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Fターム[5F031HA56]の内容

ウエハ等の容器、移送、固着、位置決め等 (111,051) | 処理時の固着、保持 (16,861) | ステージ、チャック、サセプタ (15,090) | 動作 (3,584) | 微動テーブル以外のステージの動作 (2,482)

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【課題】基板のロットに対応する処理液の種別ごとに用意された複数のノズルを含む液処理部を備えた液処理装置において、液処理部に発生したトラブルに対して処理効率の低下を抑えることができる技術を提供すること。
【解決手段】一のロットのウエハWの液処理に用いる薬液ノズル25aにおいてトラブルが発生した場合に、その一のロットに対応する薬液ノズル25aの使用を停止し、当該薬液ノズル25aとは別の薬液ノズル25bを用いて処理を行う次のロットについては処理を行うこととする。薬液ノズルにおけるトラブル発生の判断については、処理した各ウエハWの液処理状態を順次検査してその良否を判定し、同一の薬液ノズルを用いて異なる液処理部COT1〜COT3にて処理されたウエハWにおいて、例えば3回連続で不良判定となった場合に、薬液ノズルにおけるトラブル発生と判断する。 (もっと読む)


【課題】走査型電子顕微鏡で表示された観察画面に設けられた仮想点を中心に試料を回転させるローテーションユーセントリック動作において、回転誤差を補正し、画面上の回転中心の位置変動を低減させるステージ装置を実現する。
【解決手段】試料もしくは試料ホルダもしくは回転テーブルに位置と方向が測定可能なマーカーを設け、所定の動作パターンに従ってステージの回転・並進移動を行いそのときのマーカーの位置と方向とを測定し、その結果から回転テーブルの回転中心を同定し、かつ、回転誤差を補正する回転角補正量と回転中心の位置変動を補正する並進補正量とを求め回転角に対する補正量テーブルを作成し、入力された回転角指令値もしくは実回転角に対応した補正量を補正量テーブルから取得して入力された回転・並進指令値もしくは検出された回転角・並進位置を補正してステージを制御する。 (もっと読む)


【課題】従来のステージ装置では、ワークに対する処理精度を維持することが困難である。
【解決手段】ワークWを支持するワークテーブル25と、ワークテーブル25の移動を案内する第1ガイド部81と、第1ガイド部81につなぎ合わされており、ワークテーブル25の移動経路を延長する第2ガイド部82と、つなぎ合わされた第1ガイド部81と第2ガイド部82との間の精度を監視する監視装置87と、を有する、ことを特徴とするステージ装置。 (もっと読む)


【課題】大型化した装置に対して、メンテナンス時の作業性を向上させる。
【解決手段】リペア対象板が載置されるワークテーブルと、当該ワークテーブルの両側に配置されたガイドレールと、当該各ガイドレールに移動可能に支持されて上記ワークテーブル上に架け渡される門型ステージと、当該門型ステージに上記ガイドレールと直交する方向にスライド可能に支持されて上記ワークテーブル上の上記リペア対象板をリペアするリペアユニットとを備えたリペア装置のメンテナンス機構である。このメンテナンス機構を、上記各ガイドレールにそれぞれ嵌合する足台と、当該各足台に載置されて上記ワークテーブル上に架け渡される天板とから構成した。 (もっと読む)


【課題】ウエーハ等被加工物の表面に保護膜を被覆しないでもレーザー光線を照射することによって発生するデブリを被加工物の表面に付着させることなくレーザー加工を施すことができるレーザー加工装置を提供する。
【解決手段】被加工物を保持する被加工物保持機構と、被加工物保持機構に保持された被加工物にレーザー光線を照射する集光器を備えたレーザー光線照射手段と、被加工物保持機構に保持された被加工物を撮像し該レーザー光線照射手段によってレーザー加工すべき加工領域を検出する撮像手段とを具備するレーザー加工装置であって、被加工物保持機構は、被加工物を保持する保持面を下側に向けて配設されたチャックテーブルと、チャックテーブルを加工送り方向に加工送りする加工送り手段と、チャックテーブルを加工送り方向と直交する割り出し送り方向に割り出し送りする割り出し送り手段とを具備し、レーザー光線照射手段の集光器はチャックテーブルの保持面に対向して配設されている。 (もっと読む)


【課題】半導体ウエーハの素子形成面の裏面に、接着シートに代えて、接着剤を直接塗布して、接着剤の塗布膜を所望する膜厚で形成する半導体装置の製造装置及び製造方法を提供する。
【解決手段】半導体装置の製造装置1は、ウエーハWが載置され、載置状態のウエーハWを加熱するステージ6aと、ステージ6aにより加熱された載置状態のウエーハW上の塗布領域に向けて接着剤を複数の液滴として吐出する塗布ヘッド6cとを備える。 (もっと読む)


【課題】比較的簡単な計算で、マスクとワークのギャップを平均化することができ、露光精度を向上することができる近接露光装置及び近接露光方法を提供する。
【解決手段】ギャップセンサ17によってマスクM及びワークWとの間のギャップを4箇所の測定点A、B、C、Dで測定し、4箇所の測定点A、B、C、Dによって画成される四角形ABCDの各辺の中点K,L,M,Nの4箇所の座標のうち、3箇所の中点K、L、Mの座標における各ギャップが一様になるようにZ−チルト調整機構43を駆動する。 (もっと読む)


【課題】重量キャンセル装置を含むステージ装置のメンテナンスを容易かつ迅速に行う。
【解決手段】X粗動ステージ23XをX軸方向に案内するベースフレーム14は、露光動作時を含む露光装置の通常使用時に重量キャンセル装置40をガイドする定盤12よりも+X側に大きく突き出しており、重量キャンセル装置40を定盤12から外れた位置に位置させることができる。従って、重量キャンセル装置40の上方に、その支持対象物である微動ステージ50を位置させたまま、その重量キャンセル装置40のメンテナンス作業を下方から行うことができる。また、重量キャンセル装置40を定盤12から外れた位置で下方に移動させることにより、その重量キャンセル装置40を基板ステージ装置PSTから取り外すことができるので、容易に重量キャンセル装置40を基板ステージ装置PSTから外部に搬出できる。 (もっと読む)


【課題】定盤上の塵を簡単な構造で容易に除去する。
【解決手段】重量キャンセル装置40のベース41aの下面に取り付けられたベースパッド100では、軸受面106aから定盤12に向けて噴出する加圧空気が、コアンダ効果により軸受面106aに連続して形成された傾斜面107に沿って流れる。この際、定盤12上の塵Dがベルヌーイ効果により加圧気体に引きつけられ、その加圧気体とともに、定盤12から離れる方向に案内される。加圧気体は、フィルタ部材126で濾過されてベースパッド100外に排気される。ベースパッド100は、特別な吸引装置などを用いることなく、定盤上12の塵Dを吸引できるので構造が簡単である。 (もっと読む)


【課題】 ウェハステージの移動距離を短くして作業時間を短縮する。
【解決手段】 マスクステージ14は、マスクステージ基準マーク15を備えると共にマスク30を支持する。ウェハステージ16は、マスクステージ14に対して露光光の光軸方向に間隔をあけて配置され、ウェハ40を支持する。ナノインプリント装置24は、ウェハ40上にアラインメントマーク44を形成可能である。オンアクシスカメラ20は、マスクステージ基準マーク15とアラインメントマーク44とを投影光学系12を介して同時に撮像する。位置調整装置26は、マスクステージ14に対するウェハステージ16の位置を調整可能であって、かつ、マスクステージ基準マーク15とアラインメントマーク44をオンアクシスカメラ20によって撮像することにより得られる画像データに基づいて、ウェハステージ16の位置を調整する。 (もっと読む)


【課題】剛性を維持しつつ軽量化を図ること。
【解決手段】基板を保持して移動するステージ部と、当該ステージ部を駆動する駆動機構とを備え、ステージ部及び駆動機構のうち少なくとも一部に、炭化ホウ素、炭化ホウ素並びに炭化ケイ素の混合物、及び、炭化ケイ素並びに炭素の混合物、のうち少なくとも1つの材料が用いられる。 (もっと読む)


【課題】性能の低下を抑制できるステージ装置を提供する。
【解決手段】ステージ装置は、第1ステージと、第1ステージ上において第1ステージに対して水平面内の第1方向に相対的に移動可能な第2ステージとを有する。ステージ装置は、一端部が第1ステージに接続され、他端部が第2ステージに接続され、第1ステージ及び第2ステージの少なくとも一方の移動に伴って、第1方向と交差する方向に配列された複数のケーブルを保持して屈曲可能なケーブル保持装置と、複数のケーブルの配列方向が傾斜するように、水平面に対してケーブル保持装置を傾斜させて支持する支持機構とを備えている。 (もっと読む)


【課題】位置決め装置における外乱力による位置決め誤差を小さくする。
【解決手段】位置決め装置は、第1物体と、第2物体と、第1物体及び第2物体を互いに位置決めする位置決めシステムと、第1物体と第2物体とを接続する柔軟輸送ラインと、を含む。柔軟輸送ラインは、該ラインに沿って変化する剛性を有し、該輸送ラインは力学的な伝達関数による表現が可能であり、該伝達関数は位置決めシステムの閉ループ伝達関数に適合されている。 (もっと読む)


【課題】基板テーブルの異なる領域間の液体の封止を効率よくできるリソグラフィ装置を提供すること。
【解決手段】基板テーブルは基板テーブル本体MBの上面に配置されるカバー部レート100を備え、カバープレート100は平坦で連続的な上面を有するので局所領域タイプの液体供給システムに適用できる。カバープレート100の上面は基板Wの上面とほぼ同一面であり、基板サポートSSと基板テーブル本体MBとの間の凹部の中に液体が進入するのを低減する、又は防止するために、封止突出部200を設置することが可能である。封止突出部200はカバープレート100の底部内縁と基板サポートSSの上面との間を接続する。 (もっと読む)


【課題】液晶露光装置において、ステージ組立て時の位置合わせを容易にする構造を提供する。
【解決手段】ワークを搭載するテーブルと、このテーブルの移動機構を有する可動ステージと、この可動ステージの移動機構を有する固定ステージと、前記テーブル上のワークに対してマスクパターンを露光する露光手段を支持するガントリ部と、を有する液晶露光装置において、前記ガントリ部を固定する固定ステージは、前記可動ステージの移動方向に直角の方向に複数分割可能な構造を有する。 (もっと読む)


【課題】パレット交換時間の短縮を実現するパレット自動交換装置を提供することを目的とする。
【解決手段】パレット収納室2に収納されたパレット3を位置決めするパレット位置決め機構5と、パレット収納室2に対してパレット3を出し入れする方向に移動するパレット固定テーブル20と、パレット3を固定するとともに旋回させる第1の固定部23を備え、パレット固定テーブル20とパレット収納室2の間でのパレット3の交換時にパレット固定テーブル20を移動させながらパレット3旋回させる。 (もっと読む)


【課題】液浸液を液浸露光装置の外周ステージから露光ステージに向かって移動させる際に、有機膜の外周端縁が基板から剥離することを防止する。
【解決手段】液浸露光装置100は、露光ステージ10、外周ステージ20、投影レンズ30および駆動部40を備えている。駆動部40は、露光ステージ10の周囲に配置された外周ステージ20を、有機膜50が上面に設けられた基板52に対して昇降方向に相対駆動する。そして、外周ステージ20は駆動部40により基板52と非接触に相対駆動されるとともに、外周ステージ20の上面22のうち有機膜50に近接する近接縁24の一部または全部は、駆動部40に駆動される下限位置が有機膜50と面一またはその下方であり、上限位置Hが有機膜50よりも上方である。 (もっと読む)


【課題】凸部を備えた半導体ウエハを支持対象とし、凸部に吸着力を確実に付与して半導体ウエハを支持することに適した支持具及び支持装置を提供すること。
【解決手段】外周に閉ループ状の凸部W1が設けられた半導体ウエハWを支持するための支持具11と、当該支持具11を支持するテーブル12とを備えて支持装置10が構成されている。支持具11は、凸部W1の先端面W2を吸着する吸引孔15が設けられたシート状部材16を備えているともに、中央部に通気孔17を備える。このシート状部材16は、凸部W1の先端面W2に密着可能な弾性と、自粘性とを備えた材料により形成されている。ポンプPを作動して吸引力を凸部W1に付与したときに、エアリークを生ずることなくウエハWが支持具11上に確実に支持される。 (もっと読む)


【課題】移動体が自重支持部材相互間で受け渡される際に、その自重に起因する歪みを抑制すること。
【解決手段】
第1自重キャンセラ装置70は、定盤51上でプレートテーブルTBaの自重を支持するとともに、定盤51上を2次元移動可能に設けられている。また、第2自重キャンセラ装置30は、定盤51とは床面F上でプレートテーブルTBaの自重を支持する。第1及び第2自重キャンセラ装置相互間でプレートテーブルTBaを受け渡す際には、第1及び第2自重キャンセラ装置30,70相互間の間隔を一時的にプレートテーブルTBaの寸法より小さくした状態でプレートテーブルTBaを駆動する。 (もっと読む)


【課題】パーティクルを除去し易い姿勢で除電することが出来、効率的にパーティクルを除去することが可能な付着物除去装置を提供すること。
【解決手段】基板(ウエハ10)を保持して基板の延在方向を重力方向に向ける傾斜機構(回転・傾斜機構14)と、前記基板の表面に付着している付着物を電気的に中和する除電機構20とを備える。 (もっと読む)


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