【課題】薄板状ワークがより薄くても、この薄板状ワークに移動力を確実に伝えて滞りなくそして蛇行なく安定して搬送することが可能である薄板状ワーク搬送装置及び薄板状ワーク搬送方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板Ｗの下面に空気を吹き付けて非接触状態で支持するエア浮上ユニット２と、ガラス基板Ｗの下面に接触してワーク搬送方向の移動力を付与する搬送ローラ３７を備え、エア浮上ユニット２は、ガラス基板Ｗの下面に向けて空気を噴出させる多数の空気噴出孔２４ａを有し、且つ、ワーク搬送方向と直交する断面形状が下方に凸の湾曲形状を成すワーク非接触支持板２４を具備し、搬送ローラ３７をワーク搬送方向と直交する方向の中央に配置して、エア浮上ユニット２のワーク非接触支持板２４から上方に突出する周縁部をガラス基板Ｗの下面に接触させてワーク搬送方向の移動力を付与する。 （もっと読む）

【課題】電機子コイルの熱を効率よく除熱する。
【解決手段】 平面モータ５０を構成する固定子６０内の電機子コイル３８の熱は、定盤２１の本体部３５内に設けられた熱伝導素子７１ａを介して、定盤２１の底部に配置された流路７１ｂ内の冷媒に伝熱され、この流路７１ｂを有する蒸発器７１を含んで蒸気圧縮冷凍サイクルを構成する冷却装置により効率良く除熱される。これにより、定盤２１上の基板ステージＷＳＴの周囲の雰囲気の揺らぎを抑えることが可能となる。そして、干渉計を用いて構成されるウエハ干渉計の高い位置計測精度を維持することができ、ウエハＷ（基板ステージＷＳＴ）の位置決め精度を向上するとともにスループットを改善することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】ウエハステージを精密駆動する。
【解決手段】 ウエハステージＷＳＴは、粗動ステージ８２と、微動ステージ８３と、微動ステージ８３のＸ軸方向の一側と他側のそれぞれに設けられた一対のボイスコイルモータＭｂと、微動ステージ８３のＸ軸及びＹ軸のそれぞれに交差する軸Ｌｃ_１，Ｌｃ_２にそれぞれ平行な方向の一側と他側に設けられた二対のＥＩコアＭｃ_１、Ｍｃ_２、Ｍｃ_３、Ｍｃ_４とを備えている。これにより、ウエハＷを保持するウエハテーブルＷＴＢを精密に駆動することが可能となるとともに、ボイスコイルモータ及びＥＩコアを粗動ステージ８２内にコンパクトに配置することが可能になる。 （もっと読む）

【課題】電機子コイルの熱を効率よく排熱する。
【解決手段】 定盤吸引装置を備えることにより、基板ステージＷＳＴの位置に応じて定盤２１を挟んで基板ステージＷＳＴの逆側に設けられた第１空間３５ａが負圧にされ、定盤２１に設けられた複数の孔部３９ａを介して基板ステージＷＳＴの近傍の気体が吸引される。これにより、電機子コイル３８の発熱による定盤２１上の基板ステージＷＳＴの周辺の気体の温度変動を抑えることが可能となる。そして、干渉計を用いて構成されるウエハ干渉計の高い位置計測精度を維持することができ、ウエハＷ（基板ステージＷＳＴ）の位置決め精度を向上するとともにスループットを改善することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】短時間で基板を交換できる基板供給装置を提供する
【解決手段】基板供給装置１は、一体に回転および昇降可能に設けられ、回転軸周りに対称に配置された複数のアーム４と、それぞれ、アーム４に遊びを有するように支持され、且つ、基板を保持可能な複数の小定盤６と、アーム４の回転および昇降によって小定盤６が載置され、且つ、小定盤６を遊びの範囲内で位置決めして保持する定盤保持機構９，１０を備える主定盤７とを備える。 （もっと読む）

【課題】基板を露光する途中での、基板の取り外しを前提とする基板保持部材の採用を可能にする位置合わせ方法を提供する。
【解決手段】 基板Ｐ上に複数の区画領域（ＳＡ１、ＳＡ２等）を形成するに当たり、基板Ｐ上に区画領域を形成する度毎に、基板Ｐを該基板Ｐの面に平行な面内でステップ移動し、該ステップ移動の前後で、基板Ｐの同一の検出対象部（例えばエッジ）の位置情報を例えば複数のセンサ１２２Ｘ_１、１２２Ｘ_２、１２２Ｙ_１を用いて検出し、その検出結果に基づいて、区画領域の形成の際に、基板Ｐを露光領域ＩＡに対して位置合わせする。 （もっと読む）

【課題】物体保持装置に保持された物体を迅速に搬出する。
【解決手段】 基板ホルダ３０の上面上に載置された基板Ｐを該基板ホルダ３０から搬出する基板Ｐの搬出方法は、前記基板ホルダ３０に予め保持された基板トレイ６０に前記基板Ｐを下方から支持させることと、前記基板トレイ６０に前記基板Ｐを吸着保持させることと、前記基板ホルダ３０から前記基板Ｐに対して気体を噴出することと、前記基板Ｐが前記基板トレイ６０に吸着保持され、且つ前記基板Ｐに対して前記気体が噴出された状態で前記基板トレイ６０を前記基板ホルダ３０の上面に平行な方向に沿って相対移動させることにより、前記基板Ｐを前記基板ホルダ３０から搬出することと、を含む。 （もっと読む）

【課題】基板材料の傷付きを抑制可能とし、基板材料の位置合わせを簡易かつ高速に実施可能とする基板位置調整方法、基板搬送システム、および太陽電池セルの製造方法を得ること。
【解決手段】基板材料１１を搬送するための搬送手段から、基板材料１１の位置調整のための支持手段である支持棒１３上へ、基板材料を置き換える第１置き換え工程と、支持手段から、基板材料１１のうち支持手段の側の面へ流体を供給し、流体の圧力により、支持手段から基板材料１１を浮上させる流体供給工程と、浮上している状態の基板材料１１の、水平方向における位置を調整する位置調整工程と、流体の供給を停止し、位置調整工程を経た基板材料１１を支持手段へ降下させ載置する降下工程と、基板材料１１を、支持手段から搬送手段へ置き換える第２置き換え工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】小型かつ簡単な構成で、ステージを水平方向に移動または垂直軸回りに回転させることが可能なステージ装置を提供する。
【解決手段】ベース２と、ベース２にエアベアリング６１を介して設けられたステージ３とを具備するステージ装置１であって、ベース２およびステージ３の対向面のいずれか一方に、対向面と平行な第１の移動方向に沿って複数の第１の一次側磁束発生部４ａが互いに平行に設けられ、第１の移動方向と直交し、かつ、対向面と平行な第２の移動方向に沿って第２の一次側磁束発生部４ｂが設けられ、対向面の他方に、第１および第２の一次側磁束発生部４ａ、４ｂに各々対向するようにして第１および第２の二次側磁束発生部５ａ、５ｂが設けられ、第１および第２の一次側磁束発生部４ａ、４ａ、並びに、第１および第２の二次側磁束発生部５ａ、５ｂの各磁極面を前記対向面と略平行に形成した。 （もっと読む）

【課題】マスクをプリアライメントする際に、マスクとマスクが接する面との間の摩擦によってマスクが損傷するのを防止することが可能な露光装置を提供する。
【解決手段】基板Ｗに対してマスクＭを介して露光用光ＥＬを照射し、基板ＷにマスクＭのパターンＰを露光する近接スキャン露光装置１は、マスクチェンジャー１２０のマスクトレー部１２１は、マスクＭの下面にエアを供給して、マスクＭを浮上させるエア供給機構１２５と、浮上したマスクＭの端面と当接して、マスクＭを位置決めするマスク用位置決めピン１９６と、浮上したマスクＭの端面をマスク用位置決めピン１９６に向けて押圧する押圧機構１９８と、を有する。 （もっと読む）

【課題】照射光の広域な波長に亘って安定した低反射率を得られ、安定した二重露光防止作用と良好な露光作用を得られるとともに、液晶ディスプレイの軽量化と大型化に対応し、設備費と反射率の低減を図れるとともに、基板ステージの機能低下や故障を未然に防止し、低反射率の液晶基板保持盤を確実かつ安価に製造できる、液晶基板保持盤およびその製造方法を提供する。
【解決手段】母材１１表面に低反射率の材料からなる溶射皮膜１２を形成したこと。前記溶射皮膜１２の表面に透明または半透明の基板Ｗを保持可能な支持部１３を形成した液晶基板保持盤であること。前記溶射皮膜１２をアルミナとチタニアを含有する複合材料（Ａｌ₂Ｏ₃−α％ＴｉＯ₂）で形成したこと。前記溶射皮膜１２表面の全反射率を、光の波長３６０〜７４０ｎｍの範囲に亘って９％以下に形成したこと。 （もっと読む）

【課題】塗布膜に形成されるムラの発生を抑えるとともに、タクトタイムを短縮できる塗布装置および塗布方法を提供する。
【解決手段】基板１０上に吐出装置３aから塗布液を吐出し、塗布後に塗布基板を乾燥装置５に浮上搬送機構６により搬送する塗布装置１であって、前記浮上搬送機構は振動浮上機構４２を有し、搬送工程において基板上に塗布された塗布膜を前記振動浮上搬送機構により基板に生じる振動により引き起こされるレベリング効果より塗布膜に生じる塗布ムラを解消する。 （もっと読む）

【課題】一の搬送方向と該一の搬送方向と直交する搬送方向とのコーナー部においても、円滑に９０度方向転換させることが可能な非接触搬送装置を提供する。
【解決手段】一の搬送方向（Ｘ方向）に沿って配された非接触搬送装置３と、一の搬送方向に対して直交する搬送方向（Ｙ方向）に配された非接触搬送装置４とのコーナー部に配される非接触搬送装置２であって、平面視直角三角形を呈すると共に、平面視直角三角形の斜辺２ｂを相対向させた一対の搬送用基板２ａ、２ａ’が直角三角形の一方の辺２ｃを一の搬送方向に向けると共に、他方の辺２ｄを搬送方向に直交する搬送方向に向けて配され、搬送用基板には、平面視直角三角形の搬送面に複数個の上昇流形成体８と複数個の吸引孔５ｎが設けられている非接触搬送装置１。 （もっと読む）

【課題】安定してＹ軸移動体を移動させることができるステージ装置を提供すること。
【解決手段】ステージ装置１Ａは、Ｘ軸移動体６と、Ｘ軸固定子５１、及びＸ軸可動子５２を有するＸ軸シャフトモータ５と、Ｙ軸移動体４と、Ｙ軸固定子、及びＹ軸可動子を有するＹ軸シャフトモータ３とを備え、Ｘ軸固定子５１の一端部５１ａが第１Ｙ軸移動体４ａに固定され、Ｘ軸固定子５１の他端部５１ｂが第２Ｙ軸移動体４ｂにＸ軸固定子５１のＸ軸方向の伸長を許容するように連結されている。これにより、Ｘ軸移動体６の駆動に伴いＸ軸固定子５１が熱膨張した場合に、Ｘ軸固定子５１の伸長が他端部５１ｂ側で解放される。 （もっと読む）

【課題】板状部材の外縁側を把持する搬送装置を利用でき、支持される板状部材にストレスが生じることを防止できるようにすること。
【解決手段】支持装置１０は、半導体ウエハＷを支持する支持面１１を有するテーブル１２と、支持面１１に接する半導体ウエハＷを移動規制可能な移動規制手段１４と、半導体ウエハＷに気体を吹き付けて半導体ウエハＷを支持面１１からの着脱を補助可能な着脱補助手段１５とを備えて構成されている。搬送装置Ｂで搬送される半導体ウエハＷに対し、気体を吹き付けて半導体ウエハＷを支持面１１から離脱した状態とし、この状態で搬送装置Ｂを退避させた後、支持面１１に半導体ウエハＷが接した状態で吸着支持される。 （もっと読む）

【課題】装置の小型化を図ることができるようにすること。
【解決手段】アライメント装置１０は、半導体ウエハＷの外方に位置して面方向の移動を規制可能なガイド手段１６と、半導体ウエハＷを浮上させる浮上手段１３と、この浮上手段１３によって浮上した半導体ウエハＷに回転力を付与する回転力付与手段１５と、この回転力付与手段１５により回転する半導体ウエハＷのＶノッチＮに嵌り合って半導体ウエハＷの回転方向の位置決めを行う位置決め手段１７とを備えて構成されている。半導体ウエハＷを浮上させた状態で回転力を付与することで、半導体ウエハＷの回転のためにテーブル等の大きな部材を回転させる必要をなくすことができる。 （もっと読む）

【課題】均一な浮上量で基板を浮上させること。
【解決手段】所定領域に液状体を吐出するノズルを有する塗布部と、前記所定領域を通過するように基板を浮上させて搬送する基板搬送部と、少なくとも前記所定領域において前記基板のうち基板搬送方向に直交する方向の端部の浮上量を調整する調整部とを備える。 （もっと読む）

【課題】 ウェハを確実に吸着保持する静電チャックを提供すること。
【解決手段】 ウェハを静電的に吸着保持する静電チャック１４１０は、基板１４０５、電極１４１２板及び絶縁層１４０４を重ねて成り、ウェハの印加電圧が０ボルトから所定電圧まで時間とともに増大又は減少されるのに連動する電圧を静電チャックの電極板に印加することにより、ウェハとチャックの間に吸引力を発生する。 （もっと読む）

【課題】 印刷エリアに触れずに基板のロードとアンロードを行う。
【解決手段】 真空吸着ステージ２の真空吸着チャック部３を、真空引きと空気供給を切換可能とする。真空吸着ステージ２の側部のハンドフック部２４に先端部を係止させるロボットハンド７の各爪の上面側に、真空引きと空気供給を切換可能とした真空吸着チャック部１９を備える。真空吸着ステージ２とロボットハンド７の上方位置で往復動可能なスライダ１０に、基板１の平面形状を囲む位置に配した係止用爪部材１１を昇降可能に備えてなるワーク移動手段９を設ける。ロボットハンド７上と真空吸着ステージ２上で基板１を移すときは、各々の真空吸着チャック部３と１９に空気供給して基板１を浮上させ、この状態で、ワーク移動手段９の係止用爪部材１１により基板１の外周端を押して移動させる。 （もっと読む）

【課題】 露光エリア内任意の位置で気体の濃度測定可能な露光装置を提供すること。
【解決手段】 基板上面と投影光学系１の間に所定の気体を供給する気体の供給手段を持つ露光装置において、前記領域の気体を取得する気体取得手段としての貫通孔１１と、前記気体取得手段で取得した気体の濃度を測定する雰囲気を測定する測定器５を有し、更に前記気体取得手段が移動ステージ４と共に移動可能であることを特徴とする露光装置。 （もっと読む）