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Fターム[5F045EB00]の内容

気相成長(金属層を除く) (114,827) | 成膜一般 (2,888)

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Fターム[5F045EB00]に分類される特許

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【課題】ホストコンピュータからの指令に応じて基板処理装置がデータ処理装置に処理レシピの最適化計算を行わせる。
【解決手段】所定の処理レシピに基づいて被処理基板のプロセス処理を実行する熱処理装置100と,処理レシピの最適化計算を行うデータ処理装置400と,ホストコンピュータ500と,をネットワーク310で接続した基板処理システムの処理レシピ最適化方法であって,基板処理装置は,ホストコンピュータから処理レシピ最適化処理実行指令を受けてデータ処理装置に計算に必要なデータを送信して処理レシピの最適化計算を実行させて,その結果に基づいて処理レシピを更新する。 (もっと読む)


【課題】データ解析の精度を低下させることなく,データの記憶容量の消費を抑える。
【解決手段】所定のサンプリング周期で各MC340A,340B,340C等によって計測器350A,350B,350C等から計測データを取得してデータ記憶手段640に記憶する際に,サンプリング制御手段614は,装置状態が基板処理実行状態でない場合(例えばアイドリング状態)には,基板処理実行状態である場合よりもサンプリング周期を長くすることによって,データ記憶手段に記憶されるデータ量を極力少なくする。 (もっと読む)


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