Fターム[5F038BH00]の内容
半導体集積回路 (75,215) | 保護、誤動作 (9,078)
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Fターム[5F038BH00]に分類される特許
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半導体装置
【課題】小型化可能なESD保護デバイスを得る。
【解決手段】半導体基板上に形成された第2導電型のカソード層と、第1導電型のベース層と、第2導電型の第1のアノード領域と、第1導電型の第2のアノード領域と、第1導電型の第1の半導体領域と、第2導電型の第2の半導体領域と、第2導電型のコンタクト領域と、前記第1導電型の半導体基板の表面に形成されたカソード電極と、前記第1のアノード領域及び前記第2のアノード領域の表面に形成されたアノード電極と、前記第1の半導体領域及び前記コンタクト領域の表面に形成された中間電極を備えたことを特徴とする半導体装置を提供することにより上記課題を解決する。
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半導体装置
【課題】 ノイズによる信号品質の劣化を抑え、かつラッチアップによる回路の誤動作を低減させつつ、良好なアイソレーションを確保することが可能な半導体装置を提供する。
【解決手段】 半導体基板100内に形成された、抵抗率が10Ωcmよりも大きく1kΩcmよりも小さな第1層103と、半導体基板100内の表面側に、第1層103上方に位置するように形成された第2層105と、第2層105内又は第2層105上に形成された2つの半導体素子109と、2つの半導体素子109の間に位置し、半導体基板100の表面から第1層103に達するように半導体基板100内に形成され、2つの半導体素子109を電気的に分離するトレンチ型絶縁領域111とを備える。
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