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Fターム[5F031PA26]の内容

ウエハ等の容器、移送、固着、位置決め等 (111,051) | 特殊目的 (8,207) | 汚染防止 (1,146) | 部材からの汚染物質の溶出・発生の防止 (483)

Fターム[5F031PA26]に分類される特許

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【課題】高強度で、多結晶セラミックス基材の変形が少なく、半導体や液晶の製造装置用部材として使用されてもコンタミネーションの発生が少ない多結晶セラミックス接合体およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】Yを主体相として含む第1の多結晶セラミックス基材と、AlまたはYを主体相として含む第2の多結晶セラミックス基材とが、接合層を介して接合された多結晶セラミックス接合体であって、前記接合層は、Y、Al、SiOおよびZrOから選ばれる少なくとも3種類の酸化物を含む複合酸化物からなる多結晶セラミックス接合体。 (もっと読む)


【課題】ロボットの最小旋回径を小さくすること。
【解決手段】実施形態に係るロボットは、第1アーム部、第2アーム部、中間リンク部、第1リンク部および第2リンク部を備える。第1リンク部は、第1アーム部と中間リンク部と固定ベース部との間で第1平行リンク機構を形成する。第2リンク部は、第2アーム部と中間リンク部と可動ベース部との間で第2平行リンク機構を形成する。そして、第2リンク部と中間リンク部との連結軸から第1アーム部と第2アーム部との連結軸までの距離は、第2リンク部と中間リンク部との連結軸から第1アーム部と第2アーム部との連結軸までの距離よりも短い。 (もっと読む)


【課題】EUVリソグラフィ用マスクの搬送時やマスクステージへの装着・脱離時に異物が発生する不具合を抑制することにより、半導体装置の製造歩留まりを向上させる。
【解決手段】マスク10をハンドラー30で保持して露光装置のマスクステージに搬送する際、予めマスク10の側面に永久磁石20、21を取り付けておく。また、ハンドラー30のアーム部32、33には、マスク10の永久磁石20、21との間に斥力が作用するように配置された電磁石34、35を取り付けておく。これにより、マスク10を搬送する際、ハンドラー30のアーム部32、33に挟まれたマスク10は、アーム部32、33と非接触状態となり、浮遊状態でハンドラー30に保持される。 (もっと読む)


【課題】真空において熱をともなう処理を行う基板処理装置において、基板を高速で搬送しても基板の位置精度を高くすることができること。
【解決手段】熱をともなう真空処理が行われる真空処理ユニットに対して基板の搬入および搬出を行う基板搬送装置は、基板を位置決めする位置決めピンを有し、基板を位置決めした状態で保持するピックと、ピックにより真空処理ユニットに対して基板を搬入および搬出するようにピックを駆動させる駆動部と、ピックによる基板の搬送動作を制御する搬送制御部とを有し、搬送制御部は、基板を真空処理ユニットに搬入する際の、常温における基板の基準位置情報を予め把握しておき、実処理において、基板を真空処理ユニットに搬入する際に、その基板の基準位置からの位置ずれを算出し、位置ずれを補正して基板を真空処理ユニットに搬入するように駆動部を制御する。 (もっと読む)


【課題】
摩擦による塵埃の発生及び飛散を抑制し、従来の搬送ハンドからの置き換えが容易に且つ安価に出来、軽量で、かつ狭隘な場所にもアクセス可能な薄型の把持装置を提供すること。
【解決手段】
把持装置22は、内部に圧縮気体流通のための流路36と、圧縮気体を噴出させる噴出口30を有する搬送フィンガ23と、搬送フィンガ23先端に固定された第1の把持部材26と、駆動手段28によって動作させられる第2の把持部材29とを具えている。圧縮気体の噴出力によって浮上させられた薄板状物の周縁部を、第1の把持部材26と第2の把持部材29とで、位置ずれ補正を行いながら把持する。 (もっと読む)


【課題】ウエハの間に異物が混入することなくウエハを接合することができる生産性が向上されたウエハの接合方法を提供する。
【解決手段】
オリエンテーションフラットとなる側面を二面備えている両主面が円形形状のウエハを接合するウエハの接合方法であって、第一の壁部と第二の壁部貫通孔を供えた平板部ととからなる接合用ジグにオリエンテーションフラットとなる側面が第二の壁部に接触するようにウエハを搭載した状態でエキシマ照射ランプから放射された光をウエハに照射し、平板部の貫通孔から吸引して接合用ジグにウエハを保持した状態で平板部の側面と第一の壁部の側面とが接するように配置しウエハを接触させて接合することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】より好適にウェーハを支持することによって、パーティクルの発生を効果的に防ぎ、ウェーハの更なる汚染防止を図ることができるウェーハ収納容器を提供する。
【解決手段】前側に開口3を有すると共に、円盤状のウェーハ2を支持する支持部材25を備える容器本体4と、開口3を塞ぐと共に、ウェーハ2を保持するリテーナ21を備える蓋体5と、からなるウェーハ収納容器1であって、ウェーハ2の外周部のうち、結晶方位に起因してエッジが形成される領域を非接触領域Aとして設定し、リテーナ21及び支持部材25は、非接触領域Aを避けた位置でウェーハ2と接触する。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、高い密度で集積された薄板基板を、湾曲させた状態で損傷したり汚したりすることなく、安全に搬送および保管することができるパレットの提供を目的とする。
【解決手段】 本発明は、薄板基板1を湾曲させて収納する基板保持用枠体10を、多段に積層し載置するための湾曲形状保持部30と、移動搬送装置のための移動搬送装置対応部40を上下に固着した2層構造からなり、湾曲した湾曲形状保持部30の上面に固着した嵌合用枠体20の嵌合用金属枠部21の上面から内周下方向に傾斜して突出しているパレット側嵌合部22と、載置される基板保持用枠体10の金属枠部11の下面から内周下方向に傾斜して突出している第1嵌合部12との嵌め合わせにより、上記の課題を解決した。 (もっと読む)


【課題】低温で基材を支持体上に仮固定でき、かつ薬液に対する耐性を有する仮固定材、前記仮固定材を用いた基材の処理方法、および前記処理方法によって得られる電子部品を提供する。
【解決手段】(1)低軟化点を有する非晶質体を含有する仮固定材を介して、支持体上に基材を仮固定する工程、(2)前記基材を加工および/または移動する工程、ならびに(3)前記仮固定材を加熱することにより、支持体から基材を剥離する工程をこの順で有する基材の処理方法。 (もっと読む)


【課題】高強度かつ高耐食性であり、アルカリ金属含有量が500ppm以下のフッ化マグネシウム焼結体を提供する。
【解決手段】本発明のフッ化マグネシウム焼結体は、フッ化マグネシウムを主相とする焼結体であって、平均線熱膨張係数がフッ化マグネシウムよりも低い少なくとも1種の分散粒子を含み、焼結体中の分散粒子の平均粒径とフッ化マグネシウム粒子の平均粒径が5μm以下でかつ開気孔率が1%以下であり、アルカリ金属元素含有量が500ppm以下のものである。 (もっと読む)


【課題】 蓋体の開閉時に容器本体と蓋体とが擦れやすくなるのを抑制し、パーティクル等の塵埃が基板を汚染するおそれを有効に排除できる基板収納容器を提供する。
【解決手段】 複数枚の半導体ウェーハWを整列収納する容器本体1の開口した正面2に蓋体10を着脱自在に嵌合し、容器本体1の正面内周に蓋体10の周壁を接触させる基板収納容器であり、容器本体1の正面内周と蓋体10の周壁の少なくともいずれか一方に、断面視で略半紡錘形あるいは略台形の回避部30を凹み形成し、この回避部30により、容器本体1の正面内周と蓋体10の周壁との擦れに伴うパーティクルの発生を抑制する。例え基板収納容器の内部が減圧状態になっても、容器本体1正面2の変形し易い上部中央、下部中央、両側部中央がそれぞれ内側に湾曲して反るのを抑制防止することができる。 (もっと読む)


【課題】所定の材料を真空チャンバー内部の任意の箇所に正確に搬送する真空フィードスルーを提供する。
【解決手段】真空フィードスルー10Aは、パイプ11とその内部空間に位置するシャフト12とパイプ11の外周面を長さ方向へスライド可能なマグネットスライダー13とシャフト12の後端部に取り付けたマグネットホルダーとを有し、パイプ11の内部空間前端部に取り付けたシャフト12を径方向中央に保持する固定ホルダーと、シャフト12の後端部に取り付けたシャフトを径方向中央に保持する移動ホルダーとを含み、固定ホルダーは、シャフト12の外周面をスライド可能に支持するスライドベアリングを備えた支持ハウジングを有し、移動ホルダーは、弾性変形可能なアームと、長さ方向へ回転可能なローラと、アームをパイプの内周面に向かって強制的に弾性変形させてローラをパイプの内周面に押し当てるテーパープラグとを有する。 (もっと読む)


【課題】直動搬送機構を用いることなく省スペース化を図ること。
【解決手段】搬送ロボット10は、スイングアーム部11と、アームユニット12とを備える。スイングアーム部11は、基端部に設けられたスイング軸P1を中心として水平方向に揺動する。アームユニット12は、スイングアーム部11の先端部に設けられた鉛直な旋回軸P2を中心として回転する本体部121と、本体部121に連結され水平方向に伸縮する右伸縮アーム部122Rおよび左伸縮アーム部122Lと、右伸縮アーム部122Rおよび左伸縮アーム部122Lの先端にそれぞれ設けられたワーク保持部123R,123Lとを備える。 (もっと読む)


【課題】ガスケットのコーナ領域におけるシール性が悪化するのを防止し、基板が汚染したり、容器本体と蓋体が接触して発塵するおそれの少ない基板収納容器を提供する。
【解決手段】半導体ウェーハを収納可能な容器本体1と、容器本体1の開口した正面2に嵌合される蓋体20と、容器本体1と蓋体20の間に介在されるシール用のガスケット40とを備え、容器本体1の正面内周にガスケット用のシール形成面7を形成し、蓋体20に、ガスケット用の嵌合取付溝25を形成した基板収納容器であり、ガスケット40を、蓋体20の嵌合取付溝25に嵌合される枠体41と、枠体41から突出して容器本体1のシール形成面7に変形接触してシールするリップ片47とから形成し、リップ片47の変形量を枠体41のコーナ領域と他領域とで相違させる。 (もっと読む)


【課題】基板を保持するキャリアのクリーニングを行わなわずとも、高品質な被膜を基板に対して成膜することが可能であり、かつ、効率的な成膜を可能とする成膜装置を提供する。
【解決手段】基板Wがキャリア21からヒータ(アノードユニット)90に移載された後、キャリアは成膜室11から搬出される。基板をヒータに渡した後のキャリアは、成膜中は、仕込・取出室内で待機すればよい。この後、成膜室と仕込・取出室とを隔てるドアバルブを閉状態にする。 (もっと読む)


【課題】 半導体ウエハの裏面側、あるいは保護膜付ウエハの保護膜側を粘着シートに貼付し、粘着シート側からレーザー光を照射してウエハ裏面あるいは保護膜にマーキングする際に、ウエハや保護膜の熱分解によって発生するガス状の汚染物質を効率よく除去し、マーキング適性の低下や、半導体装置の汚染を防止しうるウエハ加工用粘着シートを提供すること。
【解決手段】 本発明に係るウエハ加工用粘着シートは、貫通孔を有し、波長532nmおよび1064nmの光透過率が70%以上であることを特徴としている。 (もっと読む)


【課題】真空処理室において高温で処理された後に搬送されるウェハを微小異物や汚染が問題にならない温度に効率良く冷却できる真空処理装置を提供する。
【解決手段】試料を収納するカセットが設置されるカセット台と、大気搬送室と、該大気搬送室から搬送された試料を収納し大気圧雰囲気もしくは真空に切り替え可能なロードロック室と、該ロードロック室に連結された真空搬送室と、真空搬送された試料を処理する真空処理室と、を備える真空処理装置において、前記大気搬送室内に配置され、前記真空処理室で処理された後の高温の試料8を冷却する冷却部を備え、該冷却部は、試料8を載置し冷却液17の流路が設けられた試料台15と、試料8の搬入口側に配置され試料台15に向かって冷却用ガス10を吹き付けるガス吹き付け管11と、試料台15を境に前記搬入口の反対側に配置され、吹き付けられた冷却用ガス10を排気する排気口12と、を具備する。 (もっと読む)


【課題】強い腐食性環境下で、プラズマエッチング加工が行われる半導体加工用装置内に配設される静電チャックの耐久性を向上させること。
【解決手段】電極層と電気絶縁層とからなる静電チャック部材において、この部材最外層に、元素の周期律表の3A族元素の酸化物の溶射被覆層を設けるとともに、前記溶射被覆層の表面に、高エネルギー照射処理によって形成された、孔率が5%未満で、かつ、その表面の平均粗さ(Ra)が0.8〜3.0μmになる緻密化再溶融層を形成する。 (もっと読む)


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