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Fターム[5F044NN08]の内容

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Fターム[5F044NN08]に分類される特許

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【課題】封止材の充填不良(ボイド)が抑制され、封止材の注入速度を速めることを可能な半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体装置1は、半導体チップ10に形成された電極をなす複数の外部端子11と、パッケージ基材20に形成された複数の引出配線21とが接合され、複数の外部端子11及び複数の引出配線21が封止材により封止されたものである。半導体チップ10においては、複数の外部端子11からなる外部端子列12が、外部端子列12の延びる方向に対して交差する方向に複数配列しており、かつ、複数の外部端子列12において、複数の外部端子11のうち2以上がチップ辺10Eに対して交差する方向に同軸配列している。 (もっと読む)


【課題】放熱効率の良いフレキシブルプリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】TCP型フレキシブルプリント配線板12Aの製造方法は、金属基材フィルム1に接着剤層1Aを積層する工程と、接着剤層1Aに導電体箔2を貼り付ける工程と、導電体箔2にフォトレジスト膜4を積層する工程と、フォトレジスト膜4を露光及び現像する工程と、金属基材フィルム1の導電体箔2に覆われていない部分にエッチング保護膜15を被せる工程と、エッチング保護膜15が被せられている状態で、露光及び現像後のフォトレジスト膜4(現像パターン4A)を介して導電体箔2をエッチングして導電パターン3を形成する工程とを有する。 (もっと読む)


【課題】配線からの金属イオンの析出によるマイグレーション発生を防止できる、高信頼性の半導体装置を提供する。
【解決手段】ベースフィルム1に複数の配線9が配置されたフレキシブル配線基板11と、上記フレキシブル配線基板11に搭載された半導体チップ5と、フレキシブル配線基板11と半導体チップ5との間に、少なくとも一部が配線9に接するように配置された封止樹脂6を有し、封止樹脂6に金属イオン結合剤が混合されている。 (もっと読む)


ICパッケージング用インターポーザーフィルムが開示される。インターポーザーフィルムは、複数の導電性領域を支持する基板を含んでなる。この基板は、ポリイミドおよびサブミクロン充填材から構成される。ポリイミドは、剛性ロッド二無水物、非剛性ロッド二無水物およびそれらの組み合わせからなる群から選択される少なくとも1つの芳香族二無水物成分と、剛性ロッドジアミン、非剛性ロッドジアミンおよびそれらの組み合わせからなる群から選択される少なくとも1つの芳香族ジアミン成分とから誘導される。二無水物のジアミンに対するモル比は、48〜52:52〜48であり、そしてXを剛性ロッド二無水物および剛性ロッドジアミンのモルパーセント、Yを非剛性ロッド二無水物および非剛性ロッドジアミンのモルパーセントとした場合のX:Y比率は、20〜80:80〜20である。サブミクロン充填材は、少なくとも1つの寸法で550ナノメートル未満であり、3:1を超えるアスペクト比を有し、全ての寸法でフィルムの厚さ未満である。
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【課題】半導体素子のAuバンプと金錫共晶接合により接続される接続端子部を構成する配線をダウンセット加工して成形したときに、配線の形状をその成形により十分安定化させることができる、COFテープを用いた半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】デバイスホールがないCOFテープから構成される配線基板2上に半導体素子3を搭載するにあたり、接続部を構成する半導体素子3のAuバンプ4と配線基板2上の配線5のSnめっきされた接続端子部6とを加熱ツール7により接触加圧して加熱して金錫共晶接合により接続すると共に、接続部領域に位置する配線基板2の配線5と反対側の対応する面上に剛性の高い金属箔14を設けて、金属箔14とともに配線基板2上の配線5を接続部から遠ざかるようにダウンセット加工して成形するようにした。 (もっと読む)


【課題】 耐折性や曲げ応力特性の悪化を招くことなく熱放散性を向上せしめることを可能とした半導体装置用テープキャリアおよびそれを用いた半導体装置を提供する。
【解決手段】 本発明の半導体装置用テープキャリアは、絶縁性フィルム基材1と、前記絶縁性フィルム基材1の片面に設けられた配線パターン2と、前記絶縁性フィルム基材1における前記片面とは反対側の面に設けられた、当該半導体装置用テープキャリアにおける熱放散性を高めるための放熱板4とを有する半導体装置用テープキャリアであって、前記放熱板4が、当該半導体装置用テープキャリアにおける曲げ応力特性を調節するためのパターン間スペース3のようなスリットおよび/または開口を設けてなるものであることを特徴としている。 (もっと読む)


【課題】この発明はキヤリアテープに大きな熱影響を与えずに電子部品を実装できるようにした実装装置を提供することにある。
【解決手段】キヤリアテープ1に電子部品16を実装するとき、第2のヒータ36によって加熱された実装ツール18をその下端面がキヤリアテープの上面に近接する高さまで下降させて待機させてから第1のヒータ35によって上記実装ツールよりも高い温度に加熱された実装ステージ17を実装位置まで上昇させた後、実装ツールをさらに下降させてロードセル37が検出する荷重に基いて実装荷重を制御装置25によって制御してキヤリアテープに電子部品を実装する。 (もっと読む)


【課題】半導体チップに接合されたインナリードの曲げによる応力を低減する手段を提供する。
【解決手段】ベースフィルムの半導体装置形成領域に設定されたチップ搭載領域と、チップ搭載領域に形成された複数のインナリードと、インナリードと端子との間を接続するアウタリードと、アウタリードを覆うソルダレジスト層と、を備えたCOF用フィルムにおいて、ソルダレジスト層のチップ搭載領域側に、厚さを厚くした厚膜部を形成する。 (もっと読む)


【課題】接続信頼性の高い電子部品実装用フィルムキャリアテープ、そのフィルムキャリアテープの製造方法、及び、そのフィルムキャリアテープを用いた半導体装置を提供する。
【解決手段】電子部品実装用フィルムキャリアテープ10は、電子部品50に形成されたバンプ電極52により電子部品50に接続して電子部品からの入出力信号を処理するためのインナーリード20、及び、インナーリード20からの信号を配線パターンを介して入出力処理するためのアウターリードを有する電子部品実装用フィルムキャリアテープ10において、電子部品50に形成されているバンプ電極52と接合するインナーリード20に、バンプ電極52が嵌合して接続する嵌合凹部54が形成されている。 (もっと読む)


【課題】導体配線や突起電極の向きに制約を受けずに、基材からの導体配線の剥離や、突起電極の付け根部分での導体配線の断線を抑制する。
【解決手段】絶縁性基材1上に複数の導体配線2a、2bが形成され、導体配線上に複数の突起電極3a、3bが設けられた配線基板5と、複数の電極パッドを有し、配線基板上に搭載されて電極パッドと導体配線とが突起電極を介して接合された半導体素子8と、配線基板と半導体素子との間隙及び半導体素子の側面に形成された封止樹脂層とを備える。半導体素子の4辺は、配置された電極パッドの個数が他の辺に配置された電極パッドの個数よりも少ない少数配置辺Aと、他の多数配置辺Bとを含み、少数配置辺において、導体配線の長手方向に対して平行な突起電極の側端面と、半導体素子の端面が、鈍角を形成している。 (もっと読む)


【課題】複雑な製造工程を経ることなく、容易に製造することができ、電子部品を実装した場合、電子部品から発生する熱を効率的に放出することができるフレキシブル配線基板を提供すること。
【解決手段】本発明のフレキシブル配線基板は、アウターリード形成領域と、電子部品実装領域とが、両領域の間に形成された第1折り曲げ部を介して隣接する可撓性絶縁基板と、可撓性絶縁基板の一方の面に配線パターンが形成されたフレキシブル配線基板であり、フレキシブル配線基板に形成された配線パターンの一方の端部がアウターリードを形成し、他端がインナーリードを形成し、該フレキシブル配線基板は、所定形状に折り曲げが可能なように形成されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】リール巻取り時のストレスによるインナーリードへのダメージを抑制できる半導体装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る半導体装置は、複数のバンプ2を有する半導体チップ1と、複数のインナーリード3,4を有するフレキシブルテープと、を具備し、前記複数のバンプ2それぞれに前記インナーリード3,4が接合されており、
前記半導体チップ1の表面の隅に配置されたバンプ2に接合されたインナーリード3の幅は、前記半導体チップ1の表面の隅以外に配置されたバンプ2に接合されたインナーリード4の幅より太く形成されており、前記半導体チップ1の表面の隅に配置されたバンプ2に接合されたインナーリード3の幅は、前記バンプ2の幅より太く形成されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】配線の断線を防止することができる半導体装置を提供する。
【解決手段】フィルム基板に実装されたインターポーザ基板と、インターポーザ基板に実装された半導体素子とを備え、インターポーザ基板は、複数個の第1基板金属バンプと、複数個の第1基板パッドメタル23と、複数本の基板配線24とを有し、半導体素子は、第1基板金属バンプとそれぞれ熱圧着により接合した複数個の素子金属バンプと、複数個の素子パッドメタル13と、複数本の素子配線14とを有する半導体装置であって、第1基板パッドメタル23および素子パッドメタル13は、各角が外側に向かって突き出る多角形状をしており、基板配線24は、それぞれ対応する第1基板パッドメタル23の角の頂点から間隔を空けた位置に接続され、素子配線14は、それぞれ対応する素子パッドメタル13の角の頂点から間隔を空けた位置に接続されている。 (もっと読む)


【課題】標印工程を簡素化しながら、品質管理を容易に行うことが可能な半導体装置を提供する。
【解決手段】この半導体装置は、主面上に複数の配線リード2が形成されたフィルム基板10と、フィルム基板10の主面上に搭載され、配線リード2と電気的に接続された半導体チップ20と、フィルム基板10の外周部の領域上に形成された金属層7と、フィルム基板10の主面上に、金属層7を覆うように形成されたソルダレジスト層9とを備えている。そして、金属層7が形成されている領域(標印領域6)には、レーザ照射による刻印によって、製品情報が標印されている。 (もっと読む)


【課題】半導体素子の性能を維持しつつ、小型化、及び設計の効率化が実現できる半導体装置及び基板を得る。
【解決手段】半導体素子12に対し、表示装置を駆動させる信号を出力する半導体素子内部出力部30A〜30Dの近傍にグランド端子電極52a及び電源端子電極52bを設ける一方、絶縁性フィルム18に対し、従来より半導体素子12の第1の辺に沿って設けられているグランド端子電極14a及び電源端子電極14bと、グランド端子電極52a及び電源端子電極52bとを接続する半導体素子上金属配線パターン54を設ける。 (もっと読む)


【課題】加工装置や加工工数を増やしてコスト高を招くようなことなく、また信頼性を損なうことなく、放熱効率の良い半導体装置、半導体装置を用いたディスプレイ装置および半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】可撓性を有する絶縁基材1の表面に導電パターン3を形成し、その導電パターンに接続して絶縁基材の表面に半導体7を搭載する半導体装置16において、半導体7のまわりを一部残して半導体を取り囲むように、絶縁基材にスリット5を形成して半導体保持部位30を設ける。ここで、スリット5は、例えば、外形が四角い半導体7の三辺を取り囲むように、コの字状に形成する。 (もっと読む)


【課題】半導体チップと外部基板との実装方向の制約がなく、かつ狭ピッチの半導体チップとの接合を可能にするテープ配線基板を提供する。
【解決手段】可撓性の絶縁性基材2aと、絶縁性基材2a上に形成された導体配線4aとを備える。導体配線4aの断面形状が三角形である部分5aと四角形である部分6aとを有し、導体配線4aの断面形状が三角形である部分5aには、導体配線4aの半導体チップが実装可能に形成された部分3に形成されたインナーリード部が含まれる。 (もっと読む)


【課題】現行の接合条件を変更せずに、信頼性あるファインピッチILBを確立できるフレキシブル配線基材並びに半導体装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁基材11と、絶縁基材11の一方面に形成された銅を含む導電体層をパターニングした配線パターンと、配線パターンの端子部を除く表面を被覆するソルダーレジスト層17とを具備し、配線パターンの端子部は、配線ベース層21上にスズめっき層26を施したものであり且つ各端子のピッチが20μmより大きく30μmより小さいフレキシブル配線基材において、端子部の配線ベース層21上のスズめっき層26は、スズめっき層26中に配線ベース層21の銅が拡散した拡散層26aと純スズ層26bとからなり、総厚が0.26μm〜0.5μmの範囲であり、純スズ層の厚さが0.08μm〜0.18μmであり且つ総厚をtとしたときの(0.53−0.846t)μmの値を超えない範囲にある。 (もっと読む)


【課題】配線パターンにおけるエレクトロマイグレーションの発生を抑制できるようにした半導体装置の製造方法及び半導体装置を提供する。
【解決手段】ポリイミド等からなるフィルム1上に形成され、その表面がメッキ層で覆われているインナーリード2の接合位置にICチップ20のバンプ22を重ね合わせて接合する際に、インナーリード2の表面を覆うメッキ層5を接合時の熱で溶融し、溶融したメッキをインナーリード2の(フィルム1から剥がれた)先端部2aの剥離面へ回り込ませる。これにより、先端部2aの剥離面にもメッキ層が形成される。 (もっと読む)


【課題】半導体装置の歩留り及び品質を向上を図る。
【解決手段】ベースフィルム31の上に複数の配線32が形成され、半導体チップ20の電極22に対応して露出して配置された配線32の接続部36を有するテープ基板30における接続部36と、半導体チップ20の複数の電極22とを電気的に接続するインナリードボンディングを行う。この際に、テープ基板30を、複数の配線32それぞれにおける延在方向の接続部36から外側箇所が、テープ基板30の厚さ方向Hに対して、接続部36よりベースフィルム31側に曲げ加工された状態(曲げ加工部M)にしておく。これにより、インナリードボンディング後にテープ基板30と半導体チップ20が接触してしまう、所謂エリアショートを防止することができる。したがって、製品の歩留りを向上させることができると共に、製品の品質を向上させることができる。 (もっと読む)


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