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【課題】発光素子に、面内非均一な組成の量子井戸を有する自己組織化された量子ドットアクティベーション層を形成する発光素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】発光素子は、N型層と、P型層と、前記N型層と前記P型層の間に挟まれたアクティベーション層と、前記N型層と前記P型層の間に挟まれたアクティベーション層を受け入れる第1面を有する基板と、を含む。前記アクティベーション層は、少なくとも一つのインジウム含有量子井戸層を含んでおり、前記インジウム含有量子井戸層のインジウムの組成は、前記アクティベーション層を成長させる成長面において変動している。前記基板には、中実部と多孔質部が設けられ、前記多孔質部は、前記インジウム含有量子井戸層のエピタキシャル成長のとき、温度を前記成長面に沿って変動させて、前記インジウム含有量子井戸層のインジウムの組成を変動させるように構成された孔を含む。 (もっと読む)


【課題】より長い波長の発光効率を上昇させることが可能な半導体ダイ、発光デバイス、製造する方法および多波長光を生成する方法を提供する。
【解決手段】半導体ダイは、少なくとも1つの第1の領域と少なくとも1つの第2の領域とを含む。少なくとも1つの第1の領域は、少なくとも第1の波長を有する光を発光するように構成される。少なくとも1つの第2の領域は、少なくとも第2の波長を有する光を発光するように構成され、この第2の波長は、第1の波長とは異なる。 (もっと読む)


【課題】コア・シェル型の半導体ナノワイヤが積層されて高効率のデバイスを製造することのできるナノ構造体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】基板の上にこの基板と垂直にコア・シェル型の半導体ナノワイヤを形成し、この半導体ナノワイヤを絶縁体で覆うと共に、この絶縁体をエッチングにより除去して半導体ナノワイヤの上部を露出させたナノ構造体を製造する。このナノ構造体を用いれば、半導体ナノワイヤの露出した上部にトンネル接合部を形成し、このトンネル接合部に新たな半導体ナノワイヤを積層することによりショートすることを抑制した高効率のデバイスを製造することができる。 (もっと読む)


【課題】光電子デバイス、太陽電池、及びフォトディテクタ等の光電子デバイスを構成するナノウィスカであって、III−V族半導体物質からなる幅の制御された複数のナノウィスカでの製造方法を提供する。
【解決手段】共鳴トンネルダイオード(RTD)は、基板にシード粒子を付着させることと、該シード粒子を物質にさらし、その際物質がシード粒子と共にメルトを形成するように温度と圧力の条件を制御し、それによってシード粒子がコラムの頂上に乗ってナノウィスカを形成することからなる方法によって形成され、ナノウィスカのコラムはナノメートル寸法の一定の径を有し、コラムの成長の間上記気体の組成を変更し、それによってエピタキシャル成長を維持しながらコラムの物質組成をその長さに沿った領域で変更し、これによって各部分の物質の間の格子不整合がその境界におけるウィスカの径方向外向きの膨張によって調整される。 (もっと読む)


【課題】光を効率良く取り出すことができる微細な棒状構造発光素子を提供する。
【解決手段】棒状構造発光素子は棒状の本体1を備えている。この本体1は、n型GaNからなる第1半導体部2と、この第1半導体部2に接触するp型GaNからなる第2半導体部3とを有しており、この第1半導体部2と第2半導体部3との境界面が発光面4となっている。本体1の軸方向の一端面5には凹凸が形成されている。 (もっと読む)


【課題】光学的な特性のすぐれたEr添加Si複合粒子を、確実、容易に製造する方法を提供する。
【解決手段】SiO基板上の中央にErチップを配置し、その周囲のエロージョン領域にSiチップを複数個配置してSiOターゲットを構成するとともに、該SiOターゲットに対してSi基板を対置し、真空雰囲気下で前記SiOターゲットと前記Si基板との間に高周波電力を印加して前記SiOターゲットから前記Si基板に対して3〜12時間スパッタリングさせErとSiを添加したSiO薄膜を備えたSi基板を形成し、ArまたはN雰囲気下で前記SiO薄膜を備えたSi基板を900〜1200℃の温度条件で30〜120分間熱処理して前記SiO薄膜中のErとSiを結晶化させEr添加Si複合粒子を含有するSiO薄膜とし、前記Er添加Si複合粒子を含有するSiO薄膜をエッチングしてSiOを除去しEr添加Si複合粒子を得ることを特徴とするEr添加Si複合粒子の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】優れた導電性および光特性を有するナノワイヤーを提供する。
【解決手段】コア部とシェル部とからなるシリコンリッチ酸化物を含むナノワイヤーであって、コア部は、結晶性または非晶性のシリコンリッチ酸化物を含み、前記シェル部は、シリカを含む。また、ナノワイヤーの縦軸に沿って、コア部は一列に整列した複数の金属(金、ニッケル、鉄、銀、アルミニウムおよびパラジウムからなる群より選択される少なくとも1種の金属)ナノドットを含み、シェル部はシリコン量子ドットを含む。また、シリコン基板上に金属触媒をコーティングする工程、チャンバーまたはマイクロチャンバーを準備する工程、および前記チャンバーまたは前記マイクロチャンバー内に気体を注入しながら加熱して、前記シリコン基板から拡散または気化したナノワイヤー源を用いてナノワイヤーを形成させる工程、を含む。 (もっと読む)


【課題】製造が容易であり、エネルギー利用効率に優れ、白色光源として使用可能な発光ダイオード素子の製造方法を提供する。
【解決手段】複数の柱状ナノ構造体13が表面上に形成された基板11が設置されたチャンバ内に対して、ガリウム化合物又はアルミニウム化合物を含む第1のIII族原料ガスと、V族原料ガスと、インジウム化合物を含む第2の原料ガスを供給する。第2の原料ガスの吸収端波長よりも長波長からなる光を照射する。これによって、柱状ナノ構造体13の形状に応じて発生させられる近接場光に基づき、インジウム化合物を含む第2の原料ガスが分解され、III-V族化合物半導体層15が柱状ナノ構造体13の外面上に成長される。これによって得られたIII-V族化合物半導体層15は、柱状ナノ構造体13の形状に応じたインジウムの濃度分布を有する。 (もっと読む)


【課題】発光粒子からの光の取出し効率を向上させた、発光効率が高く大面積化が容易な発光素子を提供する。
【解決手段】発光素子は、対向する一対の電極と、前記一対の電極に挟持された発光層と、を備え、前記発光層は、屈折率が互いに異なる第1及び第2の媒体が発光取り出し方向の前面側から背面側について前記第1の媒体、前記第2の媒体の順に積層し、発光粒子が前記第1及び第2の媒体の境界領域にそれぞれの媒体と少なくとも接するように配置されて構成されている。 (もっと読む)


【課題】複数の波長の光に感度を有する光検知器として機能する光半導体装置において、構造が単純で製造工程が煩雑でなく、容易に小型化を実現することができる光半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体基板24上に形成された下部電極層26と、下部電極層26上に形成された赤外線吸収層36と、赤外線吸収層36上に形成された上部電極層38とを有し、赤外線吸収層36は、方向によって寸法の異なる量子ドット30が積層されてなり、偏光方向に応じて赤外線に対する感度を有する波長が異なっている。 (もっと読む)


【課題】光取り出し向上の目的で凹凸を有する発光素子を形成するエピタキシャル成長基板に、縦方向成長により凹凸を埋めるようにIII族窒化物系化合物半導体を形成する。
【解決手段】凹凸を設けたサファイア基板にAlNバッファ層を介して埋め込みn−GaN:Si層を成長させた。比較のため、凹凸を設けた基板にSiを添加せずにi−GaN層を成長させたものと、凹凸を設けない基板にSiを添加せずにi−GaN層を成長させたものを用意した。エピタキシャル膜表面を塩化水素(HCl)ガスで処理し、貫通転位をピットに変換した。凹凸基板にn−GaN:Si層を成長させた場合(1.C)は、凹凸の無い基板にi−GaN層を成長させた場合(1.A)と同様にピットが多数形成されたが、密度は均一で、集中するようなことは無かった。凹凸基板にi−GaN層を成長させた場合(1.B)は、基板の凸部の上方に転位が集中し、大きなピットとなった。 (もっと読む)


【課題】単結晶フィルム状である酸化亜鉛バッファ層でアルミン酸リチウム基板上に窒化ガリウム核形成層を生長させることができ、窒化ガリウムの欠陥密度が低減され、また、優れた格子マッチングと結晶界面品質が得られ、発光効率と完成済みの素子機能が向上される酸化亜鉛による発光ダイオードの作製方法を提供する。
【解決手段】アルミン酸リチウム基板を選択して、該アルミン酸リチウム基板上に、酸化亜鉛バッファ層と窒化ガリウム核形成層をエピタキシャル生長させ、該酸化亜鉛と窒化ガリウムとの類似するウルツ鉱構造を利用して、高い質量である窒化ガリウムが得られ、また、該エピタキシャルされた後のGaN/ZnO/LiAlO2構造に、多重量子井戸と第1の金属電極層を生長させてから、該アルミン酸リチウム基板と該酸化亜鉛バッファ層をエッチング除去し、また、該窒化ガリウム核形成層の下方に第2の金属電極層を生長させる。 (もっと読む)


【課題】発光効率の高い半導体発光素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】半導体発光素子は、第1面10a及び第2面11bを有する第1導電型半導体を含む第1領域Aと、第1面13a及び第2面15aを有する第2導電型半導体を含む第2領域Bと、前記第1領域Aの第2面11bと前記第2領域Bの第1面13aとの間に配置された発光層12とを備える。前記第1領域Aの第1面10aと前記第2領域Bの第2面15aとの間には、閉じられた複数の空洞18が周期的に形成されている。 (もっと読む)


【課題】凹凸が選択的に形成された基板の上に平坦な結晶成長膜が形成された半導体装置を実現できるようにする
【解決手段】半導体装置は、基板10と基板10の上に形成された半導体層とを備えている。基板10は、主面に設けられた平坦領域20と、平坦領域20と異なる部分に設けられ、第1の凹部11が形成された第1の凹凸領域21と、第1の凹凸領域21と平坦領域20との間に設けられ、主面の上に半導体を結晶成長させる場合の成長核の発生確率が、第1の凹凸領域21よりも低く且つ平坦領域20よりも高い、第2の凹部12が形成された第2の凹凸領域22とを有している。 (もっと読む)


【課題】半導体デバイスの作製時にGaN結晶基板におけるクラックおよび割れの発生を低減することができるGaN結晶基板、それを含む半導体デバイス、その半導体デバイスの製造方法ならびにそのGaN結晶基板の識別方法を提供する。
【解決手段】面積が10cm2以上の表面を有するGaN結晶基板であって、GaN結晶基板の表面の周縁から5mm内側までの領域を除いた領域内におけるE2Hフォノンモードに対応するラマンシフトの最大値と最小値との差が0.5cm-1以下であるGaN結晶基板、それを含む半導体デバイス、その半導体デバイスの製造方法ならびにそのGaN結晶基板の識別方法である。 (もっと読む)


光結晶構造体を有する交流駆動型発光素子及びその製造方法が開示される。この発光素子は、複数個の発光セル及び発光セルを電気的に連結する金属配線を備える。一方、各発光セルは、第1の導電型半導体層、第1の導電型半導体層の一領域上に位置する第2の導電型半導体層、及び第1の導電型半導体層と第2の導電型半導体層との間に介在された活性層を備える。これに加えて、光結晶構造体が、第2の導電型半導体層に形成されて位置する。光結晶構造体は、活性層から放出された光が、光結晶構造体の周期的な配列により側面伝播されることを防止し、発光素子の光抽出効率を高める。また、金属配線を介して複数個の発光セルを電気的に連結することにより、交流駆動可能な発光素子を提供することができる。
(もっと読む)


【課題】結晶欠陥の少ない窒化ガリウム系化合物半導体の結晶エピタキシー構造を提供する。
【解決手段】基材31を提供し、基材31に対し表面過熱掃除を実行するステップ41と
、第一の温度の下で基材31の上に低温窒化ガリウム緩衝層32’を形成するステップ4
2と、温度を昇温し、第一の窒化ガリウム緩衝層の表面に結晶核を形成させることによっ
て高温窒化ガリウム緩衝層32”を形成するステップ43と、温度を降下し、第二の温度
の下で高温窒化ガリウム緩衝層32”の上に第二の窒化インジウム・ガリウム緩衝層33
を形成するステップ44と、温度を昇温し、第三の温度の下で第二の窒化インジウム・ガ
リウム緩衝層33の上に窒化ガリウム結晶エピタキシー層34を形成するステップ45と
からなる。 (もっと読む)


【課題】 複数のナノコラムから成る発光ダイオードにおいて、光取出し効率を向上する。
【解決手段】 シリコン基板1上に、n型GaNナノコラム層2、発光層3を形成し、ナノコラム径を広げながらp型GaNコンタクト層4をエピタキシャル成長させた上に、半透明のp型電極5を形成させて成る発光ダイオードD1において、前記n型GaNナノコラム層2に、多重量子井戸構造やダブルへテロ構造で実現される吸収・再発光層6を設ける。したがって、発光層3のエスケープコーンに入らず、該発光層3からナノコラムの軸方向に放射された光は、前記吸収・再発光層6で吸収・再発光されて、そのエスケープコーンからナノコラムの外部へ放出されるので、シリコン基板1やp型電極5に吸収される割合が減少する。これによって、ナノコラム内に閉じ込められた光を効率良く外部に取出すことができ、光取出し効率を一層向上することができる。 (もっと読む)


【課題】GaN系化合物半導体装置において、GaN系層の転位密度を低減する。
【解決手段】基板10上に順次GaNバッファ層11、GaN層12、GaNとGaNPとからなる量子井戸層(MQW)層14、GaN層16を順次成長させる。GaNP層のP原子が転位の位置に選択的に取り込まれて、転位をそこで終端させ、GaN層の転位密度を低減させる。このように、GaN系化合物半導体装置において、GaN系層間にGaNとGaNPとからなる量子井戸層(MQW)層を挿入することでGaN層の転位密度を低減させる。 (もっと読む)


【課題】 発光体が放射する光を空気中により効率よく取り出すこと。
【解決手段】 自発光デバイス1は、半導体層の屈折率分布により光の取り出し効率を向上させる態様であり、第1の層(半導体層2)と、第1の層(半導体層2)上に重なる発光層3と、発光層3に重なる第2の層(半導体層4)とを備え、第1の層(半導体層2)の屈折率と第2の層(半導体層4)の屈折率とを異ならせ、発光層3を挟む層(半導体層2,4)の屈折率を非対称な構成とする。非対称な層(半導体層)の屈折率分布において、第2の層(半導体層4)の屈折率を第1の層(半導体層2)の屈折率よりも高くする。 (もっと読む)


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