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Fターム[5F031HA53]の内容

ウエハ等の容器、移送、固着、位置決め等 (111,051) | 処理時の固着、保持 (16,861) | ステージ、チャック、サセプタ (15,090) | 動作 (3,584) | 微動テーブル(精密位置決め) (1,086)

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【課題】被露光部材とマスクとのアライメントを行うための位置調整を単純化することによって効率的なアライメントを可能とする。
【解決手段】被露光部材20の位置を調整する被露光部材位置調整装置100と、被露光部材20に形成すべき所定のパターン象が描かれているマスク30の位置を調整するマスク位置調整装置200とを備える露光装置10であって、直交する2軸の一方の軸をX軸とし、他方の軸をY軸としたとき、被露光部材位置調整装置100は、被露光部材20をX軸及びY軸を含むXY平面上におけるX軸に沿った方向及びY軸に沿った方向に移動可能に構成され、マスク位置調整装置200は、マスク30をXY平面に直交するZ軸に沿った軸を中心に回転可能に構成されている。 (もっと読む)


【課題】プレートステージを駆動する、高帯域でロバストな駆動システムを設計する。
【解決手段】 操作量に従って駆動されるプレートステージPSTの位置(第1制御量)Xを計測する干渉計18Xが設置されたプレートテーブルPTBが示す共振モードに対して逆相の共振モードを示すキャリッジ30に、プレートステージPSTの位置(第2制御量)Xを計測する干渉計18Xが設置される。干渉計18X及び干渉計18Xを用いることにより、プレートステージPSTの駆動する、高帯域でロバストな駆動システムを設計することが可能となる。 (もっと読む)


【課題】被処理基板と支持基板を適切に接合する。
【解決手段】接合装置の接合部113は、被処理ウェハWを保持する第1の保持部200と、第1の保持部200に対向配置され、支持ウェハSを保持する第2の保持部201と、第2の保持部201に保持された支持ウェハSを覆うように設けられた鉛直方向に伸縮自在の圧力容器271を備え、当該圧力容器271内に気体を流入出させることで第2の保持部201を第1の保持部200側に押圧する加圧機構270と、第1の保持部200、第2の保持部201及び圧力容器271を内部に収容し、内部を密閉可能な処理容器290と、処理容器290内の雰囲気を減圧する減圧機構300と、を有している。 (もっと読む)


【課題】 基板保持部の高さ調整に伴う残留応力の低減に有利なステージ装置を提供する。
【解決手段】 ステージ装置は、基盤と、基板を保持する基板保持部と、前記基盤上に設置され前記基板保持部の位置を変更可能に前記基板保持部を支持する少なくとも1つの支持部とを備える。前記少なくとも1つの支持部のそれぞれは、1つの第1調整部と複数の第2調整部と制御部とを含む。第1調整部は、前記基盤上に固定された一端部と前記基板保持部に固定された他端部とを有し、該他端部の位置を調整可能である。第2調整部と、前記基盤上に固定された一端部と、前記基板保持部と結合している第1状態と前記基板保持部と結合していない第2状態とに切り替え可能な他端部とを有し、該他端部の位置を個別に調整可能である。制御部は、前記複数の第2調整部及び前記第1調整部の少なくとも1つの他端部の位置を調整する間、前記複数の第2調整部の他端部のすべての結合状態が前記第2状態となるように制御する。 (もっと読む)


【課題】電機子コイルの熱を効率よく除熱する。
【解決手段】 平面モータ50を構成する固定子60内の電機子コイル38の熱は、定盤21の本体部35内に設けられた熱伝導素子71aを介して、定盤21の底部に配置された流路71b内の冷媒に伝熱され、この流路71bを有する蒸発器71を含んで蒸気圧縮冷凍サイクルを構成する冷却装置により効率良く除熱される。これにより、定盤21上の基板ステージWSTの周囲の雰囲気の揺らぎを抑えることが可能となる。そして、干渉計を用いて構成されるウエハ干渉計の高い位置計測精度を維持することができ、ウエハW(基板ステージWST)の位置決め精度を向上するとともにスループットを改善することが可能となる。 (もっと読む)


【課題】回折格子を用いて計測を行う際に、相対位置を予め定められた相対位置からの絶対位置として容易に計測する。
【解決手段】エンコーダ10Xは、第1部材6に設けられ、格子パターン12Xa及び基準パターン13XAが形成された回折格子12Xと、計測光MX1,MX2を供給するレーザ光源16と、第2部材7に設けられ、計測光MX1,MX2を格子パターン面12Xbにθy方向(X方向)に対称な角度で傾斜させて入射させる傾斜ミラー32X,34Xと、計測光MX1,MX2の回折格子12Xによる回折光DX2,EX2を受光する光電センサ40XA,40XBと、を有する。 (もっと読む)


【課題】試料を搭載するトップテーブルの微小振動を抑えて観察像の像質あるいは寸法測定値の精度を向上させることができる試料位置決め技術を提供する。
【解決手段】本発明に係る試料位置決め装置は、トップテーブルを停止させるアクティブブレーキ、アクティブブレーキを囲む内枠、内枠を囲む外枠、およびアクティブブレーキを駆動するアクチュエータを備える。アクチュエータは、アクティブブレーキを駆動してトップテーブルをステージに対して停止させた後、外枠を押圧してトップテーブルの位置を調整する。 (もっと読む)


【課題】 過度な重量増を回避しつつ高精度な検査を実現しうる半導体ウエハ検査装置を提供すること。
【解決手段】 本願の半導体ウエハ検査装置は、鉛直方向上方を向く基準面210を有する定盤200と、定盤200によって自重の少なくとも一部が負担されており、x方向およびy方向に基準面210に沿って移動可能とされているとともに、集積回路が形成された機能面を有する半導体ウエハをこの機能面が鉛直方向上方を向く姿勢で支持するウエハ支持体300と、ウエハ支持体300をx方向およびy方向に移動させる移動手段400と、半導体ウエハの機能面を対象とした検査する検査ヘッドと、を備える。 (もっと読む)


【課題】露光装置の経時変化等の原因により、露光時におけるマスク位置が露光対象基材の移動方向に直交する方向にずれたときに、マスク位置を精度よく補正することができる露光装置を提供する。
【解決手段】光源とマスク3との間に介在するように基準板4が配置されており、基準板4には、各マスク3毎に、マスク3が配置されるべき位置の基準を示す第1基準マーク41が設けられている。カメラ51により第1基準マーク41及びマスクアライメントマーク(スリット32)を検出し、制御部7は、検出された両者間の距離aに基づいて、フィルム移動方向に直交する方向におけるマスク3のずれを検出し、駆動部6によりマスク3の位置を補正する。 (もっと読む)


【課題】大型の被露光材を露光するために、複雑且つ高コストの露光機構を要することなく、露光に使用するマスクのコストを抑えることである。
【解決手段】本発明に係る露光装置は、光源からの照射光を遮断する遮光領域と照射光を透過させる透光領域とを金属板に形成した複数のメタルマスクと、光源と搬送された被露光材との間に、複数のメタルマスクを保持するマスク保持部とを備える。マスク保持部は、同一平面上に並置された複数のメタルマスクを、隣り合うメタルマスクの各端部が互いに接触するように、連結して保持するものであり、複数のメタルマスクは、並置且つ連結されることによって全体として1個のメタルマスクを構成すると共に、マスク保持部に対して、それぞれ個別に着脱できるものである。 (もっと読む)


【課題】作業位置精度の高い基板用搬送ステージ、それを備えた描画装置、および、それを用いた描画方法を提供する。
【解決手段】基板用搬送ステージ50は、ベース1と、主走査軸方向としてのY軸方向の走査を行なうY軸モーター5と、Y軸モーター5の可動子としてのY軸テーブル10に載置されY軸方向と交差する副走査軸方向としてのX軸方向の走査を行なうX軸モーター15と、X軸モーター15の可動子としてのX軸テーブル20に載置されY軸方向やX軸方向と直交する直交軸回りの回転を行なうθ軸回転式モーター25およびその可動子としての基板ステージ30と、Y軸テーブル10と基板ステージ30とをロックするロック手段としての摩擦ブレーキ部18とを備えている。 (もっと読む)


【課題】電機子コイルの熱を効率よく排熱する。
【解決手段】 定盤吸引装置を備えることにより、基板ステージWSTの位置に応じて定盤21を挟んで基板ステージWSTの逆側に設けられた第1空間35aが負圧にされ、定盤21に設けられた複数の孔部39aを介して基板ステージWSTの近傍の気体が吸引される。これにより、電機子コイル38の発熱による定盤21上の基板ステージWSTの周辺の気体の温度変動を抑えることが可能となる。そして、干渉計を用いて構成されるウエハ干渉計の高い位置計測精度を維持することができ、ウエハW(基板ステージWST)の位置決め精度を向上するとともにスループットを改善することが可能となる。 (もっと読む)


【課題】移動方向に直交する方向に複数個の露光対象領域が設けられた露光対象基材を一方向に連続的に供給して露光する露光装置において、露光対象基材がその移動方向に直交する方向に伸縮した場合に、マスクの位置を精度よく補正できる露光装置を提供する。
【解決手段】フィルム2には、その移動方向に直交する方向に複数の露光対象領域4が設けられている。光源から出射された露光光は、フィルム移動方向に直交する方向に複数枚配列されたマスク3のパターンを介してフィルムに照射される。フィルム2の露光対象領域間及び両端部には、伸縮確認用マーク2cが設けられており、この伸縮確認用マーク2cをマスクアライメントマークと共にカメラ51により観察し、制御部7は、伸縮確認用マーク2cがフィルム移動方向に直交する方向にずれたときに、駆動部6により、このずれに応じてマスク3の位置を補正する。 (もっと読む)


【課題】検査等の処理の精度を維持しつつ、効率的な処理を行うことができる基板搬送装置を提供すること。
【解決手段】基板Wの撮像処理を施す光学ユニット100と、基板Wを載置して、基板Wを搬送するステージ11とを有するFPD検査装置1であって、ステージ11の搬送方向Dに沿った外縁側に設けられ、搬送方向Dと平行に延びる搬送軸131に沿って基板Wを保持して搬送する第1搬送部132と、基板Wが光学ユニット100にかかる領域で搬送方向Dと平行に延びる搬送軸141に沿って基板Wを保持して搬送し、第1搬送部132と比して高い移動分解能を有する第2搬送部142と、第1搬送部132および第2搬送部142における基板Wの搬送を制御する搬送制御部35と、を備えた。 (もっと読む)


【課題】ウエハステージを精密駆動する。
【解決手段】 ウエハステージWSTは、粗動ステージ82と、微動ステージ83と、微動ステージ83のX軸方向の一側と他側のそれぞれに設けられた一対のボイスコイルモータMbと、微動ステージ83のX軸及びY軸のそれぞれに交差する軸Lc,Lcにそれぞれ平行な方向の一側と他側に設けられた二対のEIコアMc、Mc、Mc、Mcとを備えている。これにより、ウエハWを保持するウエハテーブルWTBを精密に駆動することが可能となるとともに、ボイスコイルモータ及びEIコアを粗動ステージ82内にコンパクトに配置することが可能になる。 (もっと読む)


【課題】複数の構成部材により構成される大型のチャックを用い、大型の基板の温度を均一に精度良く調節して、露光精度を向上させる。
【解決手段】チャック10にほぼ同じ大きさの複数の温度調節領域を設け、チャック10を温度調節領域と異なる形状の複数の構成部材10a,10b,10cにより構成する。チャック10の各温度調節領域に、熱媒体が流れる熱媒体通路11a,11b,11cをそれぞれ独立して設け、チャック10を構成する構成部材10a,10b,10cの境界に位置する温度調節領域の熱媒体通路11b,11cを、隣接する構成部材にまたがって配置する。チャック10の各温度調節領域の温度を別々の温度センサー12で検出し、各温度センサー12の検出結果に基づいてそれぞれ独立に温度を調節した熱媒体を、チャック10の各温度調節領域の熱媒体通路11a,11b,11cへそれぞれ独立して供給する。 (もっと読む)


【課題】検査ステージに載置される基板の貼り付きを防止する。
【解決手段】凹凸状のステージ手2の基板保持部201〜214の表面に規則正しく配列された凸形のピン状パターン29を複数設け、基板と載置面との接触面積を小さくする。ピン状パターン29を基板保持部の全表面に渡って設け、基板保持部の中央付近に真空吸着及び圧空用の穴を複数設ける。真空吸着及び圧空用の穴を基板のサイズに合せその4隅に対応付けて配置する。ピン逃げ穴を千鳥配置とする。基板保持部の基板載置面にプール状窪み部を設け、そこに真空吸着用穴と圧空用穴を設ける。 (もっと読む)


【課題】基板の露光領域を連続する複数の区画に分けて露光する際、各区画の境界でパターンの段差が発生するのを効果的に防止する。
【解決手段】マスクホルダ20に保持されたマスク2の上方に露光量調節板42a,42b,43a,43bを設け、露光量調節板42a,42b,43a,43bを基板1の露光領域の各区画A,B,C,Dの境界付近で移動させて、各区画A,B,C,Dの境界付近へ照射される露光光の光量を調節する。基板1の露光領域の各区画A,B,C,Dの露光時に、露光量調節板42a,42b,43a,43bにより光量を調節した露光光を、各区画A,B,C,Dの境界付近へ重ねて照射する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、確実にダイを剥離できるピックアップ装置を提供すること,または前記ピックアップ装置を用い、信頼性の高いダイボンダまたはピックアップ方法を提供することである。
【解決手段】本発明は、ダイシングフィルムに貼り付けられた複数のダイのうち剥離対象のダイを突き上げて前記ダイシングフィルムから剥離する際に、前記ダイの周辺部のうちの所定部における前記ダイシングフィルムを突き上げて剥離起点を形成し、その後、前記所定部以外の部分の前記ダイシングフィルムを突き上げて前記ダイを前記ダイシングフィルムから剥離することを特徴とする。 (もっと読む)


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