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Fターム[5F044MM25]の内容

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Fターム[5F044MM25]に分類される特許

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【課題】フリップチップ実装の半導体装置において、パッケージ外部の設計を変更せずに、特定の端子の電位を変更できる半導体装置を提供する。
【解決手段】本発明の半導体装置は、外部端子にバンプを備えるICチップと、前記ICチップを搭載するパッケージとを備え、前記パッケージは、前記外部端子に第1の信号又は第2の信号を印加するインナーリード部を備える。前記インナーリード部は、前記ICチップの搭載位置により、前記外部端子に印加する信号を、前記第1の信号又は前記第2の信号に変更可能なインナーリードのパターンを有する。 (もっと読む)


【課題】リード配線のずれによるショートやリークを防止する。
【解決手段】半導体装置は、第1,第2突起電極6a,6bの並び方向を第1方向し、第1突起電極6aとの接合部の第1方向の幅が第1突起電極6aの幅以上である第1インナーリード配線10aと、第2突起電極6bと接合される第2インナーリード配線10bとを備える。 (もっと読む)


【課題】高密度化する電子部品の実装技術において、より簡便な方法で、より高品質、より高信頼性の接続構造を提供する。
【解決手段】電子部品100の実装構造は、複数の電極11を有する電子部品10を、複数の電極11がそれぞれ接合される複数の電極21を有する電子部品20に実装する構造であって、電極11と電極21とが接合されたそれぞれの接合面50は、電極11あるいは電極21が配列されている実装面10s,20s方向に対して傾斜しており、接合面50の傾斜方向は、少なくとも、第一の方向と、第二の方向とを有し、第一の方向と第二の方向は、電子部品10を電子部品20に実装した後に、電子部品10あるいは電子部品20のいずれか一方が他方より高い収縮率で、実装面10s,20sの方向に収縮した場合に、第一の方向の接合面50と第二の方向の接合面50とにそれぞれ応力が発生する方向に傾斜している。 (もっと読む)


【課題】本発明は、接合材料を微細ピッチで供給し電気的な接続が可能な電子部材を提供することを目的とする。
【解決手段】回路基板に設けられた一つ以上の接続端子に対して、電子部材に設けられた一つ以上の電極が接合層を介して電気的に接合され、前記接合層は焼結銀を主体として構成され、前記接合層と接していない電極表面の全面あるいは一部が酸化銀の粗化層であり、当該酸化銀の粗化層の厚さは400nm以上5μm以下であり、前記酸化銀の層の最表面は1μmより小さい曲率半径となっていることを特徴とする電子部品。 (もっと読む)


【課題】開口と、当該開口に先端が延在しているリードとを有するTAB(Tape Automated Bonding)テープにおけるリード変形を軽減する。
【解決手段】開口12を有する絶縁性フィルム6と、絶縁性フィルム6上から開口12内に延在し、半導体チップに環状に配置された複数の第1パッド各々に開口12内で接続する複数の第1リード3a、及び、第1パッドよりも外周側に環状に配置された複数の第2パット各々に開口12内で接続する複数の第2リード3bと、開口12内に位置し、複数の第1リード3aと繋がり、第2リード3bとは繋がらないリード端部保持部材13とを有するTABテープ。 (もっと読む)


【課題】フレキシブル配線基板を用いたBGA型の半導体装置で特に1層配線構造のものに関して、フレキシブル配線基板の一面側と他面側での熱膨張係数の違いを小さくして、反りの発生を抑制する。
【解決手段】この半導体装置は、一主面に電極パッド3を含む回路が形成された半導体チップ2と、該一主面と接着され、該回路と電気的に接続されたフレキシブル配線基板4とを有する。配線基板4は、半導体チップ2の一主面が接着される側の第一の面と該第一の面とは反対側の第二の面とを持つフレキシブルな絶縁基材41と、該第一の面に形成され前記の回路と電気的に接続された配線層の配線42と、該第二の面に配置され、該第二の面に配線層を設けることなく該第一の面における配線層の配線42と電気的に接続された外部端子6と、該第二の面の、外部端子6に対応する部位を除いた全面に設けられた絶縁性の樹脂層46とを有する。 (もっと読む)


【課題】異なるテストパッド数のTABテープであっても、同一の仕様のプローブカードを共用することを可能にする。
【解決手段】絶縁基板2上に形成されるリード4a,4bとリード4a,4bの外部接続用端子6a,6bに接続され所定の配列で配置される電気検査用のテストパッド7a,7bとを有するTABテープ1において、テストパッド7bの配列方向の端部の更に外側に、前記リードに接続されないダミーテストパッド8が、テストパッド7bと同一配列で配置されている。 (もっと読む)


【課題】低コストで高生産性に適した半導体装置用テープキャリアを提供すること。
【解決手段】半導体チップを搭載するために絶縁フィルム上に銅配線パターンが形成された半導体装置用テープキャリアにおいて、前記銅配線パターンは前記半導体チップのアルミ電極パッドに接続するためのインナーリードを有し、前記インナーリードには表面に金めっきが施され、前記金めっきの表面の(111)配向指数が1.0以上1.6以下であり、前記金めっきのめっき膜厚が0.15μm以上0.25μm以下である。 (もっと読む)


【課題】μBGAのような半導体装置の製造方法において、配線基板の外周にめっき用配線を引き出すことによって配線できない箇所が生じるという課題を解消する。
【解決手段】配線基板4は、半導体チップの主面に配線基板4が接着された状態において該主面に垂直な方向から見てILB用開口部7のパッド1とは重ならない位置に配されるように開口部7を跨いでおり、かつ他の配線9に電気的に接続されためっき用配線12−1を有する。そして、配線のめっき処理後、半導体チップの主面に配線基板4を接着し、開口部7内のめっき用配線12−1をパッド1にボンディングせずにボンディングツールによって切断する。 (もっと読む)


【課題】 デバイスホールに突出するように設けられるフライングリードに寸法誤差や形状歪みや変形が発生することを抑制ないしは解消したプリント配線板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 絶縁性基材1の表面に、配線2と、デバイスホール4と、前記配線2に連なると共に前記デバイスホール4に突出するように設けられたフライングリード3とを有するプリント配線板であって、前記デバイスホール4が、少なくとも前記フライングリード3の先端を含むように設けられた第1のデバイスホール5(5a、5b、5c)と、当該第1のデバイスホール5よりも大きな面積を有し、かつ当該第1のデバイスホール5に対して少なくとも部分的に連続するように設けられた第2のデバイスホール6とからなるものである。 (もっと読む)


【課題】 同時に入出力されるデータビット数が異なる半導体装置では、プリント基板の半田ボールと半導体チップのパッド位置が、左右の領域に分かれ、ボールとパッド間の配線ができなくなり、ビット数が異なる製品を、1つのチップで共用することができないという問題がある。
【解決手段】 同時に入出力されるデータビット数が8、16、32ビットのいずれかに変更可能で、複数のパッド電極がチップの中央部に少なくとも2列に配列された半導体チップを有した半導体装置は、前記複数のパッド電極の中の所定のパッド電極が、データ入出力数が16ビットのときのみに使用される16ビット専用のパッド電極と、データ入出力数が32ビットのときのみに使用される32ビット専用のパッド電極と、を備えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】空中配線部を有する両面配線板の製造方法において、製造時間を短縮するとともに製造コストを低減し、安定したチップとの接合が可能な配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁基板の第1、第2主面とに第1及び第2導体膜とが設けられ、第2主面に接着剤がない両面銅張積層板を準備する工程と、第1導体膜と絶縁基板とを貫通するブラインドビアホールを形成する工程と、絶縁基板の第1主面側の表面全面に導電膜を形成する工程と、第1導体膜上及びブラインドビアホール内にめっきを形成する工程と、第1導体膜及び第2導体膜をパターニングして第1、第2導体パターンを形成する工程とを有し、導体パターンの形成工程の後、デバイスホール形成予定領域を除いた第1主面側及び第2主面側の表面全面にレジスト膜を形成する工程と、エッチングにより絶縁基板にデバイスホールを形成する工程と、レジスト膜を剥膜する工程とを備える。 (もっと読む)


【課題】従来のウェットエッチングプロセスでは、エッチングが等方的に進行するので、アンダカットが生じて、配線パターンのトップ幅がボトム幅よりも細ってしまい、有効なボンディングを行うことが困難であった。また、アンダカットに起因したトップ幅の細りはリードの強度を不足させ、配線がデバイスホールに中空に形成された状態では、半導体チップとの接合が困難となる。
【解決手段】デバイスホールを有する絶縁性基板の片面に張り合わされた導体箔を、インヒビタを添加したエッチャントを用いたウェットエッチングによってパターン加工することで、ボトム幅よりもトップ幅の方が広くなり、電極パッドに突き刺さるよう作用させ、デバイスホール内の絶縁性基板側で半導体チップの電極パッドに対して確実な接合を得ることができる。また、半導体チップを搭載する場合、デバイスホール内に半導体チップが格納されるように配置するため、パッケージの薄型化を図ることができる。 (もっと読む)


【課題】テープキャリア基板の撓みにより発生する応力を分散させ、テープキャリア基板の導体配線の破断を防止することができるテープキャリア基板を提供する。
【解決手段】テープキャリア基材と、その幅方向に直線状に形成された第1及び第2の端子部と、テープキャリア基材の一方の辺に、第1及び第2の端子部と平行に形成された第1の切り欠き部と、その他方の辺に形成された第2の切り欠き部と、第1及び第2の端子部間に形成されたデバイスホールと、第1の端子部とデバイスホールとを接続する第1の導体配線と、第2の端子部とデバイスホールとを接続する第2の導体配線とを備え、第1の切り欠き部と第2の切り欠き部とは、互いに平行に形成されており、第1の切り欠き部の長さは、一方の辺から第2の切り欠き部の先端までの長さより長く、かつ、第2の切り欠き部の長さは、他方の辺から第1の切り欠き部の先端までの長さより長い。 (もっと読む)


【課題】半導体素子のAuバンプと金錫共晶接合により接続される接続端子部を構成する配線をダウンセット加工して成形したときに、配線の形状をその成形により十分安定化させることができる、COFテープを用いた半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】デバイスホールがないCOFテープから構成される配線基板2上に半導体素子3を搭載するにあたり、接続部を構成する半導体素子3のAuバンプ4と配線基板2上の配線5のSnめっきされた接続端子部6とを加熱ツール7により接触加圧して加熱して金錫共晶接合により接続すると共に、接続部領域に位置する配線基板2の配線5と反対側の対応する面上に剛性の高い金属箔14を設けて、金属箔14とともに配線基板2上の配線5を接続部から遠ざかるようにダウンセット加工して成形するようにした。 (もっと読む)


【課題】TCP型半導体装置の製造コストを削減する方法を提供する。
【解決手段】TCP型半導体装置は、ベースフィルムと、ベースフィルム上に搭載された半導体チップと、ベースフィルム上に形成され、半導体チップと電気的に接続された複数のリード30と、を備える。複数のリード30の各々は、外部に露出した外部端子部40を有する。各リード30の外部端子部40は、厚さが第1厚さである第1部分41と、厚さが第1厚さよりも小さい第2厚さである第2部分42と、を含む。複数のリード30のうち隣り合うリード間で、第1部分41と第2部分42とは互いに対向するように位置している。 (もっと読む)


【課題】 特にインナーリードにおけるトップ幅の細りやそれに起因した接合不良等の発生を解消して、パターン不良や短絡不良や絶縁信頼性の低下のような別の新たな不都合を生じることなしに、実装される半導体装置の電極パッドに対して確実な接合を得ることができるような十分に広いトップ幅を確保した、ファインパターンのインナーリードを備えた半導体装置用TABテープおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明の半導体装置用TABテープでは、インナーリード6および配線パターン5が、有機化合物または無機化合物からなるインヒビタを添加したエッチャントを用いたウェットエッチングプロセスによって導体箔11をパターン加工することにより形成されている。 (もっと読む)


【課題】耐折性の優れた配線を有するプリント配線基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁基材10の表面に、下地層23と、この上にセミアディティブ法により形成された銅めっき層24とを含む配線パターンを有するプリント配線基板であって、前記銅めっき層24が、多層構造を有し、双晶粒径が5μm未満である。 (もっと読む)


【課題】熱収縮量の違いにより、バンプがインナーリードによって引っ張られるのを抑制し、バンプが傾くのを防止することができる半導体パッケージの提供。
【解決手段】ベースフィルム12と半導体チップ26を構成するシリコン材料とは熱膨張係数が異なるため、冷却時に収縮する量が相違する。ベースフィルムが半導体チップ26より多く収縮することで、ベースフィルム12によってインナーリード18が引っ張られ、インナーリード18に接続していた金バンプ32も引っ張られる。これにより、金バンプ32が傾くことが考えられる。しかし、金バンプ32とは別個に補強バンプ40を設けることで、1本のインナーリード18に対して半導体チップ26との間で2箇所の金属接合部が確保されるため、金バンプ32に作用する引張力が、補強バンプ40へ分散され、金バンプ32が傾くのを防止することができる。 (もっと読む)


【課題】本発明は、インナーリード長さの長短や先細り形状の発生を抑制することができる電子部品実装用フィルムキャリアテープの製造方法及びフォトレジストパターンの設計方法を提供する。
【解決手段】本発明に係るフォトレジストパターンの設計方法は、インナーリード6aを形成するためのフォトレジストパターン2aを設計する方法において、フォトレジストパターン2aは、インナーリード6aと同じ形状からなるパターンを幅方向に広げたインナーリードパターンと、インナーリードパターンの先端に形成された補正領域パターンとを有しており、補正領域パターンには穴1が形成されており、穴1とインナーリードパターンの先端との間には所定の距離Sが形成されていることを特徴とする。 (もっと読む)


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