【課題】 基板の表裏両面を均一に処理することが可能な基板処理装置および基板処理方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 処理槽１１にエッチング液を貯留するエッチング液供給工程と、ガラス基板１００を搬送ローラ２１により搬送してエッチング液が貯留された処理槽１１内に進入させる基板搬入工程と、ガラス基板１００の下面からエッチング液を吐出することによりガラス基板１００を搬送ローラ２１より上方で、かつ、処理槽１１に貯留されたエッチング液の液面より下方の位置まで浮上させるエッチング液吐出工程と、エッチング液の吐出を停止してガラス基板１００を搬送ローラ２１と当接する位置まで下降させる基板下降工程と、処理槽２１に貯留されたエッチング液を排出するエッチング液排出工程と、ガラス基板１００を搬送ローラ２１により搬送して処理槽１１より退出させる基板搬出工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクへの塵の付着を抑制しつつ、フォトマスク表面に付着した有機化合物を除去可能なマスクケースを提供する。
【解決手段】内部空間にフォトマスクが収納されるケースである。前記フォトマスクに対向する底面に真空紫外光透過部（５）を有し、前記内部空間と連通したガス流入孔（７）およびガス流出孔（８）が設けられていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板の直径が大きくなる傾向にある近年、重ね合わされる互いの基板全面においてサブミクロンの精度で位置合わせをすることが困難になってきている。このような事情から、基板をより高い精度で位置合わせするために、それを保持する基板ホルダを精密に管理する機構が求められている。
【解決手段】基板を保持して搬送するための基板ホルダを収容するホルダラックであって、基板ホルダを収容する収容空間を除湿する除湿部を備える。 （もっと読む）

【課題】ハロゲン系腐食性ガス及びそのプラズマ中で用いられ、十分な吸着力を有する静電チャック、低電圧駆動が可能で試料載置面を構成する絶縁性誘導体材料の厚さを厚くし得る静電チャック装置を提供する。
【解決手段】特定の複合酸化物焼結体を有する静電チャックであって、焼結体が、ＪＩＳ Ｚ ８７２９−１９９４に規定されるＣＩＥＬ^*ａ^*ｂ^*表色系において、Ｃ光源及び２°視野条件で測定される反射色調のＬ^*値が１０以上５０以下である静電チャック、及び（Ａ）試料を静電吸着するための試料載置面を有する板状体と、その背面に設けられた静電吸着用内部電極層と、絶縁性材料層とを有する静電チャック部材を備えてなる静電チャック装置であって、（Ａ）静電チャック部材における板状体の少なくとも試料載置面が、上記静電チャックを構成する複合酸化物焼結体からなる静電チャック装置である。 （もっと読む）

【課題】極薄のウェーハを安全、簡単、確実かつ迅速に単離させることができ、かつ従来と比べて処理スピードが改善されたウェーハ単離方法及びウェーハ単離装置を提供する。
【解決手段】多数枚又は複数枚のウェーハが積層されたウェーハ積層体を液体中に浸漬させて準備するステップと、前記最上層のウェーハの一端部を吸着し、前記最上層のウェーハの他端部は吸着せずにおさえ、前記最上層のウェーハを水平方向で傾斜させる吸着ステップと、前記最上層のウェーハの下面と隣接する下側のウェーハの上面との間に流体を吹き込む流体吹き込みステップと、前記傾斜させた最上層のウェーハを、その傾斜の延長線上に沿って変位させて液中から前記最上層のウェーハを取出せしめるウェーハ変位ステップと、を含み、ウェーハを単離するようにした。 （もっと読む）

【課題】搬送部とステージ等との間の受け渡しにおいて、電力が供給されない時間を短縮する。
【解決手段】基板を載置するホルダ本体と、基板をホルダ本体に静電吸着させる静電吸着部と、ホルダ本体を搬送する第１の搬送部から静電吸着部へ電力を供給する第１の搬送部用端子と、第１の搬送部との間でホルダを受け渡してホルダを搬送する第２の搬送部から静電吸着部へ電力を供給し、第１の搬送用端子と異なる位置に配された第２の搬送部用端子とを備える基板ホルダが提供される。 （もっと読む）

【課題】高速分離処理に対応でき、かつ、水中でウエハ同士が部分的に重なって密着してしまった場合であっても、確実に分離させて後工程へ搬送することのできるウエハ搬送装置を提供する。
【解決手段】ウエハセパレータ装置によってウエハスタックＷＳから分離されて順次供給される水中のウエハＷを水面上に搬送するウエハ搬送装置８であって、順次供給されるウエハＷを水面上に搬送する第１の無限ベルト式搬送装置４と、第１の無限ベルト式搬送装置４のウエハ搬送方向下流にあって第１の無限ベルト式搬送装置４によって搬送されるウエハＷを引き継いでさらに搬送する第２の無限ベルト式搬送装置５と、が設けられ、かつ、第２の無限ベルト式搬送装置５が、その無限ベルトを濡れた状態でかつウエハＷのウエハスタック側とは反対側の面に密着させて、ウエハＷを搬送する。 （もっと読む）

【課題】真空吸着機構からの基板の落下を防止する。
【解決手段】基板を保持する保持領域を有する本体と、本体における保持領域の外周に配され、保持領域を下向きにして本体が支持された状態で本体の落下を防止する落下防止部材が係合する係合部とを備える基板ホルダが提供される。また、基板を保持する保持領域および保持領域の外周に配された係合部を有する基板ホルダをその保持領域が下方を向いた状態で保持する上ステージと、上ステージに保持された基板ホルダの係合部に係合して基板ホルダの落下を防止する落下防止位置と、基板ホルダの外方へ退避する退避位置との間で移動可能な落下防止部材とを備えるステージ装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】優れた気密効果を具備したウェーハキャリアを提供する。
【解決手段】開口を形成する一側面を有し、複数個のウェーハを収納可能な複数個のスロットが内部に設けられた筐体を含み、ドアを利用して前記筐体の開口と結合してその内部のウェーハを保護する。筐体は、開口の内縁に磁性体が配置され、ドアの内面の磁性体に対抗する箇所に、断面が凹形を呈する導磁体中に設けられた磁石が配置されていることを特徴とする。これによって、ドア上の磁石が筐体の開口箇所の磁性体を吸引し、ドアを筐体にロックして一体化する。 （もっと読む）

【課題】スループットや熱応答性の低下を防止しつつ、低温で熱処理を施す。
【解決手段】複数枚のウエハ１を一括して処理する処理室内に複数枚のウエハ１を保持して搬入するボート５０に、ウエハ１を１枚ずつ保持するヒータプレート６０を複数枚設け、各ヒータプレート６０はウエハ１よりも大径の円盤形状に形成する。ヒータプレート６０には第一発熱線６１および第二発熱線６２を設け、第一発熱線６１および第二発熱線６２は炭化シリコン、ポリシリコン、石英等で形成したカバー６３で被覆する。第一発熱線６１および第二発熱線６２は抵抗発熱体で直径１０ｍｍ以下の線形状に形成し、電力制御装置６５をそれぞれ設ける。各ヒータプレート６０上に各ウエハ１を一枚ずつ載置して、ウエハ１を熱伝導によって加熱することで、熱応答やスループットを高める。 （もっと読む）

【課題】、生産コストの高騰や、装置の大型化を招来することなく、サセプターの品質や生産性を飛躍的に向上させることができるＣＶＤ装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 炭素質基材５を支持部材により支持した状態で、内部にガスを導入することにより、炭素質基材５の表面にＳｉＣ被膜を形成するＣＶＤ装置において、上記支持部材は、上記炭素質基材５が載置されて炭素質基材の下部を支持する下部支持部材６と、上記炭素質基材５の上部を支持する上部支持部材１３とを有し、この上部支持部材１３は上記炭素質基材５の外周縁に設けられると共に、この上部支持部材１３にはＶ字状の溝１３ｄが形成され、このＶ字状の溝１３ｄにより構成される炭素質基材配置空間１７内には、十分な遊びを有する状態で上記炭素質基材５が配置されることを特徴とする。 （もっと読む）

搬送装置の駆動システムは、搬送装置に接続されている複数の永久マグネット、複数の永久マグネットの少なくとも１つの磁界に曝されている複数の固定巻線、固定巻線に電圧を加えて搬送装置に磁力をもたらす制御システム、及び搬送装置の浮揚、ピッチ及びロールの受動的安定化を提供するための搬送装置の少なくとも一側部に近接している強磁性コンポーネントの配列を含んでいる。
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【課題】 押印装置における処理能力の改善。
【解決手段】 基板チャックと、基板チャックが固定され且つＸＹ面に平行に移動可能なステージとを有し、基板チャックに保持された基板上のレジストにモールドを押し付けてレジストのパターンを基板に形成する押印装置であって、ＸＹ面に平行な方向には剛性を、ＸＹ面に垂直な方向には弾性をそれぞれ有し、且つ基板チャックをステージに固定するフレクシャを有するものとする。 （もっと読む）

【課題】保管時のペリクル内雰囲気を清浄化し、露光時にレチクルヘイズが発生することを抑える。
【解決手段】通気孔を有する支持枠と、該支持枠に張られたペリクル膜と、を備えるペリクルが取り付けられたレチクルを、ストッカ２０内に収納するレチクル収納装置１０であって、第一ガス（窒素ガス）と、ペリクル膜に対する透過率が第一ガスよりも高い第二ガス（乾燥空気）とで、それぞれストッカ２０内をパージするガス流路３０を備えるレチクル収納装置１０。 （もっと読む）

【課題】半導体基板を処理するチャンバの内外部気圧を測定するモジュール、装置及び方法を提供する。
【解決手段】本発明によると、側面に第１流入部と第２流入部が具備された連結部材と、前記連結部材の一端に連結された第１気圧測定センサと、前記連結部材の他端に連結された第２気圧測定センサとを含むが、前記連結部材には、前記第１流入部と前記第１気圧測定センサを連結する第１通路と、前記第２流入部と前記第２気圧測定センサを連結する第２通路が形成され、前記第１通路と前記第２通路は、分離されるように提供された気圧測定モジュール、気圧測定装置及び方法が提供される。このような本発明によると、大気圧センサの誤作動の問題を解決して、誤作動の防止のために使われた不必要な装備と誤作動に対応することにかかる時間及び人力の浪費を減らすことができる。 （もっと読む）

【課題】リフターピンとピン挿通孔の間へのガスの回り込みによる堆積物の付着などの不具合を軽減することのできる新規の被処理体の昇降機構及びこれを備えた処理装置を提供する。
【解決手段】被処理体の昇降機構は、処理容器内にて処理される被処理体を載置する載置台３８に上下方向に貫設されたピン挿通孔５０′と、該ピン挿通孔５０′に対して昇降自在に挿通されるリフターピン７２と、該リフターピン７２を駆動して前記ピン挿通孔５０′から前記リフターピン７２を出没動作させる駆動手段とを有し、前記リフターピン７２の出没動作によって前記被処理体を昇降可能とした被処理体の昇降機構において、前記リフターピン７２の外周面若しくは前記ピン挿通孔５０′の内周面に軸線方向の所定範囲に亘って伸びる表面溝７２ｘが形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】測定試料を変えるたびごとに測定点の位置補正を行う必要がなく、更に、測定試料上の同一点についての複数種類の特性の測定を、同一検査装置を用いて行なうことができる検査装置を提供する。
【解決手段】試料を載置するためのステージ３と、１又は複数の検査機器６、７を支持可能な検査機器支持用ヘッド５と、ステージ及び／又は検査機器支持用ヘッドを支持している移動機構２３、４３と、ステージ上の基準点の実座標と目標座標との偏差を格納する偏差格納部と、複数の検査機器の測定点間のオフセット値を格納するオフセット値格納部と、格納された偏差及びオフセット値を参照して、複数の検査機器のうちのいずれか１つの検査機器の測定点と他の検査機器の測定点とが一致するように、ステージ及び／又は前記検査機器支持用ヘッドを移動させる位置制御部と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】外部のガス導入装置などによる加圧手段に頼ることなく、簡便な構造で収納空間を外部環境よりも高い圧力に維持することが可能な収納容器を提供することを目的とする。
【解決手段】収納部を収納する収納空間に、容積が可変なポンプ空間を前記収納空間に対して気密に連結して形成した。前記ポンプ空間の内容積を変化させるために移動可能な作用部を有する。たとえば、作用部には伸縮自在のベローズや弾性体を用いる。さらに、ポンプ空間は収納空間と一体とすることも可能である。 （もっと読む）

【課題】バッチ・ロードロック装置で一度でも使用したウエハ収納容器は表面深くハロゲン・イオンがトラップされているため、洗浄しても除去困難である。その為、そのようなウエハ収納容器内に収容したままで、ウエハを比較的長期間保管等すると、ハロゲン・イオンと雰囲気中の水分が反応して、腐食性の物質を生じる結果、アルミニウム配線、電極、およびパッド等の金属部分を腐食するという問題が発生する。
【解決手段】半導体装置生産ラインにおいてバッチ・ロードロック装置で使用したウエハ収納容器は非バッチ・ロードロック装置や保管等に使用しないようにすることにより、ウエハ収納容器からのハロゲン汚染に起因する金属部分の腐食等を防止することができる。 （もっと読む）

基板キャリアを加圧するための方法は、キャリアと一体構造のものであるチャンバおよび／またはキャリア内の基板カセットを加圧するステップと、チャンバからキャリア内へガスを放出することにより、キャリア内の圧力を維持するステップとを含む。
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