【課題】 過度な重量増を回避しつつ高精度な検査を実現しうる半導体ウエハ検査装置を提供すること。
【解決手段】 本願の半導体ウエハ検査装置は、鉛直方向上方を向く基準面２１０を有する定盤２００と、定盤２００によって自重の少なくとも一部が負担されており、ｘ方向およびｙ方向に基準面２１０に沿って移動可能とされているとともに、集積回路が形成された機能面を有する半導体ウエハをこの機能面が鉛直方向上方を向く姿勢で支持するウエハ支持体３００と、ウエハ支持体３００をｘ方向およびｙ方向に移動させる移動手段４００と、半導体ウエハの機能面を対象とした検査する検査ヘッドと、を備える。 （もっと読む）

【課題】発熱源を有し、真空槽内で移動する移動体を常時効率よく冷却することができ、メンテナンスに手間がかからない真空処理装置を提供することである。
【解決手段】真空槽１の床に敷設された軌道３に沿わせた凹溝９の底に設けた磁性体の受熱部１ｂと、これと対向するように移動体としてのロボット２側に設けた放熱部２ｂとの間に満たした磁性流体１１を、放熱部２ｂに設けたリニアモータの２次磁極としての永久磁石４と受熱部１ｂの磁性体の間に発生する磁束に吸着して、受熱部１ｂと移動体側の放熱部２ｂとの間に保持することにより、放熱部２ｂの熱を磁性流体１１を介して受熱部１ｂに伝達して、真空槽１内で移動する移動体を常時効率よく冷却でき、かつ、メンテナンスに手間がかからないようにした。 （もっと読む）

【課題】撓みによって生じる搬送アーム先端の下方への傾斜を低減することができる搬送装置及びプラズマ処理システムを提供する。
【解決手段】筐体内へ被搬送物を搬送する搬送装置である。搬送装置は、搬送アーム５２、アーム軸５３、複数の電磁石５０及び制御部４０を備えている。搬送アームは、被搬送物を載置するピック部５２ｂを先端に有し、水平方向に伸縮する。アーム軸５３は、搬送アーム５２を支持する。複数の電磁石５０は、筐体内部に磁場を発生させることにより搬送アーム５２に上昇方向の力を作用させる。制御部４０は、搬送アーム５２が水平方向に伸縮する際にアーム軸５３から搬送アーム５２先端までの長さが長くなるほど搬送アーム５２に作用させる上昇方向の力が大きくなるように複数の電磁石５０を制御する。 （もっと読む）

【課題】パーティクルの発生を抑制可能な搬送装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る搬送装置は、チャンバと、チャンバ内の経路に沿って移動可能な基板支持体と、基板支持体上に直線的に並べられた複数のラック磁石を有する第１磁気ラックと、複数のピニオン磁石を有する、回転軸に対して回転可能な第１磁気ピニオンであって、第１磁気ラックの一方の側に配置され、第１磁気ラックとの間に回転軸方向で磁気結合された第１磁気ピニオンと、チャンバに固定して設けられ、基板支持体を移動可能に支持する支持部材とを備え、第１磁気ピニオンを回転することにより、基板支持体を移動させる。 （もっと読む）

【課題】小型かつ簡単な構成で、ステージを水平方向に移動または垂直軸回りに回転させることが可能なステージ装置を提供する。
【解決手段】ベース２と、ベース２にエアベアリング６１を介して設けられたステージ３とを具備するステージ装置１であって、ベース２およびステージ３の対向面のいずれか一方に、対向面と平行な第１の移動方向に沿って複数の第１の一次側磁束発生部４ａが互いに平行に設けられ、第１の移動方向と直交し、かつ、対向面と平行な第２の移動方向に沿って第２の一次側磁束発生部４ｂが設けられ、対向面の他方に、第１および第２の一次側磁束発生部４ａ、４ｂに各々対向するようにして第１および第２の二次側磁束発生部５ａ、５ｂが設けられ、第１および第２の一次側磁束発生部４ａ、４ａ、並びに、第１および第２の二次側磁束発生部５ａ、５ｂの各磁極面を前記対向面と略平行に形成した。 （もっと読む）

【課題】基板を支持するステージに駆動部を介して外部の振動が伝達される。
【解決手段】基板貼り合わせ装置は、複数の基板のうち第一の基板を支持する第１ステージと、第１ステージに対向して配され、複数の基板のうち第二の基板を支持する第２ステージと、少なくとも第１ステージ及び第２ステージに支持された第一の基板及び第二の基板を囲む減圧室を有する減圧ユニットと、減圧ユニットから除振され、第１ステージ及び第２ステージを支持するフレームと、第１ステージ及び第２ステージの一方に固定された可動子と、減圧ユニットに固定された固定子とを有し、第１ステージと第２ステージとを相対移動させる駆動部とを備える。 （もっと読む）

【課題】所定の材料を真空チャンバー内部の任意の箇所に正確に搬送する真空フィードスルーを提供する。
【解決手段】真空フィードスルー１０Ａは、パイプ１１とその内部空間に位置するシャフト１２とパイプ１１の外周面を長さ方向へスライド可能なマグネットスライダー１３とシャフト１２の後端部に取り付けたマグネットホルダーとを有し、パイプ１１の内部空間前端部に取り付けたシャフト１２を径方向中央に保持する固定ホルダーと、シャフト１２の後端部に取り付けたシャフトを径方向中央に保持する移動ホルダーとを含み、固定ホルダーは、シャフト１２の外周面をスライド可能に支持するスライドベアリングを備えた支持ハウジングを有し、移動ホルダーは、弾性変形可能なアームと、長さ方向へ回転可能なローラと、アームをパイプの内周面に向かって強制的に弾性変形させてローラをパイプの内周面に押し当てるテーパープラグとを有する。 （もっと読む）

【課題】固有振動数付近の共振による基板貼り合わせ装置の損傷を防止する。
【解決手段】複数の基板を貼り合せる基板貼り合わせ装置であって、複数の基板を貼り合せる基板貼り合わせ装置であって、一方の基板が支持される第１ステージと、第１ステージに対向して配され、他方の基板が支持される第２ステージと、第２ステージを除振する除振部と、除振部および第２ステージを含む系の固有振動数を調整する振動数調整部とを備える。振動数調整部は、予め定められた種類の振動が外部から与えられる旨を検出した場合に、固有振動数を調整してもよい。 （もっと読む）

【課題】 ウェハを確実に吸着保持する静電チャックを提供すること。
【解決手段】 ウェハを静電的に吸着保持する静電チャック１４１０は、基板１４０５、電極１４１２板及び絶縁層１４０４を重ねて成り、ウェハの印加電圧が０ボルトから所定電圧まで時間とともに増大又は減少されるのに連動する電圧を静電チャックの電極板に印加することにより、ウェハとチャックの間に吸引力を発生する。 （もっと読む）

【課題】高加速度下で機能することができるパターニングデバイスのスリップ防止解決法を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置のパターニングデバイスステージの移動中のパターニングデバイス２７０の滑りを実質的に除去するための構成が提供される。このような構成の一つは、保持システムとサポート輸送装置２３０とを含む。保持システムは、支持デバイス２５０と、保持デバイス２８０と、磁歪アクチュエータ２６０とを含む。保持デバイス２８０はパターニングデバイス２７０を支持デバイス２５０に解放可能に結合する。磁歪アクチュエータ２６０は、パターニングデバイス２７０に解放可能に結合され、パターニングデバイス２７０に加速力を付与する。サポート輸送装置２３０は支持デバイス２５０に結合され、磁歪アクチュエータ２６０による力の付与と同時に支持デバイス２５０移動し、パターニングデバイス２７０滑りを防止する。 （もっと読む）

【課題】長ストローク化、小型化及び振動を抑制することが可能な半導体製造装置用のＸＹステージを提供する。
【解決手段】Ｘ軸リニアモータとＹ軸リニアモータとを有し、Ｘ軸リニアモータ及びＹ軸リニアモータは、移動部としての３相のコイルからなるコイル部及び固定部としてのヨーク部を有し、ヨーク部は、長手方向の中心線に対してその上部及び下部に開口部が設けられており、上部の開口部の上面及び下部の開口部の下面には複数の永久磁石の表面がＮ極、Ｓ極となるように交互に配列され、ヨーク上部の開口部の永久磁石と垂直方向におけるヨーク部下部の開口部の永久磁石は、同じ極となるように配列され、中心付近のヨークに３相のコイルが挿入された構成を成し、ヨーク部をコイル部と同一軸方向に移動可能なヨーク部ガイドを介してベース上に固定し、コイル部の移動時の反力を吸収するように構成し、移動テーブルの下部にＸ軸リニアモータを配する。 （もっと読む）

【課題】 露光エリア内任意の位置で気体の濃度測定可能な露光装置を提供すること。
【解決手段】 基板上面と投影光学系１の間に所定の気体を供給する気体の供給手段を持つ露光装置において、前記領域の気体を取得する気体取得手段としての貫通孔１１と、前記気体取得手段で取得した気体の濃度を測定する雰囲気を測定する測定器５を有し、更に前記気体取得手段が移動ステージ４と共に移動可能であることを特徴とする露光装置。 （もっと読む）

【課題】基板を保持部材に真空吸着して搬送するにあたって、保持部材の外における真空配管の引き回しが不要で、速やかに基板を搬送することができる技術を提供すること。
【解決手段】保持部材である第１のアーム２ａ及び第２のアーム２ｂに夫々真空ポンプ４２ａ、４２ｂ及びバッテリー４１ａ、４１ｂを搭載すると共に、搬送基体１から送電コイル１４ａ、１４ｂ及び受電コイル４４ａ、４４ｂを介して電磁誘導方式により非接触でバッテリー４１ａ、４１ｂを充電することにより、各アーム２ａ、２ｂにおいて外部からの配管及び電気配線なしで、真空ポンプ４２ａ、４２ｂ、電磁弁４３ａ、４３ｂ及び圧力検出部４５ａ、４５ｂなどの各アーム２ａ、２ｂに搭載された電子部品をバッテリー４１ａ、４１ｂからの電力により動作するようにする。 （もっと読む）

【課題】磁性流体シールを使用する必要がない磁気浮上型を採用し、しかも装置としてのアキシャル方向の長さを極力短くすることができるようにする。
【解決手段】回転動力を出力する回転子１２を備え、回転子１２は、回転子１２のラジアル方向に配置されて該回転子１２のラジアル方向変位を非接触で制御する２組以上のラジアル磁気軸受４０と、回転子１２の周囲に３組以上に分割配置されて該回転子１２のアキシャル方向変位を非接触で制御するアキシャル磁気軸受５０によって、所定の位置に非接触で回転支承され、ラジアル磁気軸受４０のラジアル電磁石４４とアキシャル磁気軸受５０のアキシャル電磁石５４は、略同一平面上に配置されてケーシング部１４に固定されている。 （もっと読む）

【課題】マスクステージの回転中心の座標を精度良く求め、これによりマスクと基板との位置決めを高精度で行うことができるマスクの位置決め装置及びマスクの回転中心算出方法を提供する。
【解決手段】位置決め装置７０は、回転機構１６ｘを具備するマスクステージ１０と、マスクＭ及び基板Ｗに設けられた複数のアライメントマークＭｍ、Ｗｍを検知するための複数のアライメントカメラ１８と、アライメントカメラ１８により得られた画像を用いて各アライメントマークＭｍ、Ｗｍの位置が合うようにマスクステージ１０の動作を制御する制御装置７１と、を備える。アライメントカメラ１８は、各アライメントカメラ１８にそれぞれ対応するアライメントマークＭｍ、Ｗｍを撮像し、マスクステージ１０を回転させた後、各アライメントマークＭｍ、Ｗｍを再度撮影して、マスクステージ１０の回転中心Ｅの座標を算出する。 （もっと読む）

【課題】フットプリントを低減できる基板ホルダーストッカ装置を提供する。
【解決手段】基板に真空処理を行うプロセスチャンバ内を搬送される基板ホルダーを収納する基板ホルダーストッカチャンバ１８は、複数の基板ホルダーをその板厚方向に並べて保持するとともに往復移動する可動式テーブルＡと、可動式テーブルＡと並設され、複数の前記基板ホルダーその板厚方向を並べて保持するとともに往復移動する可動式テーブルＢと、所定位置に停止した可動式テーブルＡ及び可動式テーブルＢのいずれか一方に保持された基板ホルダーを、可動式テーブルＡ及び可動式テーブルＢのいずれか他方に保持させるテーブル間移送機構３１とを備えている。 （もっと読む）

【課題】ウエハとパターンとを精度良く位置合わせする。
【解決手段】位置計測系を用いてステージの位置を計測し、その計測結果に基づいてステージを駆動し、ステージ上に保持されたウエハ上のアライメントマークをアライメント系を用いて検出して得られる検出結果と、その検出結果に対するステージの位置に依存する補正情報（理想格子の格子点ｍ_ｉｊについて与えられた補正データ）と、に基づいてウエハ上に形成されるパターンが理想格子状に配列されるようにウエハを保持するステージを駆動する。 （もっと読む）

【課題】 被加工物を位置決めしてチャックテーブル上に容易に載置可能な加工装置を提供することである。
【解決手段】 被加工物を保持する保持面を有するチャックテーブルと、該チャックテーブルで保持された被加工物に加工を施す加工手段とを備えた加工装置であって、被加工物の上面を撮像する撮像手段と、該チャックテーブル上の被加工物を選択的に保持して該チャックテーブルから離脱させる該撮像手段に配設された仮保持手段と、該チャックテーブルと該撮像手段とを該保持面に平行な２方向へ相対移動させる移動手段とを具備し、該仮保持手段で被加工物を仮保持している間に、該移動手段を駆動して被加工物の中心を該チャックテーブルの中心に一致させた後被加工物を該チャックテーブル上に載置することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】処理媒体を用いて物体の表面を処理するための処理装置を提供すること。
【解決手段】処理装置１は、物体２を保持するための保持デバイス５と、保持デバイス５に結合される回転駆動部６と、物体の表面２１に対して第１の処理媒体３１及び第２の処理媒体３２を供給するための供給デバイス７とを備え、分離要素８０を有する収集コンテナ８を備える。分離要素８０は、収集コンテナ８を第１のチャンバ８１及び第２のチャンバ８２に区分する。第１の処理媒体３１は、第１のチャンバ８１内に収集され、第２の処理媒体３２は、第２のチャンバ８２内に収集される。収集コンテナ８は、保持デバイス５に対して変位不能なベース・チャンバ部分８００を備え、分離要素８０は、第１の処理媒体３１を第１のチャンバ８１内に送る第１の位置Ａと、第２の処理媒体３２を第２のチャンバ８２内に送る第２の位置Ｂとの間で移動可能である。 （もっと読む）

【課題】内部雰囲気が真空且つ高温の処理容器内で被駆動体を適切に移動させる。
【解決手段】駆動装置１１５は、処理容器７０を貫通するシリンダ１２０を有している。シリンダ１２０の外周面には、支持部１１４を支持する外側ハウジング１３０が設けられている。外側ハウジング１３０の内周面には外側マグネット１３１が取り付けられている。シリンダ１２０の内周面には内側ハウジング１４０が設けられている。内側ハウジング１４０の外周面には内側マグネット１４３が取り付けられている。外側マグネット１３１と内側マグネット１４３は、対向して配置され且つ異なる極性を有している。外側マグネット１３１とシリンダ１２０との間及び内側マグネット１４３とシリンダ１２０との間には、所定の隙間が形成されている。処理容器７０の外部には、内側ハウジング１４０を移動させる駆動部１８０が設けられている。 （もっと読む）