【課題】半導体ウェーハを非接触状態で持ち上げた際に半導体ウェーハが反ってしまったり自重で外周部が垂れ下がったりする場合にも、半導体ウェーハの水平方向の移動を規制する。
【解決手段】ベース部２０の中心領域２０ａに非接触式吸引保持部２１を備え、ベース部２０の外周領域２０ｂにワークＷの水平方向の移動を規制する規制部２２を備え、ワークＷとの接触面２２３ａを有する規制部２２は、接触面２２３をベース部２０に対して上下方向に移動可能に配設される。接触面２２３ａは、湾曲したワークＷの中央部上面よりも下に位置するワークの外周部上面Ｗ１に接触面２２３ａが接触する下位置と、下位置に位置づけられた接触面２２３ａがワークＷを介してテーブル５上に押し付けられることにより下位置から上方向に逃げる上位置との間で上下動することで、ワークＷを持ち上げた際にワークＷが反ってしまったりした場合でも、板状物の水平方向の移動を規制することができる。 （もっと読む）

【課題】異常発生時の搬送機構の状態を容易に把握でき、異常要因を容易に判断出来るようにする。
【解決手段】基板を搬送する搬送機構に備えられた少なくとも一つ以上のセンサと、該センサが検知した検知データを受信する搬送制御モジュールと、該搬送制御モジュールを制御する搬送系コントローラと、前記検知データに基づいて前記搬送機構の状態を表示する表示部を少なくとも備えた操作部と、で少なくとも構成された基板処理装置であって、異常発生時に、少なくとも前記センサが検知した前記検知データを前記表示部に表示するよう構成される。 （もっと読む）

【課題】プロセス条件測定装置と処理システムとを製造環境と高度に統合化する。
【解決手段】統合化において、プロセス条件測定装置の寸法は製造基板の寸法に近い寸法となり、処理システム８８０は製造基板用として使用する基板搬送装置と類似のものとなる。製造環境に対する障害をほとんど伴うことなくプロセス条件の測定が可能となる。人間の介在をほとんど或いは全く伴うことなくプロセス条件測定装置からユーザへデータ転送を行うことも可能となる。 （もっと読む）

【課題】エンコーダ等の位置計測装置を使用した基板ステージの位置決めを行う際に、スケールの形状に依存する誤差を最小限に抑える露光装置を提供する。
【解決手段】基板５を保持する基板ステージ６と、該基板ステージ６の位置を計測する光学式計測部７と、該光学式計測部７からの計測光の反射対象となるスケール８とを備える露光装置５０であって、基板ステージ６が設置された空間内を温度調節するための温調エアを供給する供給系と排気する排気系を有し、供給系は、基板ステージの走査部周辺に温調エアを供給する第１の供給系１１、排気系１４と、スケール８の設置部周辺に温調エアを供給する第２の供給系１３、排気系１５とを備える。 （もっと読む）

【課題】 半導体ウエハなどの被保持体の絶縁破壊を抑制し、かつパーティクルの付着を特に抑制できる保持用治具および吸着装置を提供すること。
【解決手段】 半導電性を有するセラミックスからなる支持体１６に吸気路２を形成した保持用治具２０であって、吸気路２の表面４は支持体１６における他の表面６より表面抵抗値が小さい領域を有している保持用治具２０とする。また、この保持用治具２０を備え、この保持用治具２０の吸気路２の吸気により、支持体１６の外表面６に対して表面抵抗値が小さい被保持体を吸着可能とした吸着装置とする。 （もっと読む）

【課題】支持体に積層された基板の枚数が少なくなっても確実に基板を１枚ずつ搬出することができる分離装置及びこの分離装置を備え、基板の検査を容易に行うことが可能な基板の検査装置を提供する。
【解決手段】複数の基板Ｗが積層状態で支持された支持体２０から、基板Ｗを１枚ずつ分離して搬出する分離装置１０であって、支持体２０に対して基板Ｗの積層方向に相対移動可能とされるとともに、基板Ｗの表面に吸着して基板Ｗを保持する吸着ヘッド３０と、積層された基板Ｗの側面に向けてエアを噴出して積層された基板Ｗの一部を浮上させて分離するエア分離機構４０と、支持体２０に積層された基板Ｗの数量が一定量以下となったことを検知する数量検知部２７と、数量検知部２７の検知結果に応じてエア分離機構４０からのエア噴射状態を調整するエア分離機構制御部１３と、を備えていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】設備機器側でのウエハマッピングを省くことが可能なウエハカセット、半導体製造システム、及び半導体装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】カセット本体２と、カセット本体２に設けられ、ウエハWが収まる複数のスロットSを画定する複数のスロット区分板３と、複数のスロットSのそれぞれにウエハWが存在するか否かについてのスロット情報D_sを出力するウエハセンサ４と、少なくともスロット情報D_sを含んだカセット情報D_cが格納される記憶部７と、外部の設備機器３３ａ〜３３ｄと記憶部７との間の通信を媒介する通信部８とを有するウエハカセット１による。 （もっと読む）

【課題】半導体製造装置とウエハキャリアとの間に設けられ、前記ウエハキャリアから前記半導体製造装置内へウエハを移送するためのウエハ移送システム中の、塵埃に起因した清浄度の評価効率を低コストで向上させる。
【解決手段】ウエハキャリアの一端を開放して、前記ウエハキャリアを前記ウエハ移送システムと連通させ、次いで、前記ウエハ移送システム内の塵埃を前記ウエハキャリアを介して吸引し、前記塵埃の濃度を計測する。そして、計測された前記塵埃の濃度から前記ウエハ移送システム中の清浄度を評価する。 （もっと読む）

【課題】被処理基板が基板保持機構によって適切に保持されているかを誤検知することなく正確に判断することができ、製造コストを低く抑えることができ、さらに、処理中に被処理基板が破損したとしても直ちにその破損を検知することができる。
【解決手段】処理装置１は、ウエハＷを保持する基板保持機構２０と、ウエハＷに処理液を供給する処理液供給機構３０と、ウエハＷを周縁外方から覆うとともに、基板保持機構２０と一体となって回転可能な回転カップ６１と、を備えている。基板保持機構２０は、一端２２ａでウエハＷを保持しているときには他端２２ｂが上方位置に位置し、他方、一端２２ａでウエハＷを保持していないときには他端２２ｂが下方位置に位置する保持部材２２を有している。当該保持部材２２の他端２２ｂの下方に、保持部材２２の他端２２ｂが下方位置に位置しているときに当該保持部材２２の他端２２ｂに接触可能な接触式センサー１０が配置されている。 （もっと読む）

【課題】停電等の不慮の電力トラブルが生じた場合でも、ハンド位置を検出することができる基板搬送装置を提供する。
【解決手段】ベルト駆動で伸縮する多関節アームを備えた基板搬送装置であって、ハンド６２の位置を検出する検出手段（ハンド位置検出装置）１２０を備え、当該検出手段は、基台６３に対して相対移動可能なロッド部材１２１と、ベルト部材の移動をロッド部材のその軸方向への移動に変換する変換機構１２２と、ロッド部材に装着された磁性ブロック１２３と、磁性ブロックの位置を検出する検出ユニット１２４を有する。本発明によれば、検出ユニットを用いた磁性ブロックの位置検出によってハンドの位置を検出することが可能となる。また、真空中におけるハンドの原点位置への復帰作業も容易となり、装置稼働時間の低下を抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】プローブの位置決めを、比較的広いレンジにおいて、精度良く行うことができる装置を提供する。
【解決手段】プローブ１及び２は、試料２０の近傍に配置される。電子銃３は、試料２０の近傍のＸ−Ｙ平面において、電子ビームを走査させる。プローブ用吸収電流測定部４及び５は、電子ビームの走査に伴ってプローブ１及び２に生じる吸収電流を測定する。プローブにおける吸収電流を測定した時点での電子ビームの照射位置の情報を用いて、プローブの位置を特定することができる。電子ビームの走査によりＳＥＭ画像を取得していれば、ＳＥＭ画像中におけるプローブを特定することも可能である。 （もっと読む）

【課題】ウェーハ等の精密な検査を、製造工程を大きく変化させることなく、製造インラインで行うことができるウェーハ搬送システムを提供する。
【解決手段】ウェーハ等の半導体試料Ｗの製造工程に用いられるものであって、前記半導体試料Ｗを一の工程場所から他の工程場所へ搬送する搬送機構２と、その搬送機構２による搬送路上に設けられたＳＥＭ３と、を備え、前記搬送路の途中に設定した分析位置Ｐにおいて、搬送機構２による半導体試料Ｗの移動を一時的に停止し、その停止時にＳＥＭ３による分析検査が行われるように構成した。 （もっと読む）

本発明は、ウエハのバッチをプロセスボートに装填して一方の面にドーピングするためのウエハ、特にソーラウエハのスタックを形成する方法に関するものであり、これは、上方面積み重ね開口を備えた水平面部にクランプされるように所定の偶数個のウエハが連続的に移送キャリアの受け入れスロット内に供給される。パッケージ密度を高めて、拡散工程の処理量を高めるために、移送キャリアに連続的に供給されたウエハの半数分が、第１のウエハスタックの形態として、移送キャリアから移送キャリアの外側に位置するマウントされた待機位置に出され、そして、移送キャリアに連続的に供給されたウエハの残り半数分が、第２のウエハスタックの形態として、移送キャリアから出され、第２のウエハスタックは、該第２のウエハスタックのウエハが待機位置にある第１のウエハスタックのウエハの位置と１８０°回転した位置に到達するように回転された状態とし、第２のウエハスタックが第１のウエハスタックの待機位置に続いて移動され、それと整列し、第１のウエハスタックとフィッティングを形成するように共に結合して、第１及び第２のウエハスタックの相互に組み合わされるウエハのドーピングがされない面が同時且つ形状一致で相互に当接することにより、それぞれパッケージ状の背中合わせのウエハバッチ（ＢＴＢウエハバッチ）を形成し、そして、ＢＴＢウエハバッチが移動グリッパにより、フィッティングの形態としてピックアップされて、プロセスボートに装填される。 （もっと読む）

本発明は、ウエハーの縁部に堆積された膜質とパーティクルをプラズマエッチングで乾式洗浄する装置であって、外部と隔離された空間を提供し、その上面が蓋体によって開閉される筐体と、上記蓋体の開閉時にその位置を保持するように上記蓋体と離隔された状態で上記筐体の内部に設置される上部電極組立体と、上記筐体の内部において上記上部電極組立体の下方に昇降自在に設置され、その上にはウエハーが載置される下部電極組立体、及び上記下部電極組立体を昇降させる昇降手段と、を含む。また、筐体の外部の上面中心と上部電極組立体の中心には透明な観測窓が設けられてウエハーのアラインメント状態を外部から確認することができる。 （もっと読む）

【課題】半導体ウェーハ収納容器の金属不純物を高回収率で回収し、容器内の金属汚染を高感度に分析し得る手段を提供する。
【解決手段】半導体ウェーハ収納容器内に、シリコンウェーハならびにＨＦガスおよびＨＮＯ₃ガス発生源を配置した後に容器を密閉し、ガス発生源からＨＦガスおよびＨＮＯ₃ガスを発生させて５〜６０分放置した後に、容器内部に発生した液滴を回収し、次いで、回収された液滴中の金属成分を分析する。ガス発生源はフッ化水素酸、硝酸および硫酸を含む溶液である。 （もっと読む）

【課題】付着式ピンセットに対して好適な新規の移載システムを提供する。
【解決手段】
微細部品を付着するための粘着材、この粘着材を先端に導くための導出パイプ、この導出パイプ先端に粘着材を送り出す手段、導出パイプ先端より突出及び後退して、付着した微細部品を離脱するスライドパイプからなる付着式ピンセット１を搭載するキャリア５と、このキャリア５を水平方向に走行案内する走行レール２，３と、キャリア５を上下方向に昇降案内する昇降レール４と、キャリア５を走行及び昇降レール２，３，４に沿って駆動する手段２０，３０，４０と、スライドパイプを前進及び後退する手段とを備えた。 （もっと読む）

【課題】スループット良く且つ高精度で試料の欠陥の検出が可能な基板検査装置を提供する。
【解決手段】基板検査装置１は、真空状態のワーキングチャンバ３０と、Ｌ_aＢ_６電子源を備えた電子光学装置７０と、ワーキングチャンバへウェーハを搬出入するローダハウジング４０と、ワーキングチャンバに接続され、内部が雰囲気制御されているミニエンバイロメント装置２０と、を備える。ローダハウジング４０は、ミニエンバイロメント装置２０に接続する第１のローディングチャンバと、ワーキングチャンバに接続する第２のローディングチャンバと、第１及び第２のローディングチャンバの間の連通を選択的に阻止する第１のシャッタ装置２７と、第２のローディングチャンバとワーキングチャンバとの間の連通を選択的に阻止する第２のシャッタ装置４５と、を備え、第１及び第２のローディングチャンバには各々真空排気配管と不活性ガス用のベント配管とが接続される。 （もっと読む）

【課題】ステージの速度変化に伴う振動を低減することができるステージ装置、電子線照射装置及び露光装置を提供する。
【解決手段】ガイドレール（１０５）に沿って移動するステージ（１０１）が駆動制御されるステージ装置であって、前記ステージ（１０１）が受ける摩擦力の変化に対応して変化し、前記ステージを駆動制御する制御量を前記ステージ（１０１）の位置及び速度の関数として記憶する補正テーブル（１１３ａ）を備え、前記ステージ（１０１）を駆動する駆動トルクを前記補正テーブル（１１３ａ）を用いて制御する。 （もっと読む）

【課題】電気研磨および／または電気めっきプロセスにおいて、ウェーハを移動させるロボットアセンブリにおいて、エンドエフェクタ真空カップ内の粒子を取除き、真空通路に酸などが入るのを防止する装置および方法を提供する。
【解決手段】エンドエフェクタ３０６は、真空弁３２２を介して真空源と、窒素弁３２０を介して加圧窒素源と連結されている。真空弁３２２がオンされると、ウェーハをエンドエフェクタ３０６に押し付けて保持するように、真空カップ３０２内の圧力を低下させる。真空弁３２２がオフされ、かつ、窒素弁３２０がオンされると、エンドエフェクタ３０６は、真空カップ３０２内の圧力が増大されウェーハを開放する。ウェーハが保持されていない時、または移動されていない時は窒素弁３２０をオン状態のままにして、真空カップ３０２内において周囲環境圧力に近いか、またはこの周囲環境圧力よりも高い圧力を維持する。 （もっと読む）

【課題】基板ウエハの汚染を監視するための方法および装置を提供する。
【解決手段】装置が、たとえばＦＯＵＰまたはＳＭＩＦタイプの搬送エンクロージャ１内で直接に汚染を測定するために使用される。搬送エンクロージャ１は、それと外部ガス分析装置２との間の直接連絡を設定するアダプタ５上に置かれる。ガス分析装置２は、サンプリングされたガスをイオン化し、このイオン化によって生じるイオンのパラメータを測定することによって分析を実施する。これは、非常に低いレベルのガス汚染を実時間に測定する。 （もっと読む）