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Fターム[5F031HA61]の内容

ウエハ等の容器、移送、固着、位置決め等 (111,051) | 処理時の固着、保持 (16,861) | 熱処理用ボート (438)

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【課題】縦型熱処理炉を用いた半導体ウェーハの熱処理において、スリップの発生を安定して抑制することができる方法を提供することを目的とする。
【解決手段】縦型熱処理炉のウェーハボートに半導体ウェーハを載置して熱処理を行う方法において、前記ウェーハボートの位置と前記半導体ウェーハの載置位置との相対位置と、スリップ発生量との関係を求め、該求めた関係を基に、前記ウェーハボートの位置と前記半導体ウェーハの載置位置との相対位置の初期位置を設定し、該設定した初期位置から基準値内になるように前記半導体ウェーハを前記ウェーハボートに載置して前記熱処理を行う半導体ウェーハの熱処理方法。 (もっと読む)


【課題】制御パラメータの測定値が、その基準値に対して偏差の上限値を超えた場合と偏差の下限値を超えた場合とで、状況に応じたエラー処理を選択できる。
【解決手段】基板を処理する基板処理室と、記憶部と、基板処理を制御する制御部とを備えた基板処理装置において、記憶部は、プロセスレシピを記憶するプロセスレシピ記憶部と、制御パラメータの基準値を記憶する制御パラメータ記憶部と、制御パラメータの基準値に対する上限偏差値と下限偏差値を記憶するアラーム値記憶部とを備え、制御部は、プロセスレシピ記憶部に記憶したプロセスレシピを実行するプロセスレシピ実行部と、制御パラメータの測定値がアラーム値記憶部に記憶された上限偏差値と下限偏差値を超えたか否か判断し、上限偏差値を超えた場合と下限偏差値を超えた場合とで、異なる処理を実施するエラー処理部とを備える。 (もっと読む)


【課題】基板処理装置を構成する搬送機構が有する基板支持具の設計動作及び検出動作をシミュレートした動画像を生成することにより、基板支持具の異常動作に関する原因判定材料を提供可能な動画像生成装置、動画像生成方法及び動画像生成システムを提供する。
【解決手段】動作データ生成部21bは、受け付けた基板支持具に関する動作の履歴情報2Dに基づいて、基板支持具の検出動作データ4Dを生成する。抽出部21aは、基板処理装置に係るCADデータ1Dから基板支持具の形状データ5Dと設計動作データ6Dとを抽出する。動画像生成装置は、抽出した基板支持具の形状データ5D及び設計動作データ6D並びに生成した基板支持具の検出動作データ4Dに基づいて、基板支持具の設計動作と検出動作とをシミュレートした動画像を生成する動画像生成部21eを備えている。 (もっと読む)


【課題】作業効率の低下を防止する基板処理システムを提供する。
【解決手段】基板処理を実行する基板処理装置と、前記基板処理装置から、前記基板処理装置に関する情報を一括取得する群管理装置と、前記群管理装置を介して、前記基板処理装置に関する情報を取得する端末装置とからなる基板処理システムであって、前記端末装置の操作者に関する情報と、前記端末装置における前記基板処理装置に関する情報の表示に関する情報とを記憶する記憶手段と、前記記憶手段に記憶された、前記端末装置の操作者に関する情報と、前記端末装置における前記基板処理装置に関する情報の表示に関する情報とに基づいて、前記端末装置における前記基板処理に関する情報の表示を制御する制御手段とを有する。 (もっと読む)


【課題】ウェハ表面のエッチング量の均一さを悪化させずに、エッチング量を増加せしめる酸化膜除去方法及びこの方法に用いるバッチ式半導体デバイス製造装置の提供。
【解決手段】フッ化水素又はフッ化アンモニウムをシリコンウェハ表面上の酸化膜と反応させる第1の工程と、この反応によって生じた反応生成物を200℃乃至530℃で加熱・蒸発させて除去する第2の工程とを有するドライエッチング工程を、隣接するシリコンウェハ同士の間隔を2mm乃至5mmに設定して実施する。エッチング室と、マイクロ波励起機構と、ロードロック室と、クリーンブースとで構成され、処理されるシリコンウェハの隣接するウェハ同士を2mm乃至5mmの間隔で載置し得るウェハボートを有している。 (もっと読む)


【課題】基板処理システムを提供する。
【解決手段】ウェハ200を処理する基板処理装置100と、少なくとも一台の前記基板処理装置に接続される群管理システムを含む基板処理システムであって、前記基板処理装置は、前記群管理装置に少なくとも前記基板処理装置の状態を含むデータを送信し、前記群管理装置は、前記基板処理装置から送信される前記データを蓄積する第一の蓄積手段と、前記第一の蓄積手段がデータ蓄積時に待機する第二の蓄積手段と、受信した前記基板処理装置の状態に応じて、前記データの蓄積を前記第一の蓄積手段から第二の蓄積手段へ切替える切替制御手段とを備えた基板処理システム。 (もっと読む)


【課題】基板保持具に基板を搬送するときにパーティクルの基板への付着を防ぎ、且つ熱処理後に基板保持具がローディング室にアンロードされたときにローディング室の上部側の温度上昇を防ぐことができる技術を提供すること。
【解決手段】ローディング室内にて給気口から排気口に向けて清浄気体による横方向の気流を形成する気体循環機構と、前記給気口に設けられ、前記気流についてローディング室の下部側の通気流量に対する上部側の通気流量の流量比率を調整する気流調整機構と、を備えるように装置を構成する。前記気流調整機構は、熱処理後の基板を保持した基板保持具がアンロード位置に待機し、熱処理後の基板の受け渡しが開始される前の状態における前記流量比率が、前記基板保持具に対して基板の受け渡しを行うときの前記流量比率よりも大きくなるように作動して、ローディング室の上部側の冷却を促進する。 (もっと読む)


【課題】密閉型のFOUP1の蓋体3を開閉(着脱)するにあたり、蓋体3を着脱する蓋体開閉機構20に要する機構を少なく抑えながら、開閉領域S3とローディングエリアS2との間に設けられるシール部材56の摩耗を抑えること。
【解決手段】ローディングエリアS2側における搬送口5の開口端が斜め上方を向くように、側壁部4に筒状体5aを気密に接続する。そして、昇降基体22と共にカバー部材23を昇降自在に構成し、カバー部材23に回動体41を設けると共に、昇降基体22が下降する時に、カバー部材23が昇降基体22と共に下降しながら筒状体5aの開口面に対して垂直に移動するように、回動体41の案内される案内部61を設ける。この時、カバー部材23が筒状体5aに向かって移動する時に、当該ドア部材の姿勢を規制するために、カバー部材23と昇降基体22との間にガイド部26を各々設ける。 (もっと読む)


【課題】輸送時に基板搬送容器格納棚の分解を必要とせず、又再組立てを必要とせず、輸送コストを低減できると共に作業性の向上を図る基板処理装置を提供する。
【解決手段】複数枚の基板21が収納される基板搬送容器9と、該基板搬送容器を搬送する基板搬送容器搬送装置15と、該基板搬送容器搬送装置15により搬送された複数の基板搬送容器9が格納される基板搬送容器格納棚11とを具備し、該基板搬送容器格納棚11を高さ方向に伸縮可能とした。 (もっと読む)


【課題】 基板を保持することによる保持体の撓みを抑えること。
【解決手段】 基板を保持するために搬送基体に進退自在に設けられた板状の保持体41の下面に、薄膜状の圧電体5を設ける。この圧電体5は、電圧を印加すると伸長するように構成され、これにより、保持体41に上向きに反る方向の曲げ応力が与えられる。保持体41にウエハWを保持させると、ウエハWの自重により保持体41の先端が下方に垂れるように撓むが、圧電体5に電圧を印加すると、保持体41の下面側が伸長するので、ウエハWの自重による保持体41の撓みに抗して、当該保持体に上向きに反る方向に曲げ応力が与えられ、保持体41の撓みが抑えられる。 (もっと読む)


【課題】ウエハの反りの発生を防止する。
【解決手段】ウエハ11が貼り付けられている支持体13を支持する支持方法であって、支持体13におけるウエハ11が貼り付けられている面とは反対側の被支持面13aの内周部における少なくとも三点を支持点14として、重力に抗して支持する。 (もっと読む)


【課題】ウェーハ14の搬送において、移載禁止されたスロットに移載しないで、前記移載禁止されたスロット以外のスロットにウェーハ14を保持させてボート30に対するウェーハ14の搬送を実現する。
【解決手段】ウェーハ14を載置部に保持するボート30と、複数のスロットにウェーハ14を配置するポッド16と、複数枚又は一枚のウェーハ14を搬送するように構成されている基板移載機28と、特定の載置部に移載禁止指定を受けつけると、複数枚または一枚のどちらか選択しながら前記ウェーハ14を前記特定の載置部を除く他の載置部に保持させつつ前記ボート30に移載させるコントローラ152を有する。 (もっと読む)


【課題】基板を基板保持具に搭載して縦型熱処理炉に搬入し、熱処理を行う熱処理装置において、縦型熱処理炉からアンロードされた基板保持具に搭載された基板を速やかに降温させること。
【解決手段】前面から、当該前面に対向する後面の気流形成用の排気口63aに向って横方向の気流が形成されたローディングエリアS2内にて、熱処理炉2の下方側のアンロード位置におけるウエハボート3Aと前記排気口63aとの間に、アンロードにより高温に加熱された雰囲気を吸引排気するための熱排気用の排気口71が形成された排気ダクト7B,7Cを設ける。アンロードされた高温状態のウエハボート3A近傍の雰囲気は排気ダクト7B,7Cから排気されるので、上方側への熱拡散が抑えられ、横方向の気流がウエハボート3A及びウエハ群に供給されて、熱処理後のウエハを速やかに降温させることができる。 (もっと読む)


【課題】 耐震対応縦型炉及びその稼働方法に関し、小規模な機構により大きな振動に対する耐震性を向上させる。
【解決手段】 ヒーターユニット受けに振動時にヒーターユニットを浮上させるガス浮上機構を設け、ボートユニット受けに振動時にボートユニットを浮上させるガス浮上機構を設けるとともに、ヒーターユニットの上部に、ヒーターユニットの横方向の揺れを制御する磁気的揺れ制御機構を備える。 (もっと読む)


【課題】基板処理装置内で実際に要した搬送時間を群管理装置の側で把握することが可能な基板処理システムを提供する。
【解決手段】基板収容器を搬送する搬送部及び搬送部の動作を制御する制御部を有した基板処理装置と、基板処理装置に接続される群管理装置と、を備える基板処理システムであって、制御部は、搬送部による基板収容器の搬送に要する搬送時間を基板収容器毎に検知する検知手段と、検知手段が検知した搬送時間を群管理装置に通知する通信手段と、を備える。 (もっと読む)


【課題】処理炉内温度補正方法の作業性を向上し、コストを低減する。
【解決手段】処理室内温度補正方法実施前に、温度計測器支持機構10の位置を定義し記憶する(A1)。温度補正方法実施時、温度計測器支持機構10を格納状態から突出状態に移行させ、温度計測器支持機構10をシールキャップ219の開口させた挿入口20の真下に搬送する。温度計測器支持機構10をウエハ移載装置エレベータ125bで上昇させて温度計測器18を挿入口20に挿入する。シールキャップ219をボートエレベータ151で上昇させて、処理炉202をシールキャップ219で閉塞する(A2)。処理炉202内温度をヒータ206で上昇させる(A3)。同時に、処理炉202内温度を温度計測器18で計測する(A4)。温度補正値を算出し記憶する(A5)。均熱温度が規定値内に入るまで繰り返し(A6−7)、規定値に入ると、温度補正方法を終了する。 (もっと読む)


【課題】移載室内のエア滞留発生を抑制して、移載室内における確実なエアフロー形成を実現する。
【解決手段】基板を処理する処理室と、基板を保持した状態で処理室内に対して搬入出される基板保持体と、未処理基板を基板保持体に保持させるチャージ動作および処理済基板を基板保持体から取り出すディスチャージ動作が行われる移載室と、移載室内にクリーンエアを吹き出すクリーンユニットと、を備えた基板処理装置において、クリーンユニットを、平面多角形状に構成された移載室内における角部に配設する。 (もっと読む)


【課題】処理室から搬出される基板保持具から基板を搬送する搬送機構の電装部が高温になるのを抑制することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置は、ウエハを保持するボートと、このボートに保持されたウエハを処理する処理室と、この処理室からボートが搬出される移載室と、この移載室に設けられ、ボートに保持されたウエハを搬送するウエハ搬送機構と、を有し、ウエハ搬送機構は、ウエハを搬送するウエハ移載装置を昇降させる昇降部に動力を伝える動力部と、この動力部の電気的回路を形成する電装部と、この電装部を冷却する冷却装置と、を有する。 (もっと読む)


【課題】磁性流体シールを使用する必要がない磁気浮上型を採用し、しかも装置としてのアキシャル方向の長さを極力短くすることができるようにする。
【解決手段】回転動力を出力する回転子12を備え、回転子12は、回転子12のラジアル方向に配置されて該回転子12のラジアル方向変位を非接触で制御する2組以上のラジアル磁気軸受40と、回転子12の周囲に3組以上に分割配置されて該回転子12のアキシャル方向変位を非接触で制御するアキシャル磁気軸受50によって、所定の位置に非接触で回転支承され、ラジアル磁気軸受40のラジアル電磁石44とアキシャル磁気軸受50のアキシャル電磁石54は、略同一平面上に配置されてケーシング部14に固定されている。 (もっと読む)


【課題】枚葉移載と一括移載を切り替える際に、パーティクル発生を抑制することのできる基板処理装置を提供する。
【解決手段】複数の基板が収容される基板収容器と、複数の基板が積載されるボートと、複数の基板が積載されたボートを収容し前記ボート上の複数の基板を処理する処理室と、前記基板収容器と前記ボートとの間で基板の移載を行う基板移載装置とを備え、前記基板移載装置は、1枚の基板を移載するための枚葉移載用プレートを駆動する第1の駆動部と、複数枚の基板を移載するための一括移載用プレートを駆動する第2の駆動部とを備え、1枚の基板を移載する場合は、第1の駆動部により枚葉移載用プレートを駆動し、複数枚の基板を移載する場合は、第1の駆動部と第2の駆動部により、枚葉移載用プレートと一括移載用プレートを同期して駆動するように、基板処理装置を構成する。 (もっと読む)


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