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Fターム[5F031PA16]の内容

ウエハ等の容器、移送、固着、位置決め等 (111,051) | 特殊目的 (8,207) | ウエハ等の異形、大小に対応 (211)

Fターム[5F031PA16]に分類される特許

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【課題】エネルギー線照射システムにおいて、異なる寸法のワークに効率的にエネルギー線を照射できるコンパクトで低コストの搬送機構を実現する。
【解決手段】異なる寸法のワークW1、W2がそれぞれ搭載される第1、第2ワークホルダ31a、32aと、各々のワークホルダを各々のワーク授受領域とエネルギー線照射領域AR1との間で進退移動させる進退機構33と、互いに異なる位置に設けられた第1及び第2ワーク収容部21a、22aと、第1のワーク授受領域にある第1ワークホルダ31aと第1ワーク収容部21aとの間でワークW1を搬送する第1搬送アームと、第2のワーク授受領域にある第2ワークホルダ32aと第2ワーク収容部22aとの間でワークを搬送する第2搬送アームとを設けた。 (もっと読む)


【課題】複数の大きさの基板を処理可能な基板処理装置を提供すること。
【解決手段】基板処理装置は、任意の大きさの基板Wを水平に支持するセンターチャック13と、上向きの環状面57をそれぞれ有する複数のリング5とを含む。複数のリング5は、環状面57の内周縁の長さがそれぞれ異なる複数のサイズ調整リングを含み、内周縁がセンターチャック13に支持されている基板Wの周縁部に近接した状態で、環状面57が基板Wを水平に取り囲むように、複数のリング5のいずれか一つが、センターチャック13に支持されている基板Wの周囲に配置される。 (もっと読む)


【課題】本発明は、ダイシングテープからピックアップする際の半導体チップの破損や、半導体チップのピックアップミスの発生を抑制可能な半導体チップのピックアップ方法を提供することを課題とする。
【解決手段】特定の処理により気化する犠牲接着層、及びテープ本体を有するダイシングテープを準備し、半導体チップ形成用母基板の面のうち、第1のバンプ電極が形成された面とは反対側に位置する面に、犠牲接着層を介してテープ本体を貼着し、次いで、第1のバンプ電極が形成された側から、ダイシング領域に沿って半導体チップ形成用母基板及び犠牲接着層を切断することで、半導体チップ及び犠牲接着層を個片化し、次いで、個片化された半導体チップのうち、ピックアップする半導体チップの第1のバンプ電極が形成された面を吸着保持し、吸着保持された半導体チップに形成された犠牲接着層を気化させる。 (もっと読む)


【課題】ペーストと保持容器との接触によるペーストのパターン不良が発生することなく、公差を含む基板を保持することが可能な保持容器を提供する。
【解決手段】基板20の保持容器10は、対向する少なくとも1組の側面102,103を有する基板の保持容器であって、1組の側面の間の距離が下方に向かって狭まるように傾斜しており、側面の内側が、基板の端辺202〜205と当接することによって、基板を保持する。保持容器を用いることにより、公差を含む基板の端までペースト30を載置するパターンを用いることが可能となった。 (もっと読む)


【課題】大径基板に対応した搬送系を構成する基板収容器(フープ)に、サイズダウンした基板を格納できるようにする。
【解決手段】8インチウェーハを支持し得る第1支持溝16eに支持される上部板401および下部板402と、上部板401および下部板402に設けられ、2インチウェーハであるウェーハ14(必要に応じて、ウェーハホルダ100およびホルダ部材405を介して)を支持し得る第2支持溝404を有する各保持柱403a〜403cとを備える。8インチウェーハに対応したポッド16に、2インチウェーハであるウェーハ14を格納でき、搬送系であるポッド16を共通化して半導体製造装置のコストを削減できる。各ガス供給ノズルから各ウェーハ14までを遠ざけて、各ウェーハ14に到達する前に反応ガスを充分に混合させることができ、各ウェーハ14への成膜精度を向上させることができる。 (もっと読む)


【課題】設備費を抑えつつ、様々なサイズの複数枚のパネルを収容することが可能なパネル収容ケースを提供する。
【解決手段】複数枚のパネルPを互いに間隔をあけて保持した状態に収容するパネル収容ケース10であって、上部が開口部とされ、内部がパネルPの収容空間とされた有底のケース本体20と、ケース本体20の上部に被せられてケース本体20の開口部を塞ぐ蓋体と、パネルPの側縁部を係合可能な上下方向に沿う複数の保持溝61が間隔をあけて形成された一対の溝ユニット53と、一対の溝ユニット53をケース本体20内における対向位置に保持することにより保持溝61同士を対向させてパネルPの両側縁部を係合可能とする保持ユニット81とを備え、一対の溝ユニット53は、保持ユニット81によって、互いの間隔が調整可能とされている。 (もっと読む)


【課題】基板の下面に非接触で基板を搬送し、基板を高速かつ安定的に移動させながら、基板の汚染やローラー痕の生成なく、基板の上下両面又は下面のみに処理を行う、非接触浮上搬送機能を有する基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板の上面と下面の両方又は下面のみに、水による洗浄処理、薬液による化学的処理、水によるリンス処理又は空気、窒素ガスといった気体による乾燥処理のいずれかの処理を行う、複数の基板処理ユニット7、8、9を備えてなる基板処理装置が、基板1の下面に向かって水、薬液、空気、窒素ガスといった流体を噴出して、基板1を浮上させ、基板1の下面に非接触でその位置を保持する、複数配置された基板浮上ユニット10と、基板1の左右両側のエッジ部に水平方向から接触して、基板1を移動させる複数配置された搬送ローラー12を有する基板搬送ユニットと、を備えている。 (もっと読む)


【課題】被照射体が接着剤層を有する場合、当該接着剤層を十分に硬化反応できるようにすること。
【解決手段】被照射体を構成する接着シートSが貼付された半導体ウエハWを支持するテーブル11と、接着シートSに光を照射する発光手段12と、テーブル11と発光手段12と相対移動させる移動手段13とを備えて光照射装置10が構成されている。発光手段12は、接着シートSの被照射面S1と平行となる面に設けられた複数の発光ダイオード21と、これら発光ダイオード21から発せられる光を矩形の平行光に変換して被照射面S1上に照射する第1レンズ22と第2レンズ24と導光手段23とを備えている。各発光ダイオード21から発せられる光は、第2レンズ24により矩形形状に変換され、導光手段23により導かれた光を第1レンズ22にて平行光に屈折し、前記相対移動方向と交差する方向に延びる帯状光Bとし、被照射面S1上に照射可能となる。 (もっと読む)


【課題】様々なサイズのワークに個別に対応する必要のないカセットを提供する。
【解決手段】板状ワークW1を収容する溝22が所定間隔ごとに複数形成された左右の側壁2と、左右の側壁2を連結する連結部3aと、板状ワークW1を出し入れする開口部23aとを有するカセット10において、側壁2と連結部3とを脱着可能とし、連結部3は左右方向に延びる部材で構成し、板状ワークW1の大きさに応じて長さの異なる連結部3aを使用することにより複数の大きさの板状ワークに対応した開口部23aを有するカセットに調整可能とする。 (もっと読む)


【課題】異なった径の基板を処理することができ、効率的な接合基板の生産が可能となる、接合装置を提供することを目的とする。
【解決手段】基板保持部44の下端に設けられた静電チャック45の接触面46には、パターン電極49が埋設され、吸着力が作用して上側基板SAを吸着、保持する吸着力作用領域47が備えられている。吸着力作用領域47は、処理される基板の中で最小径の上側基板SA1が吸着されると、その上側基板SA1により覆われるサイズに形成されている。また、吸着力作用領域47内には、検知センサ50を構成する可動部58の接触部55が進退する検知窓Wが開口されている。これにより、上側基板SA1の静電チャック45への吸着、非吸着のみならず、上側基板SA1よりも大きな径を有する上側基板SA2、SA3の静電チャック45への吸着、非吸着も検知することが可能となる。 (もっと読む)


【課題】 基板製造装置の仕様、ユーザ、各国の使用状況等に関わらず、適切に使用することのできる保持フレーム用収納カセットを提供する。
【解決手段】 中空部に収容した半導体ウェーハを粘着保持層で粘着保持する保持フレームを収納し、半導体製造装置に位置決めして搭載される保持フレーム用収納カセット20であり、保持フレーム用収納空間を介して相対向する両側壁21と、両側壁21の上部間に架設される天板33とを備え、両側壁21の内面に、保持フレーム1の周縁側部を支持する支持溝をそれぞれ形成して各側壁21の支持溝を上下方向に所定の間隔で配列し、支持溝に、保持フレーム用のがたつき防止片を形成する。そして、両側壁21の下部に、前後方向に伸びる支持レール26をそれぞれ取り付け、この一対の支持レール26の間には架設部材40として一対の架設板41を着脱自在に螺着して架設する。 (もっと読む)


【課題】高速でのガス置換を行うことなく成膜処理を実行可能であり、又基板のサイズに柔軟に対応可能な基板処理装置を提供する。
【解決手段】複数の基板3を載置する載置部5を移動させることで基板を搬送する搬送手段6と、第1の空間11に第1の処理ガスを供給する第1のガス供給手段7と、第2の空間12に第2の処理ガスを供給する第2のガス供給手段8と、前記第1の空間又は前記第2の空間の後にそれぞれパージガス雰囲気の第3の空間13a,13bを形成する為にパージガスを供給するパージガス供給手段9a,9bと、少なくとも前記載置部を加熱する加熱手段14と、前記第1の空間、前記第2の空間及び前記第3の空間がそれぞれ所定の温度となる様に前記加熱手段を制御する温度制御手段17と、複数の基板を載置した状態で前記搬送手段が前記第1の空間、前記第2の空間及び前記第3の空間を通過する様に制御する搬送制御手段16とを具備する。 (もっと読む)


【課題】人手による搬送作業をなるべく抑えて露光装置とマスク検査装置との間でフォトマスクを搬送することができるマスク搬送システムを提供する。
【解決手段】実施形態によれば、マスク搬送システムは、ストッカ11〜71と、搬送路3と、収納容器と、搬送装置200と、制御装置80と、を備える。収納容器はウェハ搬送用とマスク搬送用とで同一の構造を有する。制御装置80は、露光エリア30のストッカ31、またはマスク検査エリア70のストッカ71に収納容器が入庫されると、収納容器がマスク搬送用であるかを判別し、マスク搬送用の収納容器である場合には入庫されたストッカではないストッカ71,31に収納容器が搬送されるように搬送装置200を制御する搬送装置制御部を備える。 (もっと読む)


【課題】直径300mmの第1ウエハを収容可能な第1カセット用のロードポートに対してカセットアダプタを使用して、直径200mmの第2ウエハを収容可能な第2カセットをセットする際に、第2カセットの全体を覆うカセットカバーの提供。
【解決手段】正面、背面及び底面の3面が開口されていて、アダプタ本体及び第2カセットK2の全体を覆うことができると共に、正面開口を通してアダプタ本体を手前側に傾転させられるように、アダプタベースVに一体に取付けられ、ロードポートPのキャリアベース5の前進により、カセットカバーCで覆われた第2カセットK2が前進端位置である第2ウエハの搬入・搬出位置に達した状態で、カセットカバーCの前端周縁が、ロードポート本体1のウエハ移載窓1aの周縁に密着又は近接可能なように、カセットカバーCの前端には、左右の両方向に向けて閉塞用フランジ部46が一体に設けられた構成とする。 (もっと読む)


【課題】300mmのウエハを収容する第1カセットに対応のロードポートを使用して、200mmのウエハを収容する第2カセットを設置してロック可能にするアダプタ本体ロック装置を提供する。
【解決手段】300mmのウエハを収容する第1カセットをキャリアベース5にロックするロック用エアシリンダ14を備えたロードポートPに、200mmのウエハを収容する第2カセットKを設置してロック可能にするために、キャリアベース5に取付けられるカセットアダプタは、キャリアベース5にセットされるアダプタベースVと、アダプタベースVを介して回動可能に装着されるL字形のアダプタ本体Dとから成り、アダプタ本体Dを構成するアダプタプレートEの裏面に、ロック用エアシリンダ14のロッド13の先端のロック爪12に対して解除可能に係合されて、キャリアベース5にアダプタ本体Dを固定可能とする被ロック部材35を一体に設ける。 (もっと読む)


【課題】 基板2の幅に応じて、基板の搬送装置の搬送路幅を迅速且つ、確実に拡縮できるものの提供。
【解決手段】 上下一対づつの多数の搬送ローラ1、1aが搬送方向に並列され、基板2の両端部がその搬送ローラ1、1a外周の基板挟持体3間に挟持されて、搬送されるものにおいて、少なくとも一方側の基板挟持体3は回転軸4の軸線方向に移動自在に被嵌され、上下一対の基板挟持体3の嵌着部5にスライドロット6が挿通され、そのスライドロット6にアクチュエータ7が連結されて、それが軸線方向に往復移動されるように構成する。 (もっと読む)


【課題】直径300mmのウエハを収容する第1カセットに対応のキャリアベースにカセットアダプタを取付けて、直径200mmのウエハを収容する第2カセットの正しい位置への着座を検出する着座センサ機構を提供する。
【解決手段】300mmのウエハを収容可能なロードポートPのキャリアベース5に装着する200mmのウエハを収容可能な第2カセットKを設置するカセットアダプタであって、アダプタ本体DのアダプタプレートEの裏面には、該アダプタ本体Dがカセット受台Bの傾斜配置位置から(90°−θ)だけ回動されて該アダプタプレートEを水平配置させるストッパボルト33と、前記アダプタプレートEの水平配置を検出するセンサ作動ボルト34が取付けられ、前記アダプタプレートEの上面には、第1カセット用着座センサSを除き残りを無効にした状態で、第2カセットKの正しい位置への着座を検出する第2カセット用着座センサを設ける。 (もっと読む)


【課題】搬送ロボットを用いて、カセットに収容された液晶基板等の板状の基板を搬出する際に、基板検出センサを用いて基板の位置を検出していた。従来は、基板がカセットの手前側(入り口側)に寄せられてカセット内部に収容されていたが、基板がカセットの奥側に寄せられる場合があり、従来の搬送ロボットでは対応できない。
【解決手段】本発明の搬送ロボットは、振動吸収体6の先端部に取り付けられた基板の有無を検出する基板検出センサ5と、ハンドの位置を移動させる移動機構11(アーム機構2等)と、ハンドの位置及び移動速度を制御する動作制御部12と、基板のエッジ位置を演算する基板エッジ位置解析部13とを備えた。上記構成にすると、基板がカセットの奥側に寄せられて収容された場合であっても、基板の位置を検出できる。 (もっと読む)


【課題】如何なる外形の被加工物でも保持テーブルに直接吸引保持して加工を施すことができる加工方法を提供する。
【解決手段】保持テーブル70の保持面73に貼着した粘着シート5上に被加工物1を載置し、この被加工物1の外形縁に沿って粘着シート5を切断して、粘着シート5を、保持面73の被加工物対応領域73Aに対応する部分5Aと、外側領域73Bに対応する部分5Bとに分離する。次いで、粘着シート5の被加工物対応領域73Aに対応する部分5Aを除去し、被加工物対応領域73Aに被加工物1を対応させて直接載置する。次いで被加工物1を保持面73に吸引保持して加工を施す。 (もっと読む)


【課題】外寸が同じ基板保持具に観察試料として異なるサイズの基板が搭載される場合であっても、搭載される基板の違いにかかわらず、基板の未搭載や異常搭載を正確にセンサに検出させる。
【解決手段】ホールダ50上の、ウェーハ2Sが正常に置かれる規定領域部分P以外の規定外領域部分Qに、異常搭載されたウェーハ2Sが乗り上げる傾き検出用ピン51を立設配置し、異常搭載されたウェーハ2Sの姿勢状態を、ホールダ50へのウェーハ2の異常搭載を検出するウェーハ傾きセンサ47が検出可能な姿勢状態にする。 (もっと読む)


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