【課題】金属配線パターンの寄生抵抗を低減可能なダミーパターンの設計方法を提供する。
【解決手段】切り欠きパターン２を一及び逆方向に各所定値Δｘ１だけ縮小して縮小図形４を生成した後、各所定値Δｘ１だけ拡大してダミーパターン５を生成し、その外形を抽出して矩形図形６を生成した後、各所定値Δｘ１だけ縮小して縮小図形７を生成し、ダミーパターン５から縮小図形７を論理減算して切り欠き図形８及び矩形図形９を生成し、切り欠き図形８を抽出してダミーパターン５から論理減算して矩形図形１０を生成した後、各所定値Δｘ１だけ縮小して縮小図形１１を生成し、矩形図形１０から縮小図形１１を論理減算して第１，第２のビア配置領域１２，１３を生成し、各ビア配置領域１２，１３にビア１４をそれぞれ配置する。 （もっと読む）

【課題】データ信号ラインにＡＣ結合部が含まれる出力回路を備える半導体装置のＤＣテストの実施には、振幅を維持できないという問題がある。そのため、データ信号ラインにＡＣ結合部が含まれる出力回路を備える半導体装置であって、ＤＣテストを可能にする半導体装置が、望まれる。
【解決手段】半導体装置は、データ信号を外部に出力するメインドライバと、データ信号が伝達する配線と接続されているコンデンサと、一端がコンデンサと接続され、他の一端がバイアス電圧源に接続されている終端抵抗と、バイアス電圧源と終端抵抗との間に接続されている第１のスイッチと、を含むＡＣ結合部と、テストモード時にＡＣ結合部のバイアス電圧源と終端抵抗との接続を、第１のスイッチにより遮断する制御回路と、を備える。 （もっと読む）

【課題】電極と誘電体部との密着性を良好なものとすること。
【解決手段】本発明は、上部電極１８と、下部電極１４と、上部電極１８と下部電極１４との間に配置され、窒化シリコン又は酸化アルミニウムからなる第１の膜２２、第２の膜２４及び第３の膜２６を下部電極１４側から順に有し、第１の膜２２及び第３の膜２６は、第２の膜２４よりもシリコン組成比又はアルミニウム組成比が大きい誘電体部１６と、を備える容量素子である。 （もっと読む）

【課題】回路規模を低減しつつ任意の論理を実現可能な半導体集積回路を提供する。
【解決手段】実施形態の半導体集積回路は、第１論理ブロックを少なくとも１つ含む第１回路群と、第１論理ブロックよりも多い数の第２論理ブロックを含む第２回路群と、入力データを第１論理ブロックまたは第２論理ブロックへ入力する機能、および、第１論理ブロックまたは第２論理ブロックから出力される出力データを外部へ出力する機能を有する入出力部とを含む。第１回路群は、第１スイッチブロックと、第１電源制御回路とを有する。第１電源制御回路は、第１回路群に含まれる第１論理ブロックおよび第１スイッチブロックに対する電力の供給および停止を共通に制御する。第２回路群は、第２スイッチブロックと第２電源制御回路とを有する。第２電源制御回路は、第２回路群に含まれる論理ブロックおよび第２スイッチブロックに対する電力の供給および停止を共通に制御する。 （もっと読む）

【課題】複数の動作条件においてもタイミング制約を満たすように遅延時間を調整することを可能にする。
【解決手段】本発明に係る半導体装置の配線構造セルＨＳＣは、Ｍ３層に、プロセス基準値ｂを満たす矩形に形成されたＭ３層１９と、Ｍ３層１９からプロセス基準値ａを満たすよう離間し、口字型に形成されたＭ３層１２と、Ｍ３層１９の上にプロセス基準値を満たす矩形に形成されたＶＩＡ３層１５と、Ｍ４層にＶＩＡ３層１５に接して、プロセス基準値ｃを満たす幅で伸長した矩形に形成されたＭ４層１１と、Ｍ３層１９の下にＶＩＡ３層１５と同じ平面形状に形成されたＶＩＡ２層１６と、Ｍ２層にＶＩＡ２層１６に接して、Ｍ４層１１と同じ平面形状に形成されたＭ２層１３と、を有するものである。 （もっと読む）

【課題】非導通状態におけるトランジスタから漏出するリーク電流を正確に測定することができるテスト回路を実現する。
【解決手段】遅延回路は、制御トランジスタ、測定対象トランジスタおよびコンデンサを備える。制御トランジスタは、入力端子の電位に応じて導通状態および非導通状態のうちのいずれかに移行することにより出力端子の電位を変化させる。チャネルの極性が前記制御トランジスタと同一の測定対象トランジスタは、電源とアースとの間において制御トランジスタに直列に接続される。コンデンサは、制御トランジスタが導通状態から非導通状態へ移行した場合に測定対象トランジスタから漏出したリーク電流の値に応じて出力端子の電位の変化を遅延させる。反転回路は、出力端子の電位を反転して前記入力端子に帰還させる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、貫通電極のサイズ（直径）が縮小化された場合でも、４端子法により貫通電極の抵抗値を正確に測定することの可能な半導体チップ及びその抵抗測定方法、並びに半導体装置を提供することを課題とする。
【解決手段】半導体基板１０１及び回路素子層１０２を有する半導体チップ本体５５と、半導体チップ本体５５を貫通する第１乃至第４の貫通電極６１〜６４と、回路素子層１０２に設けられた回路素子を介することなく、第１の貫通電極６１と第２の貫通電極６２とを電気的に接続する第１の導電経路９６と、回路素子を介することなく、第１の貫通電極６１と第３の貫通電極６３とを電気的に接続する第２の導電経路９７と、回路素子を介することなく、第２の貫通電極６２と第４の貫通電極６４とを電気的に接続する第３の導電経路９８と、を有する。 （もっと読む）