【課題】２つのウエハを高精度で位置合わせする。
【解決手段】 基板貼り合わせ装置１００において、第１及び第２テーブルＴ１，Ｔ２がそれぞれ保持するウエハＷ１，Ｗ２を張り合わせるために第１及び第２テーブルＴ１，Ｔ２を互いに接触した際に、Ｘ干渉計４０Ｘ（第１計測器）が設置された第２テーブルＴ２（ステージ装置３０）が示す共振モードに対して逆相の共振モードを示す第１テーブルＴ１（第１テーブル装置２０）にＸ干渉計４５Ｘ（第２計測器）が設置されている。これらの計測器を用いて１入力２出力系（ＳＩＭＯ系）のフィードバック制御系を構築することにより、第１及び第２テーブルＴ１，Ｔ２間の接触状態に拠らず、制御系を切り換えることなく、高帯域でロバストな第２テーブルＴ２（ステージ装置３０）の駆動を制御する駆動システムを設計することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】基板の露光領域を連続する複数の区画に分けて露光する際、各区画の境界でパターンの段差が発生するのを効果的に防止する。
【解決手段】マスクホルダ２０に保持されたマスク２の上方に露光量調節板４２ａ，４２ｂ，４３ａ，４３ｂを設け、露光量調節板４２ａ，４２ｂ，４３ａ，４３ｂを基板１の露光領域の各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの境界付近で移動させて、各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの境界付近へ照射される露光光の光量を調節する。基板１の露光領域の各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの露光時に、露光量調節板４２ａ，４２ｂ，４３ａ，４３ｂにより光量を調節した露光光を、各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの境界付近へ重ねて照射する。 （もっと読む）

【課題】物体保持装置に保持された物体を迅速に搬出する。
【解決手段】 基板ホルダ３０の上面上に載置された基板Ｐを該基板ホルダ３０から搬出する基板Ｐの搬出方法は、前記基板ホルダ３０に予め保持された基板トレイ６０に前記基板Ｐを下方から支持させることと、前記基板トレイ６０に前記基板Ｐを吸着保持させることと、前記基板ホルダ３０から前記基板Ｐに対して気体を噴出することと、前記基板Ｐが前記基板トレイ６０に吸着保持され、且つ前記基板Ｐに対して前記気体が噴出された状態で前記基板トレイ６０を前記基板ホルダ３０の上面に平行な方向に沿って相対移動させることにより、前記基板Ｐを前記基板ホルダ３０から搬出することと、を含む。 （もっと読む）

【課題】走査型電子顕微鏡で表示された観察画面に設けられた仮想点を中心に試料を回転させるローテーションユーセントリック動作において、回転誤差を補正し、画面上の回転中心の位置変動を低減させるステージ装置を実現する。
【解決手段】試料もしくは試料ホルダもしくは回転テーブルに位置と方向が測定可能なマーカーを設け、所定の動作パターンに従ってステージの回転・並進移動を行いそのときのマーカーの位置と方向とを測定し、その結果から回転テーブルの回転中心を同定し、かつ、回転誤差を補正する回転角補正量と回転中心の位置変動を補正する並進補正量とを求め回転角に対する補正量テーブルを作成し、入力された回転角指令値もしくは実回転角に対応した補正量を補正量テーブルから取得して入力された回転・並進指令値もしくは検出された回転角・並進位置を補正してステージを制御する。 （もっと読む）

【課題】運動性能の向上した基板ステージ装置を提供する。
【解決手段】 基板ステージ２０は、Ｘ軸方向に関する位置を個別に制御可能であってＹ軸方向に関して互いに分離して配置される第１Ｘテーブル２４ａと第２Ｘテーブル２４ｂとを含み、Ｘ軸方向に沿って移動するＸ粗動ステージ２３ｘと、基板Ｐを保持し、Ｘ粗動ステージ２３ｘに誘導されて少なくともＸ軸方向に沿って移動する微動ステージ３０と、Ｙ軸方向に関して第１Ｘテーブル２４ａと第２Ｘテーブル２４ｂとの間に配置され、微動ステージ３０を下方から支持し、微動ステージ３０と共に少なくともＸ軸方向に沿って移動可能な重量キャンセル装置５０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】固有振動数付近の共振による基板貼り合わせ装置の損傷を防止する。
【解決手段】複数の基板を貼り合せる基板貼り合わせ装置であって、複数の基板を貼り合せる基板貼り合わせ装置であって、一方の基板が支持される第１ステージと、第１ステージに対向して配され、他方の基板が支持される第２ステージと、第２ステージを除振する除振部と、除振部および第２ステージを含む系の固有振動数を調整する振動数調整部とを備える。振動数調整部は、予め定められた種類の振動が外部から与えられる旨を検出した場合に、固有振動数を調整してもよい。 （もっと読む）

【課題】基板ホルダの劣化等による貼り合せシステムのトラブルを防止する。
【解決手段】基板を保持した状態で搬送される基板ホルダであって、基板を保持面に保持する本体部と、本体部に設けられ、外部から測定可能な指標と、指標の情報、および、外部からの測定により得られるべき結果の情報を、外部から読み出し可能に記憶する情報記憶部とを備える基板ホルダが提供される。指標は、測定によって互いに異なる複数の結果のいずれか一つが測定されるべく設けられており、情報記憶部は、複数の結果のうちの一つを、基板ホルダを識別する識別情報に対応付けて記憶している。 （もっと読む）

【課題】真空ロボットによる試料搬送時の位置ずれを補正するための簡単な機構を備えた検査装置を提供する。
【解決手段】試料ステージのロードポジション(X_L,Y_L)及びアンロードポジション(X_U,Y_U)と、プリアライナの回転角(θ_L)を保存する。プリアライナ上のウエハを基準方位に対して回転角(θ_L)だけ回転させるプリアライメントを実行し、更に、プリアライナに対するウエハの偏心量(Δx₁,Δy₁)を測定する。この偏心量(Δx₁,Δy₁)に基づいて、試料ステージのロードポジション(X_L,Y_L)を補正する。 （もっと読む）

【課題】基板を撮像する際に基板を吸着保持している吸着部の写り込みを軽減することが可能な検査装置を提供すること。
【解決手段】検査対象の基板Ｗに所定の処理を施す検査ユニット１００および全体像取得部１３と、基板Ｗを載置して、基板Ｗを搬送する搬送ステージ１２，２０，２１とを有するＦＰＤ検査装置１であって、搬送ステージ１２，２０，２１は、少なくとも基板Ｗを搬送する搬送方向Ｄに移動可能に基板Ｗを支持するフリーローラ１２１，２０１，２１１と、基板Ｗを吸着して保持する吸着部、および吸着部を支持し、搬送方向Ｄと平行に延びる搬送軸３１に沿って吸着部を移動させる駆動部３２を有する駆動機構３０と、を有し、吸着部が全体像取得部１３の処理位置に位置した場合に、該当する吸着部を下降させる制御を行う制御部１ｂを備えた。 （もっと読む）

【課題】改善された結像性能を有する装置を提供する。
【解決手段】本発明は、振動絶縁システムを介してベースによって支持されたサポートフレームと、パターンをパターニングデバイスから基板上に転写するように構成された投影システムであって、サポートフレームによってばね支持された第１のフレームを含む投影システムと、第１のフレームの運動を減衰するように構成された能動制振システムであって、第１のフレームの絶対的な運動を表す第１のセンサ出力を供給するように構成された第１のセンサシステム、第１のフレームとサポートフレームの間に力を加えるように配置された第１のアクチュエータシステム、および第１のセンサ出力に基づいて第１のアクチュエータシステムに駆動信号を供給するように構成されたコントロールシステムを含む能動制振システムとを含むリソグラフィ装置に関する。 （もっと読む）

【課題】簡易な構造で、ウェーハの芯出しを精度良く行うことができる低コストの芯出し装置、及びそれを用いた面取り装置を提供する。
【解決手段】位置決めカップ１３がウェーハＷを支持した支持具１４に対して相対的に上方に移動することで、ウェーハＷを位置決めカップ１３のテーパー面１１で支持し、ウェーハＷを支持した時に、振動子１２により印加された振動で、ウェーハＷが前記テーパー面１１を滑って位置決めされ、位置決めカップ１３が支持具１４に対して相対的に下方に移動することで、位置決めされたウェーハＷを支持具１４で支持することによりウェーハＷの芯出しを行うものであるウェーハＷの芯出し装置１０。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィマシンのワークピース２０８の交換中に、投影レンズ１６に隣接するギャップに液浸流体２１２を維持するための装置及び方法が開示される。
【解決手段】装置及び方法は、ワークピース２０８上に像を投影するために構成された光学アセンブリ１６と、光学アセンブリ１６に隣接するワークピース２０８を支持するために構成されたワークピーステーブル２０４を含むステージアセンブリ２０２を備える。環境システム２６が設けられて、光学アセンブリ１６とステージアセンブリ２０２上のワークピース２０８の間のギャップに液浸流体２１２を供給し除去する。ワークピース２０８の露光が完了した後、交換システム２１６がワークピース２０８を取り出し、第２ワークピースに置き換える。液浸流体維持システム２１４が設けられて、第１ワークピース２０８を取り出し、第２ワークピースに置き換える間、ギャップに液浸流体２１２を維持する。 （もっと読む）

【課題】ワークの姿勢を良好にアライメントできるアライメント装置、基板処理装置、およびアライメント方法を提供する。
【解決手段】注目マーク９４ａが初期位置Ｐ０から第１計測位置Ｐ１へ第１距離Ｄ１だけ移動した後、位置演算部は、対応撮像部にて撮像された第１撮像画像に基づいて、第１撮像画像の座標系における注目マーク９４ａの第１計測位置Ｐ１を演算する。また、位置演算部は、注目マーク９４ａが第１計測位置Ｐ１から第２計測位置Ｐ２に移動した後、対応撮像部により撮像された第２撮像画像に基づいて、第２撮像画像の座標系における第２計測位置Ｐ２を演算する。続いて、演算された第１および第２計測位置Ｐ１、Ｐ２と、第１角度θ１と、に基づいて、回転軸３５ａから見た注目マーク９４ａのマーク位置を演算する。そして、求められた各アライメントマークのマーク位置を通る直線を求めることによって、主走査方向に対する基板の傾きを求める。 （もっと読む）

【課題】試料がすべらない加速度でステージを移動可能が描画装置および方法を提供する。
【解決手段】描画装置１００は、描画対象となる試料の裏面を支持する、移動可能なＸＹステージ１０５と、試料の裏面の種別が把握可能な種別情報を入力し、種別情報に定義された試料の裏面の種別に応じてステージを移動する際の最大加速度を取得する加速度取得部３２と、荷電粒子ビームを用いて、最大加速度を超えないようにステージを移動させながら試料にパターンを描画する描画部１５０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】高精度の測定システムを含むステージ装置を提供する。
【解決手段】オブジェクトテーブルの位置依存信号を測定するように構成された測定システムであって、測定システムは、オブジェクトテーブル上に取り付け可能な少なくとも１つのセンサと、実質的に静止しているフレーム上に取り付け可能なセンサターゲットオブジェクトとを含み、実質的に静止しているフレーム上にセンサターゲットオブジェクトを取り付けるように構成された取付けデバイスであって、測定システムは、実質的に静止しているフレームに対するセンサターゲットオブジェクトの移動及び／又は変形を補償するように構成された補償器をさらに含む。補償器は、受動式又は能動式ダンパ及び／又はフィードバック位置コントローラを含んでもよい。代替実施形態では、補償器は、可動オブジェクトの高精度移動中に、センサターゲットオブジェクトの位置を固定する把持デバイスを含む。 （もっと読む）

【課題】フィルムの貼付時にフィルムがウェーハのノッチ等に残存するのを防止する。
【解決手段】フィルム貼付装置は、フィルム（３）を繰出す繰出手段（２１）と、繰出手段により繰出されたフィルムに、ウェーハ（２０）のノッチ（２９）またはオリエンテーションフラットの少なくとも一部分に応じた形状の開口部（４６）を形成する開口部形成手段（４０）と、開口部形成手段によりフィルムに形成された開口部にウェーハのノッチまたはオリエンテーションフラットの少なくとも一部分を位置決めする位置決め手段（３６）と、位置決め手段により位置決めされたウェーハにフィルムを貼付ける貼付手段（２４）と、を具備する。なお、開口部はフィルムおよび該フィルムに貼付けられたライナの両方に形成されるのが好ましい。さらに、開口部形成手段により生じたフィルムの一部分を吸引して回収するのが望ましい。 （もっと読む）

【課題】基板の搬送台を用いることなく簡単な構成で基板のロード／アンロードを行うと共に、露光むらを抑制し、かつ、チャックを軽量化する。
【解決手段】チャック１０の表面に、複数の土手１１を設け、複数の土手１１により複数の真空区画１２とチャックの幅に渡る複数の非真空区画１３とを形成する。高さが複数の土手１１より低い複数の細長い基板支持部材３２をチャック１０の幅に渡ってチャック１０の非真空区画１３に配置し、複数の基板支持部材３２の両端をチャック１０の幅より大きな幅を有するフレーム３０に取り付ける。フレーム３０を上昇させ、基板１を複数の基板支持部材３２により支持してチャック１０から持ち上げ、フレーム３０を下降させ、複数の基板支持部材３２により支持された基板１をチャック１０に搭載する。 （もっと読む）

【課題】クランプ−物体インターフェースでのグリップを増加および／または最大にすることができるサポート構造を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置内の交換可能な物体（例えば、パターニングデバイス）を位置決めするサポート構造。サポート構造は、チャックと、チャック上で第１方向にお互いから間隔を空けて配置された少なくとも２つのクランプ機構とを有する。各クランプ機構は物体を支持しかつ物体に局所的クランプ力を加えて物体を保持するように構成された複数の真空部分を有する。真空部分間の離隔は第1方向とは異なる第２方向である。真空部分はお互いに対して移動してよい。各真空部分は、真空圧を伝達させて物体を適切な位置に保持するためにチャネルを含んでよい。クランプ機構の剛性は、各クランプ機構と物体とのインターフェースにおける応力および／または滑りを減少および／または回避する。 （もっと読む）

【課題】 改良型の測定システムを提供すること。
【解決手段】測定システムは、オブジェクトの位置量を導き出すように構成され、測定システムは、それぞれの位置量測定信号を提供するように構成された少なくとも１つの位置量センサと、位置量測定信号からオブジェクトの位置量を決定するように構成された位置量計算機とを含む。位置量計算機はオブジェクトのねじりを推定するように構成されたねじり推定器を含み、位置量計算機は推定ねじりに対してオブジェクトの決定位置量を補正するように構成される。 （もっと読む）

【課題】生産性を低下させることなく、基板レベルでの測定を行うことのできるリソグラフィ装置の提供。
【解決手段】シングル・ステージ又は複数ステージのリソグラフィ装置において、例えば基板テーブル交換、及び／又は基板のロード及びアンロードの間、テーブルが液体供給システムに対して閉じ込め用の面を形成する。一実施例では、テーブルは、例えば基板テーブル交換、及び／又は基板のロード及びアンロードの間に投影ビームの測定を行うセンサを有している。 （もっと読む）