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Fターム[5F031MA39]の内容

ウエハ等の容器、移送、固着、位置決め等 (111,051) | 処理装置 (13,378) | 工程 (11,004) | テープの剥離 (899) | 粘着力低下処理 (251)

Fターム[5F031MA39]に分類される特許

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【目的】半導体素子等へのダメージをより少なくしながら半導体素子が形成された基板と支持基板とを分離する。
【構成】実施形態の半導体装置の製造方法は、表面側に半導体素子が形成された半導体基板10の表面と、半導体基板10を支持する支持基板12の2つの面のうちの一方の面とを貼り付ける工程と、半導体基板10および支持基板12とワイヤ20とを相対移動させながら前記第1の基板と前記第2の基板とを切り離す工程と、を備える。 (もっと読む)


【課題】チップ部品保持力を確保しつつ、チップ部品を取り出す際のピックアップ性を高めたチップ部品支持装置及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】有機粘着フィルム1は、有機樹脂フィルム11の表面に粘着層12を有し、周辺が、リング状の枠体5(または7)によって支持されている。粘着層12は、一面上に、粘着領域と、粘着領域を区画する非粘着領域13を有している。チップ部品群3に含まれるチップ部品31のそれぞれは、ギャップg1(またはg2)によって互いに分離され、底面の一部が非粘着領域13の上に位置するようにして、粘着層12の上に粘着されている、 (もっと読む)


【課題】不純物による汚染を抑制できるサポート基板、該サポート基板の製造方法及び該サポート基板を用いた半導体基板の加工方法を提供すること。
【解決手段】実施形態に係るサポート基板は、半導体基板を薄型化する際に、半導体基板に張り合わせることにより半導体基板を補強するサポート基板であって、単結晶シリコン基板からなる。 (もっと読む)


【課題】ダイボンダにおいて一度エキスパンドした後、エキスパンドを解除してもチップ同士が接触しないようにする。
【解決手段】分断予定ラインが形成された半導体ウエーハが貼着された粘着シートがフレームにマウントされたワークを固定するフレーム固定手段と、固定されたワークの粘着シートを下から押し上げてエキスパンドし、前記半導体ウエーハを個々のチップに分割する突上げ用リングと、前記エキスパンドされた粘着シートの下側から前記個々のチップを突き上げるチップ突き上げピンと、前記突き上げられたチップをピックアップするコレットと、前記粘着シートを介して前記突上げ用リングと突き合わされて前記粘着シートをかしめるリング状の隔壁と、前記隔壁と前記突上げ用リングによってかしめられた前記隔壁の周囲の前記粘着シートを選択的に加熱する選択的加熱装置とを備えたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、ダイシングテープからピックアップする際の半導体チップの破損や、半導体チップのピックアップミスの発生を抑制可能な半導体チップのピックアップ方法を提供することを課題とする。
【解決手段】特定の処理により気化する犠牲接着層、及びテープ本体を有するダイシングテープを準備し、半導体チップ形成用母基板の面のうち、第1のバンプ電極が形成された面とは反対側に位置する面に、犠牲接着層を介してテープ本体を貼着し、次いで、第1のバンプ電極が形成された側から、ダイシング領域に沿って半導体チップ形成用母基板及び犠牲接着層を切断することで、半導体チップ及び犠牲接着層を個片化し、次いで、個片化された半導体チップのうち、ピックアップする半導体チップの第1のバンプ電極が形成された面を吸着保持し、吸着保持された半導体チップに形成された犠牲接着層を気化させる。 (もっと読む)


【課題】装置全体が大型化、複雑化することを防止できるようにすること。
【解決手段】リングフレームRF及び半導体ウエハWFに第1接着シートS1を貼付して一体化された対象物TSを支持する支持手段11と、第2接着シートS2を繰り出す繰出手段13と、この繰出手段13で繰り出された第2接着シートS2をリングフレームRF及びウエハWFに押圧して貼付する押圧ローラ14と、リングフレームRF及びウエハWFから第1接着シートS1を剥離可能な剥離手段16とを備えて転写装置10が構成されている。支持手段11は、リングフレームRF及び半導体ウエハWF間に表出する第1接着シートS1に対して力を付与可能な付勢手段24を有し、この力の付与によりリングフレームRFに貼付される第1及び第2接着シートSが接着することを防止できる。 (もっと読む)


【課題】後工程へ板状部材を搬送する搬送手段に特別な構成を追加することなく、転写後の板状部材に不純物が付着することを抑制して搬送することが可能な転写装置および転写方法を提供すること。
【解決手段】転写装置1は、第1接着シートS1を介してウェハWを支持する第1シート支持手段2と、第1シート支持手段2で支持されたウェハWの第2面W2に第2接着シートS2の一方の面を対向配置可能な第2シート支持手段3と、第1接着シートS1の他方の面に当接可能な当接面41を有する当接手段4と、ウェハWと第2接着シートS2とを相対接近させてウェハWに第2接着シートS2を貼付する押圧手段5と、第1接着シートS1におけるウェハWが貼付された貼付部分よりも外側の外周部分を切断する切断手段6と、を備える。 (もっと読む)


【課題】加熱処理を伴う被処理基板と支持基板との剥離処理の際に、被処理基板の非接合面の酸化を抑制する。
【解決手段】剥離装置30は、加熱機構128を備え、且つ被処理ウェハWを保持する第1の保持部110と、加熱機構151を備え、且つ支持ウェハSを保持する第2の保持部111と、少なくとも第1の保持部110又は第2の保持部111を相対的に水平方向に移動させる移動機構170と、第1の保持部110の外周部に沿って環状に設けられ、且つ複数の孔が形成され、被処理ウェハWを保持した第1の保持部110の外周部に対して不活性ガスを水平に供給するポーラスリング130と、を有している。第1の保持部110において被処理ウェハWを保持するポーラス121の保持面121aの径は、被処理ウェハWの径よりも小さい。 (もっと読む)


【課題】熱分解性の樹脂層の残渣量を低減することができる半導体装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】熱分解性の樹脂層1を、半導体ウェハ2と、基材3との間に配置して、樹脂層1を介して、半導体ウェハ2と基材3とを固定し、積層体4を形成する工程と、積層体4の半導体ウェハ2を加工する工程と、積層体4を加熱して、熱分解性の樹脂層1を熱分解してガス化させる工程と、半導体ウェハ2と、基材3とを分離する工程とを含む。積層体4を加熱して、熱分解性の樹脂層1を熱分解する前記工程では、積層体4が配置された容器5中の気体を吸引することで容器5内の雰囲気を減圧下とし、減圧下で前記積層体4を加熱する。 (もっと読む)


【課題】露出した接着シートの接着剤に不活性ガスを効率よく供給することで、不活性ガスの供給量を減らしても接着剤の硬化不良を確実に抑制することができる光照射装置および光照射方法を提供すること。
【解決手段】石英ガラス22の表面に形成した接近面22Bおよび凹部22Aによって、空間SPに供給した不活性ガスを接着シートSの貼付端縁部SEに誘導することで、この貼付端縁部SE近傍を確実に不活性ガス雰囲気とした状態で発光手段4から所定波長の光を照射することができ、接着シートSの接着剤層ADの硬化不良を防止することができる。 (もっと読む)


【課題】被照射体が接着剤層を有する場合、当該接着剤層を十分に硬化反応できるようにすること。
【解決手段】被照射体を構成する接着シートSが貼付された半導体ウエハWを支持するテーブル11と、接着シートSに光を照射する発光手段12と、テーブル11と発光手段12と相対移動させる移動手段13とを備えて光照射装置10が構成されている。発光手段12は、接着シートSの被照射面S1と平行となる面に設けられた複数の発光ダイオード21と、これら発光ダイオード21から発せられる光を矩形の平行光に変換して被照射面S1上に照射する第1レンズ22と第2レンズ24と導光手段23とを備えている。各発光ダイオード21から発せられる光は、第2レンズ24により矩形形状に変換され、導光手段23により導かれた光を第1レンズ22にて平行光に屈折し、前記相対移動方向と交差する方向に延びる帯状光Bとし、被照射面S1上に照射可能となる。 (もっと読む)


【課題】熱変形性のダイシングテープを用いて、ダイシングし、これをピックアップする際に、ダイシングテープの変形時における周辺チップの飛散等(飛散や傾き)を防止する。
【解決手段】チップ状部品のピックアップ方法は、加熱により変形する層を有するダイシングテープDTに貼着した板状部品を切断分離し、周辺チップ6とチップ状部品5とを含む複数のチップを得るダイシング工程と、ダイシングテープを吸引可能な吸引部材11に、ダイシングテープDTの背面を対面させて、周辺チップ6を保持する部分に対応する背面を吸引する吸引工程と、テープDTを変形させるための加熱を行う加熱工程と、チップ状部品5の上面より、吸引コレットでチップ状部品5を吸引把持して、ダイシングテープDTから取り上げるピックアップ工程とを備え、加熱工程の際に、吸引工程の吸引を行う。 (もっと読む)


【課題】薄いシリコン基板を製品率を確保して提供する。
【解決手段】レーザ光源160、集光レンズ170、収差調整板180から基板10にレーザ光190を集光し、レーザ光190と基板10を相対的に移動させて、基板10の表面から所定の深さの範囲において基板の表面に水平方向に形成した、多結晶シリコンの多結晶粒を有してなる内部改質層14を形成する工程と、基板10を内部改質層14又は内部改質層14近傍において割断する工程とを有する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、ダイシングテープから半導体チップを剥離させる際、半導体チップが破損することを防止可能な半導体チップの剥離装置、及び半導体チップの剥離装置を提供することを課題とする。
【解決手段】上下方向に移動可能な構成とされ、ダイシングテープを介して、半導体チップのうち、少なくとも貫通電極の形成領域に対応する第1の部分を突き上げる第1の突き上げ面43aを有した第1の突き上げ部材43と、上下方向に移動可能な構成とされ、ダイシングテープを介して、半導体チップのうち、貫通電極が形成されていない第2の部分を突き上げる第2の突き上げ面44aを有した第2の突き上げ部材44と、を有する。 (もっと読む)


【課題】個片化されたチップ領域を有する半導体ウエハに形成した接着剤層の切断性を高めると共に、接着剤層の切断屑等による半導体チップの汚染等を抑制した半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】実施形態において、第1の面3aに貼付された表面保護フィルム4でウエハ形状が維持された半導体ウエハ3に液状接着剤を塗布して接着剤層7を形成する。半導体ウエハ3の第2の面3aに粘着層8を有する支持シート9を貼付する。表面保護フィルム4を剥離した後、支持シート9を引き伸ばしてダイシング溝1内に充填された接着剤を含む接着剤層7を割断する。支持シート9の引き伸ばし状態を維持しつつ洗浄する。粘着層8のダイシング溝1に対応する部分の粘着力を、洗浄工程前に選択的に低下させる。 (もっと読む)


【課題】薄型の半導体素子の製造工程における半導体素子の割れ率を低減させること。
【解決手段】表面および裏面に素子構造部が形成された半導体ウエハーの表面に、加熱によって剥離可能な支持部材を貼り合わせ、支持部材が貼り合わせられた状態で、前記半導体ウエハーの前記支持部材が貼り合わせられた面に対して反対側の面に分離溝を形成することによって、前記半導体ウエハーをチップ状に分離可能な状態とし、半導体ウエハーの裏面側にコレクタ層と電極を形成し、支持部材の、個々のチップに相当する部分を個別に加熱してその部分に位置するチップを吸着して、該チップを前記支持部材から剥離する。 (もっと読む)


【課題】半導体集積回路装置の製造工程のうちの組立工程におけるダイシング後のチップのピックアップ工程またはダイ・ボンディング工程では、急速なチップの薄膜化によって、ピックアップ不良またはダイ・ボンディング工程不良の低減方法を提供する。
【解決手段】チップをコレットで真空吸着してダイ・ボンディングする場合において、吸引コレットの真空吸着を早期に解除(吸着オフステップ206)して、ダイ・ボンディング(ボンディングステップ208)時のチップの湾曲状態に起因するボイド等の発生を回避するものである。 (もっと読む)


【課題】安価な構成で精度よくウエハマウントを作製するウエハマン作製方法を提供する。
【解決手段】半導体ウエハの回路面に液状の接着剤を塗布し、塗布面に支持板を貼り合わせ、当該支持板を保持して半導体ウエハの裏面を研削し、支持用の前記粘着テープを介してリングフレームに半導体ウエハを支持し、半導体ウエハから支持板を分離し、さらに半導体ウエハ上でフィルム状になっている接着剤に半導体ウエハの直径以上の幅を有する剥離テープを貼り付けて当該剥離テープを剥離することにより、当該接着剤を一体にして半導体ウエハから剥離する。 (もっと読む)


【解決課題】バックリンス操作のときに、バックリンス液で、支持基材の半導体ウェハ仮固定面側の仮固定樹脂組成物又は半導体ウェハの加工面とは反対側の面側の仮固定樹脂組成物が除去されることがない半導体装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】支持基材を回転させながら、該支持基材の半導体ウェハ仮固定面に仮固定樹脂組成物液を供給し、次いで、該仮固定樹脂組成物液の供給を行っている最中に又は該仮固定樹脂組成物液の供給を終了した後、該支持基材を回転させながら、該支持基材の裏面に、下記式(I):0.1≦Bsp−Asp≦1.5(I)(式(I)中、Aspは仮固定樹脂組成物液中の溶剤のSP値であり、Bspはバックリンス液のSP値である。)を満たすバックリンス液を供給して、該支持基材の半導体ウェハ仮固定面に、仮固定樹脂組成物塗膜を形成させる仮固定樹脂組成物塗膜形成工程を有すること、を特徴とする半導体装置の製造方法。 (もっと読む)


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