用テープTは剥離ヘッド13に保持される。剥離ヘッド13とテーブル20がガイドレール25に沿って相対移動するとともに、首振り機構21を介してテーブル20が時計方向と反時計方向に所定角度ずつ交互に回転し、ジグザグ動作を伴いながらシートSがウエハWから剥離される。 (もっと読む)


【課題】高い歩留まりでウエハ片をシートから効率的に剥離させることができるウエハ片剥離方法を提供する。
【解決手段】ウエハ片剥離方法は、シート11上に粘着保持されたウエハであってダイシングされて多数のウエハ片に分割されたウエハのウエハ片をシート11から剥離させる方法である。ウエハ片剥離方法は、熱剥離シートからなるシート11のウエハを粘着保持していない側の面が、任意の部分を局部的に加熱することができる加熱ヘッド35に対面するようにして、加熱ヘッド35とシート11とを接触させる工程と、シート11のうち剥離対象であるウエハ片を粘着保持する部分を加熱ヘッド35により加熱する工程と、を備えている。シート11を加熱することによって、シート11のウエハ片に対する粘着保持力を除去または弱める。 (もっと読む)


【課題】保持部材によりウエハシートを引き伸ばし、ウエハを拡張する装置において、ウエハサイズが変更に応じてウエハのθ方向回転機構構成部材を変更する必要が無く、交換部品の少数化が可能なウエハ拡張装置を提供する。
【解決手段】ウエハシートを、環状部材に当接させた状態で反対の方向へ引っ張ることでウエハシートを引き伸ばしてウエハを拡張させるウエハ拡張装置において、ベース部材32と、ベース部材に回転自在に設けられ、上記環状部材を着脱可能に支持する支持部材33と、ウエハシートを保持する保持部材34,35と、保持部材を移動させる移動手段と、保持部材を回転させる回転手段とを備えるとともに、移動手段により保持部材を移動させて、ウエハシートを環状部材30の当接部に当接させて引っ張り、ウエハを拡張させ、該ウエハを拡張させた状態で回転手段により保持部材を回転させて、環状部材と共にウエハシートを回転させる。 (もっと読む)


本発明は光学装置を対象物と合わせるための器具(10)に関する。器具は、枠(12)、前記光学装置又は前記対象物を支持するための支持単位(16)、及び支持単位を枠に関して少なくとも傾けるために配置される移動装置(14)を備え、そこでは球状体(18、22)の1区分が提供され、その区分は球面(20)を画成し、及び支持単位の傾斜運動は前記球面によって制御される。本発明に従う器具は、前記光学装置及び前記対象物の間の傾斜運動を許容する一方、そのような運動が焦点における変動を導かない。さらに、本発明は前記器具を備える光学機器及び半導体処理システムに関する。
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バッチスプレイ方法は、ターンテーブル上に搭載される基板を設置するステップと、ターンテーブルの中心軸まわりに基板を回転させるためにターンテーブルを回転させるステップと、ターンテーブルから独立して基板を回転させるステップであって、基板の回転がターンテーブルの回転と同時に生ずるステップと、少なくとも1つの固定位置から基板上に化学物質を定量供給するステップとを含む。ターンテーブルから独立して基板を回転させることは、基板の全周が化学物質の噴射に晒されることを可能とする。一実施例では、基板は、プロセスカセット内に装着されてもよく、プロセスカセットは、ターンテーブル上に搭載され、プロセスカセットは、ターンテーブルが回転している間、ターンテーブルから独立して回転してもよい。

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【課題】分割予定ラインに沿って強度が低下せしめられたウエーハを、分割予定ラインの両側で確実に吸引保持し、分割予定ラインに沿って確実に引張力を作用させることができるウエーハの分割装置を提供する。
【解決手段】ウエーハを分割予定ラインに沿って分割する装置であって、ウエーハの一方の面を貼着した保護テープが装着された環状のフレームを保持するフレーム保持手段と、ウエーハを分割予定ラインの両側においてそれぞれ吸引保持する保持面を備えた第1および第2の吸引保持部材と、吸引領域に負圧を作用せしめる吸引手段と、第1の吸引保持部材と第2の吸引保持部材を離反する方向に移動せしめる移動手段とからなる張力付与手段を具備し、第1と第2の吸引保持部材の保持面はウエーハの直径に対応する長さに形成され、複数の吸引領域は保持面の長手方向に沿って形成されており、吸引手段は吸引領域を変更する吸引領域変更手段を備えている。 (もっと読む)


本発明は、コーティング装置を通して平らな基板を移送するための装置に関する。このコーティング装置は、例えば、数個の異なるスパッタ・カソードを備えていて、このカソードに、例えば、ガラス板のような平らな基板が真空内を順次移送される。ガラス板と接触面との間で摩擦による損傷が起こらないように、ガラス板は接触しない距離にガス圧により維持される。ガス圧は、この場合、ガス・チャネル内の比較的少ない小さな孔部により形成される。コーティング装置に大気圧を導入している間、または真空にするための排気中、ガスの孔部が小さいために、ガス・チャネルと残りのコーティング装置の間の圧力を急速に等しくすることができないので、ガス・チャネルは、残りのコーティング装置とのガスによる接続が切り離され、別のガス・ラインを有し、このガス・ラインを通してガスをガス・チャネルに導入したり、そこからポンプにより吸い出したりすることができる。
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