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Fターム[5F033RR25]の内容

半導体集積回路装置の内部配線 (234,551) | 絶縁膜の材料 (22,565) | 有機材料 (4,730) | 有機SOG膜(有機物質) (606)

Fターム[5F033RR25]に分類される特許

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【課題】実効的な低配線間容量を維持しつつ、高密着性かつ高い配線間絶縁信頼性を有する多層配線技術を提供する。
【解決手段】第一の絶縁膜は、シリコン、酸素及び炭素を含むシロキサン構造を含む少なくとも1層以上の絶縁膜であり、第一の絶縁膜内部のシロキサン構造は炭素原子数がシリコン原子数よりも多く、第一の絶縁膜と金属との界面及び第一の絶縁膜と第二の絶縁膜との界面のうち少なくとも何れか一方に、第一の絶縁膜内部よりも単位体積当たりの炭素原子数が少なく、且つ酸素原子数が多い改質層が形成されていることを特徴とする半導体装置。 (もっと読む)


【課題】大量生産上、大型の基板に適している液滴吐出法を用いた製造プロセスを提供す
る。
【解決手段】液滴吐出法で感光性の導電膜材料液を選択的に吐出し、レーザ光で選択的に
露光した後、現像またはエッチングすることによって、レーザ光で露光した領域のみを残
し、吐出後のパターンよりも微細なソース配線およびドレイン配線を実現する。TFTの
ソース配線およびドレイン配線は、島状の半導体層を横断して重ねることを特徴としてい
る。 (もっと読む)


【課題】低抵抗の微細配線構造を有する半導体装置を提供する。
【解決手段】第1配線420は、半導体基板100上に設けられている。第1ビア440は、第1配線420上に設けられている。また、第1ビア440の底面は、第1配線420に接している。第1絶縁層330は、半導体基板100上に設けられ、少なくとも第1配線420の上面および第1ビア440の側面と接している。第1配線420および第1ビア440のうち各々の側面の少なくとも一部は、各々の金属の結晶粒を分断している。 (もっと読む)


【課題】本発明は、Cu及びlow-k膜にダメージを与えずに、従来のポリマー剥離液で解決し得なかったわずかな亀裂状のCu腐食の抑制が可能なドライプロセス後の残渣除去液を提供し、これを用いた半導体デバイスの製造方法を確立する。
【解決手段】ドライエッチング及び/又はアッシング後の半導体基板に存在する残渣の除去液であって、フッ素化合物を含まず、銅に配位し得る2以上の酸素原子を有する中性有機化合物及び/又はC4以上のモノアルコールのうち少なくとも1種と、水とを含むことを特徴とする残渣除去液、或いは、過塩素酸塩と水とを含むことを特徴とする残渣除去液に関する。 (もっと読む)


【課題】裏面コンタクト構造体及びその構造体を製造する方法を提供する。
【解決手段】表面及び対向する裏面を有する基板100の表面上に第1誘電体層105を形成することと、第1誘電体層を貫通して前記基板の表面にまで延びる導電性の第1スタッド・コンタクト140Bを第1誘電体層内に形成することと、基板の裏面から基板を薄くして基板の新しい裏面を形成することと、基板の新しい裏面から前記第1誘電体層まで延びるトレンチ165を基板内に形成して第1スタッド・コンタクトの底面をトレンチ内に露出させることと、基板の新しい裏面、トレンチの側壁、第1誘電体層の露出面、及び第1スタッド・コンタクトの露出面の上に、トレンチを完全に充填するのに十分には厚くない共形導電層170、175を形成することと、を含む前記方法。 (もっと読む)


【課題】半導体層を用いた素子を配線層間に形成し、かつ、ゲート電極の材料を、配線の材料以外の導電体にする。
【解決手段】第1配線層150の表層には、第1配線210が埋め込まれている。第1配線210上には、ゲート電極218が形成されている。ゲート電極218は、第1配線210に接続している。ゲート電極218は、第1配線210とは別工程で形成されている。このため、ゲート電極218を第1配線210とは別の材料で形成することができる。そしてゲート電極218上には、ゲート絶縁膜219及び半導体層220が形成されている。 (もっと読む)


【課題】多孔質低誘電率絶縁膜が用いられていても、絶縁破壊耐性に優れた配線構造の半導体装置を提供する。
【解決手段】CMP処理工程を経て配線膜が構成される半導体装置の製造方法であって、CMP処理によって汚染された多孔質低誘電率絶縁膜に対して、酸処理、アニール処理、あるいは汚染個所の清浄化処理工程を施し、前記多孔質低誘電率絶縁膜表面の有機成分量、水分量、銅、ナトリウム、カリウム等の残存量を規定値以下に低減する。 (もっと読む)


【課題】 絶縁膜に、底面及び側面の形状を良好に保って配線溝を形成する技術が望まれている。
【解決手段】 基板の上に、仮のパターンを形成する。仮のパターンを囲むように、基板の上に層間絶縁膜を形成する。層間絶縁膜を形成した後、仮のパターンを除去する。仮のパターンが除去されることによって現れた凹部の側面及び底面に、第1のバリア膜及びシード膜を形成する。シード膜の上に、配線材料を堆積させることにより、凹部を配線材料で埋め込む。 (もっと読む)


【課題】装置の信頼性や、製品の歩留まりなどを向上させる。
【解決手段】第1の開口と第2の開口との内部に金属材料を埋め込んで第1プラグと第2プラグとを設けると共に、第1プラグと第2プラグとの間を接続する接続配線を設けることで、接続導電層を形成する。そして、接続導電層において接続配線の上面を被覆するようにパッシベーション膜を形成する。このパッシベーション膜の形成工程では、高密度プラズマCVD法などのように埋め込み性に優れた成膜法で、SiOなどの絶縁膜を成膜することによって、パッシベーション膜を形成する。 (もっと読む)


【課題】基体上に成膜特性(反射率、及び密着性)に優れた膜状のアルミニウム体を形成することができるアルミニウム体を備えた基体の製造方法を提供する。
【解決手段】基体をプラズマ処理するプラズマ処理工程と、プラズマ処理された基体上に、アミン化合物と水素化アルミニウムとの錯体及び有機溶媒を含有するアルミニウム体形成用組成物を塗布して、上記基体上に上記組成物からなる塗布層を形成させる塗布工程と、上記塗布層に加熱および光照射の少なくともいずれか一方を行うことにより、膜状のアルミニウム体を形成させるアルミニウム膜形成工程と、を含むアルミニウム体を備えた基体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】印刷法による少ない工程数のメリットを生かしつつ、より微細であり、絶縁性の低下がなく、導電部寸法精度の高い、配線部材および電子素子の製造方法を提供することを目的とする。また、配線部材、積層配線、電子素子、電子素子アレイ及び表示装置を提供することを目的とする
【解決手段】基板上にエネルギーの付与により臨界表面張力が変化する材料を含有する濡れ性変化層を形成する工程、紫外領域のレーザーを用いたレーザーアブレーション法により、濡れ性変化層に凹部を形成する工程、凹部に導電性インクを塗布して導電部を形成する工程、を含み、前記濡れ性変化層の凹部のパターン形成と同時に、前記臨界表面張力を変化させて高表面エネルギー領域のパターン形成が行われることを特徴とする配線部材の製造方法、電子素子の製造方法、及び、それにより得られた配線部材、電子素子を提供する。また、電子素子アレイ及び表示装置を提供する。 (もっと読む)


【課題】半導体部材同士が強固に接合された半導体装置、電子機器、及び、半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】第2配線層9に接合させる第1配線層2を、第1層間絶縁膜3と、第1層間絶縁膜3内に埋め込まれ、一方の表面が第1層間絶縁膜3の表面と同一面上に位置した第1電極パッド4と、一方の表面が第1層間絶縁膜3の表面と同一面上に位置し、第1電極パッド4の周囲に配設された第1ダミー電極5と、によって構成する。また、第2配線層9は、第1層間絶縁膜3の第1電極パッド4の表面側に位置した第2層間絶縁膜6と、一方の表面が第2層間絶縁膜6の第1層間絶縁膜3側の表面と同一表面上に位置し、かつ第1電極パッド4に接合された第2電極パッド7と、一方の表面が第2層間絶縁膜6の第1層間絶縁膜側3の表面と同一面上に位置し、第2電極パッド7の周囲に配設され、第1ダミー電極5に接合された第2ダミー電極8と、により構成する。 (もっと読む)


【課題】電解めっき法によるCu膜の確実に析出させる。
【解決手段】抑制剤と促進剤を添加しためっき液とシリコン基板の相対速度が100m/分以上になる速度でシリコン基板を回転させながら、シリコン基板をめっき槽に浸漬させる。抑制剤の分子がシード層の表面に吸着し、シード溶解が抑制される。導電膜を成長させるときは、シリコン基板とめっき液の相対速度が30m/分以下になる速度でシリコン基板を回転させながら、シリコン基板とアノード電極の間に通電する。ボトムアップ成長が促進され、配線溝内での空孔の形成が防止される。 (もっと読む)


【課題】反射防止膜を確実に除去して半導体装置の欠陥発生を低減する。
【解決手段】第1の層間絶縁膜の上に、絶縁膜と、反射防止膜と、レジスト膜とを順番に形成する。レジスト膜を用いて反射防止膜と絶縁膜をエッチングし、絶縁膜からハードマスクを作成する。この後、ラジカル照射によってレジスト膜と反射防止膜を除去する。ラジカル照射は、基板温度を100℃、150℃、250℃と順番に上昇させながら行う。基板温度が低い初期段階では、反射防止膜の膜材料の飛散防止と、反射防止膜の表面に残留する他の物質の除去が行われる。この後、基板温度を高くすることで、反射防止膜が確実に除去される。 (もっと読む)


【課題】基板のエッジ部分での膜剥がれを防止し、半導体装置を効率良く製造する。
【解決手段】基板1の上方に低誘電体膜31を形成する際に、基板1のエッジ部分1Aをエッジカット工程にて洗い流すことで段差部31Aが形成される。低誘電体膜31に配線溝41を形成した後、導電膜43を埋め込む。基板1のエッジ部分1Aの導電膜43を洗い流すと、導電膜43が埋め込まれていない配線溝41Aが形成される。配線溝41Aを保護フィルム51で覆ってから、CMP法にて余分な導電膜43を除去する。この後、保護フィルム51を基板1から取り外す。 (もっと読む)


【課題】誘電率の増加、シラノールの増加、または有機部分の減少、の少なくとも一つによって損傷した、基体上のシリカ誘電フィルムの損傷を回復する。
【解決手段】基体上のそのような損傷シリカ誘電フィルムを表面改質組成物と接触させて、該損傷シリカ誘電フィルムの誘電率の減少、該損傷シリカ誘電フィルムの誘電率のシラノールの減少、該損傷シリカ誘電フィルムの誘電率の有機部分の増加、の1つ以上をもたらす。このとき、該損傷シリカ誘電フィルムに疎水性を与える。 (もっと読む)


【課題】基板に定形された形態部の内部に、表面が平坦化された導電性材料を形成する方法を提供する。
【解決手段】平坦化表面を形成する方法であって、狭小形態部と幅広形態部が形成された基板上に、第1のプロセスでは電気めっき法により狭小形態部および幅広形態部の少なくとも一部を充填し、第1の層を形成し、第2のプロセスでは無電解めっき法により幅広形態部のに対応する第1の層中の孔および第1の層上に第2の層を充填形成し、表面が平坦な上層部110を形成する。 (もっと読む)


【課題】低誘電率膜のダメージ回復処理を行う際に、比誘電率やリーク電流値を低く維持しつつ内部の水分を除去することができる処理方法を提供すること。
【解決手段】被処理基板に形成された、表面部分にダメージ層を有する低誘電率膜に回復処理を施すにあたり、その分子が、低誘電率膜のダメージ層の内部に浸透できる程度に小さく、ダメージ層内の水分を除去することが可能な第1処理ガスと、ダメージ層の表面に疎水性で緻密な改質層を形成する第2処理ガスとを低誘電率膜のダメージ層に作用させる。 (もっと読む)


【課題】デバイスの損傷を防ぎ、保護することができる半導体装置及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】基板1上に配線層3が形成された第1の積層体10と、第1の積層体10の主面上にその主面を重ねて配設され、基板上11に配線層13が形成された第2の積層体20と、第1の積層体10または第2の積層体20の少なくとも一方の基板上に形成された機能素子とによって構成された半導体装置100に対して、第1の積層体10及び第2の積層体20の主面に垂直な方向から見て、機能素子2,12の周囲に配設され、第1の積層体10と第2の積層体20の界面を貫通する貫通金属部材29を設ける。また、この貫通金属部材29は、第1の積層体10と第2の積層体20を接合した後に、第1の積層体10と第2の積層体20を貫通する貫通孔を設け、貫通孔内に金属を埋め込むことで形成できる。 (もっと読む)


【課題】 変性処理およびその後の溶解処理によるダメージにより低誘電率膜のk値が上昇した場合にも十分にk値を回復させることができる基板処理方法を提供すること。
【解決手段】 低誘電率膜をエッチング処理して所定パターンを形成し(ステップ3)、エッチング処理を終了した後に残存する物質を所定の液に対して可溶化するように変性し(ステップ8)、ステップ8の後、パターンが形成された低誘電率膜の表面にシリル化剤を供給し、ステップ8の際に低誘電率膜に入ったダメージを回復するためのシリル化処理をし、変性された物質を溶解除去し(ステップ9)、ステップ9の後、パターンが形成された低誘電率膜の表面にシリル化剤を供給し、ステップ9の際に低誘電率膜が受けたダメージを回復するためのシリル化処理をし(ステップ10)、ステップ10の後、基板をベークしてシリル化処理後の低誘電率膜の比誘電率を下げる(ステップ11)。 (もっと読む)


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