【課題】 載置される基板の加工または検査を高精度に行なう要求に応える。
【解決手段】 外側第１リニアガイド６ａは、ステージベース５に接続された、第１方向に沿って直線状である外側第１レール１１ａと、外側第１レール１１ａに取り付けられ、外側第１レール１１ａ上を第１方向に沿って移動可能であるとともに、第１テーブル７に接続された外側第１スライダ１２ａとを有する。内側第１リニアガイド１２ｂは、ステージベース５に接続された、第１方向に沿って直線状である内側第１レール１１ｂと、内側第１レール１１ｂに取り付けられ、内側第１レール１１ｂ上を第１方向に沿って移動可能であるとともに、第１テーブル７に接続された内側第１スライダ１２ｂとを有する。第２リニアガイド８の第２レール１８の熱膨張率は、第１テーブル７の熱膨張率よりも大きい。内側第１スライダ１２ｂの高さＨｂは、外側第１スライダ１２ａの高さＨａよりも小さい。 （もっと読む）

【課題】露光装置の構造部材の振動を抑制する。
【解決手段】 露光装置は、構造部材と、基板ステージの駆動に起因して発生する構造部材に対する駆動反力を相殺する第１カウンタマスステージと、レチクルステージの駆動に起因して発生する構造部材に対する駆動反力を相殺する第２カウンタマスステージと、構造部材と第１カウンタマスステージとの間に力を発生させる第１カウンタマス駆動部と、構造部材と第２カウンタマスステージとの間に力を発生させる第２カウンタマス駆動部と、制御部とを備える。制御部は、構造部材に作用する力の情報を取得し、第１カウンタマス駆動部により構造部材と第１カウンタマスステージとの間に力を発生させると同時に、第２カウンタマス駆動部により構造部材と第２カウンタマスステージとの間に力を発生させることによって構造部材に作用する力を相殺するように第１カウンタマス駆動部及び第２カウンタマス駆動部を制御する。 （もっと読む）

【課題】従来のステージ装置では、ワークに対する処理精度を維持することが困難である。
【解決手段】ワークＷを支持するワークテーブル２５と、ワークテーブル２５の移動を案内する第１ガイド部８１と、第１ガイド部８１につなぎ合わされており、ワークテーブル２５の移動経路を延長する第２ガイド部８２と、つなぎ合わされた第１ガイド部８１と第２ガイド部８２との間の精度を監視する監視装置８７と、を有する、ことを特徴とするステージ装置。 （もっと読む）

【課題】テーブル板の回転可能角度が大きく、そして十分な耐荷重性を示す滑動テーブルを提供すること。
【解決手段】基台１１の上にテーブル板１３を複数の支持ユニット２１を介して滑動可能に支持してなり、支持ユニット２１が、基台に固定された中央に開口２２ａを備える固定支持板２２と、固定支持板の上面に複数の球体２７が保持された中央に開口２３ａを備える球体保持板２３を介して滑動可能に配設され、上記固定支持板の開口２２ａの内部に延びる滑動制限軸２８を持つ滑動支持板２５とを含み、そして上記開口２２ａ、２３ａが、共に一方の径が長い長方形をなし、その長い径の方向が共にテーブル板の中心点を中心とする円弧の接線１３ｃに沿うように配設され、そして上記開口２２ａの領域内に球体２７が移動しないよう、球体保持板２３と固定支持板２２とのそれぞれに、互いに係合して球体保持板の滑動可能範囲を制限する手段３３が設けられていることを特徴とする滑動テーブル。 （もっと読む）

【課題】所定の材料を真空チャンバー内部の任意の箇所に正確に搬送する真空フィードスルーを提供する。
【解決手段】真空フィードスルー１０Ａは、パイプ１１とその内部空間に位置するシャフト１２とパイプ１１の外周面を長さ方向へスライド可能なマグネットスライダー１３とシャフト１２の後端部に取り付けたマグネットホルダーとを有し、パイプ１１の内部空間前端部に取り付けたシャフト１２を径方向中央に保持する固定ホルダーと、シャフト１２の後端部に取り付けたシャフトを径方向中央に保持する移動ホルダーとを含み、固定ホルダーは、シャフト１２の外周面をスライド可能に支持するスライドベアリングを備えた支持ハウジングを有し、移動ホルダーは、弾性変形可能なアームと、長さ方向へ回転可能なローラと、アームをパイプの内周面に向かって強制的に弾性変形させてローラをパイプの内周面に押し当てるテーパープラグとを有する。 （もっと読む）

【課題】気流制御を通して基板を均一に加熱することが可能な加熱処理装置およびこれを備える塗布現像装置を提供する。
【解決手段】基板を収容可能で、前記基板Ｓが通過する第１の搬入口６２Ｉおよび第１の搬出口６２Ｏを有する筐体と、前記第１の搬入口６２Ｉから前記第１の搬出口６２Ｏへ向かう方向に前記基板Ｓを搬送する第１の搬送機構と、前記第１の搬送機構により前記筐体内を搬送される前記基板Ｓを加熱するヒータ７２と、前記筐体に設けられる排気口であって前記第１の搬入口６２Ｉおよび前記第１の搬出口６２Ｏから前記排気口に至る気流を形成可能な当該排気口と、前記第１の搬入口６２Ｉおよび前記第１の搬出口６２Ｏの一方または双方に臨んで設けられ、吸気により前記気流を調整する当該吸気口とを備える加熱処理装置が開示される。 （もっと読む）

【課題】基板を容易にホットプレート上の所定位置に位置決めする。
【解決手段】熱処理装置は、基板（ウェハ１）を加熱するホットプレート２と、ホットプレート２上の所定の熱処理位置にて基板の外周を位置決めする複数のガイド部材（ガイドピン３）とを有する。熱処理装置は、更に、ガイド部材の少なくとも１つである可動ガイド部材（可動ガイドピン３１）を移動させる移動部４を有する。移動部４は、基板が熱処理位置に位置するときの基板の外形線よりも外側の第１位置から、基板が熱処理位置に位置するときに可動ガイド部材により基板の外形線を位置決めする第２位置へと、可動ガイド部材を移動させる。 （もっと読む）

【課題】 露光エリア内任意の位置で気体の濃度測定可能な露光装置を提供すること。
【解決手段】 基板上面と投影光学系１の間に所定の気体を供給する気体の供給手段を持つ露光装置において、前記領域の気体を取得する気体取得手段としての貫通孔１１と、前記気体取得手段で取得した気体の濃度を測定する雰囲気を測定する測定器５を有し、更に前記気体取得手段が移動ステージ４と共に移動可能であることを特徴とする露光装置。 （もっと読む）

【課題】チャンバ内の雰囲気を安定化することができる加熱装置および気相成長装置を提供する。
【解決手段】処理対象物の保持面ＲＰを有し、サセプタガイド２１に回転可能に保持されるサセプタ３が、該サセプタ３を取り囲む、チャンバ５の穴部ＨＬに設けられる。内周面を有する第１のリング部３１が、穴部ＨＬを取り囲むようにチャンバ５に取り付けられ、外周面を有する第２のリング部３２が、サセプタガイド２１に取り付けられる。第１のリング部３１の前記内周面と第２のリング部３２の前記外周面とが互いに対向することによって、幅を有する隙間が形成され、該隙間は、幅よりも大きい長さに渡って、サセプタ３の保持面ＲＰと交差する方向に延びている。 （もっと読む）

【課題】基板を鉛直方向に向けて搬送する場合にも安定した高速搬送が可能な基板搬送装置及び真空処理装置を提供する。
【解決手段】基板３ａ、３ｂを保持するトレイ４ａ、４ｂ、軸受（案内部材）６を介して搬送路７の上を移動するキャリア２０、キャリア２０を搬送路７に沿って移動させる駆動手段を具備する。駆動手段の駆動により搬送路に沿って基板を搬送路を含む面に対して鉛直方向に向けて搬送する。その際、搬送路７の床面との接触部分に搬送路７に沿って防振材８を配置し、キヤリア２０の搬送時の振動を抑制する。 （もっと読む）

【課題】IMSシステムにおいてポッドの蓋に付随する極微小な塵等のミニエンバイロンメント内への拡散を抑制するポッド及び該ポッドに応じたFIMSシステムを提供する。
【解決手段】ポッドの蓋外側面内に被係合部を配置し、ポッド開口周囲に配される該蓋が嵌合可能なフランジ部に対して外部空間より該被係合部にアクセス可能となる挿通孔を配する。ラッチ機構はフランジ部におけるポッド本体側の面においてフランジ側壁に平行な方向に摺動可能に支持され、該ラッチ機構における係合部は該挿通孔を介して被係合部に至り、該ラッチ機構の移動に応じて係合及び非係合の状態変化を為す。 （もっと読む）

【課題】 ワーク載置装置からワークを取り出して保持する際、及び、保持しているワークをワーク載置装置に載置する際に、ワークの横ずれを防止するガイド部材がワークの周縁部と接触することを防止することが可能な移載装置を提供する。
【解決手段】 パラレルメカニズムロボット１００に取り付けられた非接触保持装置１は、正方形の板状のベース部材１０と、ベース部材１０の裏面中央部に取り付けられたベルヌーイチャック２０と、ベルヌーイチャック２０を挟んで対向して配置されて、ベース部材１０の裏面に突設された８本のピン状のガイド部材３０とを備えている。対向するガイド部材３０は、互いに離れる方向に移動可能に構成されており、ワーク載置トレイ７０，７１のワーク載置面７５にベルヌーイチャック２０が近づくに従って、該ワーク載置トレイ７０，７１に形成されているガイド案内孔７２の内面に沿って、互いに離れる方向に移動する。 （もっと読む）

【課題】インプリントリソグラフィ装置のスループットを改善することができる、インプリントリソグラフィ装置用の振動絶縁システムを提供する。
【解決手段】インプリントリソグラフィ装置１００は、基板ホルダ１２０に対してインプリントテンプレートホルダ１１０を変位させるアクチュエータ１３０を備える。インプリントテンプレートホルダ１１０および／または基板ホルダ１２０の支持構造１４０は、基部１６０に取り付けられた振動絶縁システム１５０に取り付けられる。振動絶縁システム１５０は、基部１６０に対する支持構造１４０の振動を絶縁する。インプリント過程中にアクチュエータ１３０を制御する制御ユニットは、振動絶縁システム１５０の調節部材を制御して、インプリント過程の少なくとも一部の間、振動絶縁システム１５０の動特性を調節し、支持構造１４０に作用する力による、基部１６０に対する支持構造１４０の変位を低減させる。 （もっと読む）

【課題】 基板搬送装置において、パーティクルによる基板の汚染を極力防止する。
【解決手段】 ピック本体１１５には、拡散防止部材としての拡散防止カバー１２１が装着されている。拡散防止カバー１２１は、摺動ブロック１２３とリニアガイド１１９とが擦れることによって発生し、落下してくるパーティクルを受け止める底壁部１２１ａと、この底壁部１２１ａから略垂直に立ち上がる側壁部１２１ｂとを有する。側壁部１２１ｂは、底壁部１２１ａと同様にパーティクルを受け止めるとともに、パーティクルが外部へ飛散しないように封じ込める。 （もっと読む）

【課題】本発明は、搬送装置のメンテナンス作業を効率よく行うことができる搬送装置のメンテナンス方法を提供する。
【解決手段】 マスクケース搬送装置（２９）のメンテナンス方法は、ＣＺ軸駆動部（２６）によってケース保持部（２３）を上下方向の第１位置に配置する工程（Ｓ１０２）と、最上段、最下段および中央段に設けられた複数のＣＺ軸駆動部２６のカバー部材のうち第１位置に配置されたケース保持部と異なる高さに位置するカバー部材を取り外す第１取り外し作業を行う工程（Ｓ１０６）と、第１取り外し作業後に取り外されていない複数の前記カバー部材のうち第１位置に配置されたケース保持部と異なる高さに位置するカバー部材を取り外す第２取り外し作業を行う工程（Ｓ１０７）と、を含む。 （もっと読む）

【課題】発塵が抑制されるウエハキャリアを提供する。
【解決手段】ウエハキャリア１０は、半導体ウエハが載置される下部ユニット３０と、下部ユニット３０が着脱可能であり、取り付けられた下部ユニット３０との間に半導体ウエハ２００を収容する密閉空間を形成する上部ユニット２０を備えている。下部ユニット３０には、載置された半導体ウエハ２００の外周縁に当接する位置決め部材４０が、周方向に沿って複数設けられている。各々の位置決め部材４０は、例えば一軸回りに回転可能なローラ部材であって、回転可能に支持されている。 （もっと読む）

【課題】剥離速度を考慮できる剥離性評価方法および剥離性評価装置を提供すること。
【解決手段】被着体に貼付された接着シートから被着体を剥離するときの剥離性を評価するにあたり、被着体および接着シート間の剥離性の評価に用いる評価用剥離速度を算出して剥離性を評価する。例えば、接着シートが貼付された測定用部材または被着体から接着シートを複数の異なる剥離速度で剥離させたときの剥離力を測定し、測定した剥離力および測定時の剥離速度に基づいて、測定時とは別の剥離装置で接着シートから被着体を剥離させるときの評価用剥離速度を算出する。 （もっと読む）

【課題】振動の影響を受けることなく位置合わせする。
【解決手段】定盤から支持されて、第一基板を保持する第一ステージと、定盤から支持されて、第一ステージに保持された第一基板に対向させて第二基板を保持する第二ステージと、第二ステージまたは第二ステージに保持された第二基板を観察する第一顕微鏡と、第一ステージまたは第一ステージに保持された第一基板を観察する第二顕微鏡と、定盤から第一ステージへの振動伝播を抑制する第一除振部とを備え、第一顕微鏡および第二顕微鏡による観察から検出した相対位置に基づいて第一ステージ及び第二ステージの少なくとも一方を移動させることにより、第二ステージに保持された第二基板と、第一ステージに保持された第一基板とを互いに位置合わせする位置合わせする。 （もっと読む）

【課題】クランプ時に基板に無理な力が生じることにより発生する課題を解決する装置の提供。
【解決手段】大型ガラス基板等の基板０をその保持高さを精密に維持しつつ面内方向に自由に移動できるように案内する基板案内手段と、当該基板案内手段に保持された前記基板を面内の特定の方向に移動させるための基板駆動手段とを具備してなり、基板駆動手段が、大型ガラス基板等の基板を把持するための複数のクランプ部と、これらのクランプ部を同期させて駆動することにより、基板を基板案内手段に保持させつつ、特定方向に移動させ位置決めを行う基板駆動部とを具備してなる基板移送装置４において、クランプ部２１により基板０をクランプした際に、その基板０に無理な力が作用しないように、クランプ部２１を基板０の面外方向に逃がすための逃がし機構５９をさらに備える。 （もっと読む）