【課題】人手による搬送作業をなるべく抑えて露光装置とマスク検査装置との間でフォトマスクを搬送することができるマスク搬送システムを提供する。
【解決手段】実施形態によれば、マスク搬送システムは、ストッカ１１〜７１と、搬送路３と、収納容器と、搬送装置２００と、制御装置８０と、を備える。収納容器はウェハ搬送用とマスク搬送用とで同一の構造を有する。制御装置８０は、露光エリア３０のストッカ３１、またはマスク検査エリア７０のストッカ７１に収納容器が入庫されると、収納容器がマスク搬送用であるかを判別し、マスク搬送用の収納容器である場合には入庫されたストッカではないストッカ７１，３１に収納容器が搬送されるように搬送装置２００を制御する搬送装置制御部を備える。 （もっと読む）

【課題】磨耗粉を低減することのできるペリクル収納ケース用コーナークリップを提供する。
【解決手段】ペリクルを載置するトレイと、ペリクルを覆うように前記トレイと嵌合するカバーとで構成される、ペリクル収納ケースに用いるコーナークリップ。前記コーナークリップの素材が、デュロメータ硬度がD58〜D64の樹脂であることが特徴である。 （もっと読む）

【課題】マッピング情報を活用できる基板処理システムを提供する。
【解決手段】マッピング情報を活用できる基板処理システムは、複数枚のウエハを収納したポッドのキャリア識別子を認識する主制御部と、ウエハを搬送する動作制御部を主制御部からの指示に従って制御する搬送制御部と、ポッドのスロットにおけるウエハの有無を検知するマッピング装置と、を備えており、主制御部はキャリア識別子にマッピング装置の検知結果を含むマッピング情報を関連付けて蓄積してキャリア識別子−マッピング情報蓄積テーブル９１を作成する。テーブル９１に基づいて特定キャリア履歴ファイル９２を抽出することにより、マッピング情報を活用できる。 （もっと読む）

【課題】大型のマスクの交換を効率良く実施し、かつ、次の露光処理に使用されるマスクに対する異物の付着を防止することが可能な露光装置を提供する。
【解決手段】複数の原版Ｍ、ＭＰを保管するストッカと、原版Ｍを原版ステージ３に向けて搬送する搬送路７とを有し、原版ステージ３に載置する原版Ｍを交換するための原版交換装置６を備える露光装置１であって、搬送路７は、原版ステージ３上に向けて設置された直線路であり、原版交換装置６は、搬送路７に吊設された、原版Ｍを保持するハンド１１を有する台車９と、搬送路７の直下に設置された待機室８とを備え、第１の原版Ｍを使用した第１回目の露光処理の間に、第２回目の露光処理で使用される第２の原版ＭＰを、予めストッカから待機室８に搬送し、待機室８で待機させる。 （もっと読む）

【解決手段】ペリクルが載置されるトレイと、トレイを覆ってトレイと共にペリクルを収容する閉空間を形成するカバーとを備え、トレイが、ペリクルフレームの粘着剤塗布端面の一部に設けられた粘着剤の未塗布領域とのみ接触することによってペリクルを支持するペリクルフレーム支持体と、ペリクルフレームをペリクルフレーム支持体上で固定する保持機構とを有し、ペリクルフレーム支持体が、基体部と、ペリクルフレームと接する緩衝部とで構成され、両者が硬さの異なる部材の接合体で形成されたペリクル収納容器。
【効果】粘着剤層がペリクル収納容器に接触することなくペリクルが収納容器内で固定され、セパレータを使用せずとも粘着剤層を保護することができるため、保管中にセパレータを必要としない。 （もっと読む）

【課題】軟Ｘ線領域等の短波長を使用して形成される、より集積度の高い新世代の半導体回路の製造工程で使用されるマスクの運搬時及び保管時において、マスク表面に貼り付けるペリクル膜の使用を不要にすると共に、塵、埃、静電気、及びガスの発生を防止すること。
【解決手段】本発明のマスクケースは、マスク１０を収容する内ケース上部１及び内ケース下部２と、この内ケースを運搬中に振動を防止するための上緩衝材３，下緩衝材４と、全体を収納する出荷ケース上部５及び出荷ケース下部６と、を備えて構成する。内ケース上部１の左右両端には、内ケース下部２を係合するための留め具（クリップ）１１を取り付ける。内ケース下部２の上面周辺部には、マスク１０の下面周辺部と係合するパッキン２１を取り付ける。内ケース上部１の平板部には、該平板部を貫通するガス抜き穴１２を設ける。ガス抜き穴１２の下部には、ガスを吸着できる吸着膜を貼り付ける。 （もっと読む）

【課題】半導体ウエハ用収容ケースの品質を容易に且つ短時間で評価できると共に、内部に収容される半導体ウエハの常温における保管寿命を推定することで当該収容ケースの品質を評価することが可能な半導体ウエハ用収容ケースの品質評価方法を提供する。
【解決手段】ウエハ収容ケースを所定条件で乾燥させた後、半導体ウエハを収容して、常温より高い所定温度で所定時間加熱し、該加熱されたウエハ収容ケースに収容されている半導体ウエハの品質を判定し、前記所定温度と判定された半導体ウエハの品質とに基づいてアレニウスプロットを実行し、収容ケース内の常温における水分量に基づいて、該収容ケースが吸着している水分量を算出し、アレニウスプロットとウエハ収容ケース内が吸着している水分量に基づいて、半導体ウエハの常温における保管寿命を推定する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、基板処理システム及び基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理システムは、塗布ユニット、露光前後処理ユニット、及び現像ユニットを有する。各々のユニットは、ロードポート及びインデックスモジュールを有する。露光前後処理ユニットは、異なった層に配置された第１モジュールと第２モジュールとを有する。第１モジュールは、露光前にウエハ上に保護膜を塗布する工程を行う。第２モジュールは、露光後にウエハを洗浄する工程及び露光後ベーキング工程を行う。 （もっと読む）

【課題】本発明は、基板処理設備及び基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理設備は、一方向に順次配置されたロードポート、インデックスモジュール、第１バッファモジュール、塗布及び現像モジュール、第２バッファモジュール、露光前後処理モジュール、及びインタフェースモジュールを有する。塗布及び現像モジュールは、異なる層に配置される塗布モジュールと現像モジュールとを有する。露光前後処理モジュールは、異なる層に配置された前処理モジュールと後処理モジュールとを有する。前処理モジュールは、露光前にウエハ上に保護膜を塗布する工程を行う。後処理モジュールは、露光後にウエハを洗浄する工程、及び露光後ベーキング工程を行う。前処理モジュールと後処理モジュールとには、それぞれ基板を搬送するロボットが配置される。 （もっと読む）

【課題】ペリクルの構造を複雑にすることなく、しかも、高精度の動作機構を備える必要もなく、ペリクル内部の換気を行う。
【解決手段】ペリクル付きフォトマスク保管装置１００は、ペリクルの内部空間が気圧調整穴を介して外部に連通した構成のペリクル付きフォトマスクを保管しながら、ペリクル付きフォトマスクに対して温度変化を与えることが可能な温度変化付与部１００ａを備える。ペリクル付きフォトマスクに温度変化を与えることによって、気圧調整穴を介してペリクル内の雰囲気を換気する。 （もっと読む）

【課題】内部の清浄度の値を非常に低い値に保って、パターン転写用マスクを収納することが可能なマスク収納容器を提供する。
【解決手段】外皿１０１と、内部に密閉空間１００ａを形成するように当該外皿１０１と合わさる外蓋１０３とを備え、レチクル１０７を収納するマスク収納容器１００において、外蓋１０３と外皿１０１とを合わせた際に、前記密閉空間１００ａの内部にレチクル１０７を収納するマスク空間１００ｂを形成する内蓋１０４及び内皿１０２と、レチクル１０７を収納したマスク収納容器１００の外皿１０１から外蓋１０３を外す際に、所定の清浄度よりも低い清浄度を有するガスを前記マスク空間１００ｂへ導入するための逆止弁付封入口１１１とを備えることを特徴とするマスク収納容器１００を提供する。
当該構成により、内部の清浄度の値を非常に低い値に保って、レチクル１０７を収納することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】従来からの運用では、主にレチクルはレチクル・ケースに収容された状態で、レチクル・ストッカに保管されるため、レチクル・ケース自体から出る脱ガスの影響を受けやすく、脱ガス成分の付着と微細化による露光時の照射エネルギーの増加とあいまって、ヘイズが発生することが明らかとなった。
これらのことから、レチクル・ケースに収容しない状態でレチクルを保管するベア・レチクル・ストッカ（ベア・レチクル保管庫）の適用が有効である。しかしながら、ベア・レチクル・ストッカのレチクル入出庫能力は比較的低いという問題がある。
【解決手段】本願発明は光リソグラフィ工程において、比較的ラフなプロセスに使用するレチクルは、レチクル・ケースに収容して保管し、比較的微細なプロセスに使用するレチクルは、レチクル・ケースに収容しないで保管するものである。 （もっと読む）

【課題】簡単な加工で高い寸法精度が得られ、液処理後の液残りを少なくしてウォーターマーク等のしみの発生を抑制することができ、かつウエハを安定した状態で保持することができ、スループットの向上を図れるようにする。
【解決手段】半導体ウエハＷを複数の保持体で垂直に保持した状態で搬送する搬送手段であるウエハボートを具備する基板処理装置において、ウエハボート５は、ウエハの下端部を支持する下側保持体２０と、ウエハの下部側端部を保持する左右一対の上側保持体３０とを具備し、少なくとも一つの保持体は、該保持体の長手方向に対して所定角度に傾斜する略Ｖ字状の保持溝２１，３１を形成してなる。保持溝を構成する第１の傾斜面４１でウエハの一方の面を保持すると共に、保持溝を構成する第２の傾斜面でウエハの他方の面を保持する。 （もっと読む）

【課題】液処理後の液残りを少なくしてウォーターマーク等のしみの発生を抑制することができ、かつウエハ等の転倒を防止でき、スループットの向上を図れるようにする。
【解決手段】半導体ウエハＷを垂直に保持した状態で搬送する搬送手段を具備する基板処理装置において、搬送手段であるウエハボート５は、ウエハの下端部を支持する下側保持体２０と、ウエハの転倒時に該ウエハの下部側端部を保持する左右一対の上側保持体３０とを具備し、下側保持体は、ウエハの下端部を直接支持する保持溝２１を有する保持溝部２２と、該保持溝部に隣接して設けられ、保持溝によるウエハの支持が解かれた際にウエハを保持する転倒防止溝２３を有する転倒防止溝部２４と、を一体に形成してなる。 （もっと読む）

【課題】保管時のペリクル内雰囲気を清浄化し、露光時にレチクルヘイズが発生することを抑える。
【解決手段】通気孔を有する支持枠と、該支持枠に張られたペリクル膜と、を備えるペリクルが取り付けられたレチクルを、ストッカ２０内に収納するレチクル収納装置１０であって、第一ガス（窒素ガス）と、ペリクル膜に対する透過率が第一ガスよりも高い第二ガス（乾燥空気）とで、それぞれストッカ２０内をパージするガス流路３０を備えるレチクル収納装置１０。 （もっと読む）

【課題】 フォト工程設備の稼働率の低下と作業者の工数増加を防止可能な半導体製造工程管理システムを提供する。
【解決手段】 ホストコンピュータ２とセルコンピュータ３ａと搬送管理コンピュータ４を備え、ホストコンピュータ２の制御情報生成手段１０が、記憶手段９に記憶されたロット情報データと装置情報データに基づいて、ロット選択を行い、当該ロットのロット情報データの処理条件データと、レチクル情報データのレチクル現在位置データとレチクル状態データを照合して、受入可能な装置の装置情報データを抽出し、最適な装置選択を行い、制御情報データを生成し、セルコンピュータ３ａに送信し、セルコンピュータ３ａのレチクルゴミ検査制御手段１４が、制御情報データの選択された装置名とレチクル名からレチクルゴミ検査指示データを生成し、フォト工程設備５ａへロットが搬入される前に、フォト工程設備５ａにレチクルゴミ検査の指示を行う。 （もっと読む）

【課題】フォトマスク用基板、フォトマスクブランク、フォトマスク等の基板をクリーンルーム内で搬送する際に生じるパーティクル問題発生の危険性をより低減するための搬送装置を提供する。
【解決手段】クリーンルーム内において、精密材料または該精密材料が格納された容器を保持・搬送する搬送装置であって、該搬送装置は、少なくとも、前記精密材料または前記容器を保持するための保持機構と、前記精密材料または前記容器を保持する接触部で発生するパーティクルを吸引除去するための吸気装置とを具備するものであることを特徴とする搬送装置。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクのような薄板を保持する際、一定以上の押圧力が保持すべき薄板に作用しないようにしつつ、保持すべき薄板の位置ずれを吸収することが可能な薄板の保持装置及び該装置を有するフォトマスクの保持システム並びに搬送方法を提供する。
【解決手段】一対の薄板保持部２８を有する薄板の保持装置１６であって、当接部は、基部と、前記駆動部による移動方向に沿って相対移動可能な形態で該基部に対して係合する当接本体とを有し、前記当接本体と前記基部との間には、間隔を狭める向きに前記当接本体を付勢する第１付勢手段が設けられ、前記基部には、係止部が設けられ、それにより、薄板を保持する際、前記一対の薄板保持部２８のいずれか、或いは両方において、前記当接本体と前記係止部との間にクリアランスが生じることにより、位置ずれ吸収手段と、押圧力制限手段とが形成される。 （もっと読む）

【課題】マスクを装置の外部に搬送することなく検査及び収納し、それにより、搬送に伴うマスクの汚れや損傷を防止することができるパターン描画装置を提供する。
【解決手段】パターン描画装置１は、マスク検査部６０、マスク洗浄部７０、およびストッカー部５０を装置内に備えるとともに、複数の光学ヘッド３２ａ，３２ｂ，…，３２ｇ、マスク検査部６０、マスク洗浄部７０、およびストッカー部５０の間でマスクＭを搬送するマスク搬送機構４０を備える。このため、マスクＭをパターン描画装置１の外部に搬送することなく検査、洗浄、および収納することができ、これにより、搬送に伴うマスクＭの汚れや損傷を防止することができる。また、パターン描画装置１の外部にマスクＭの搬送経路を確保する必要がないため、工程全体の作業スペースを低減させることができる。 （もっと読む）

【課題】 基板収納容器の貫通孔に収納保持されるハウジング部材が、移送・保管等の際の加速度や振動、洗浄乾燥の際の熱履歴等によっても、固定用の螺刻部が緩まない構造とした基板収納容器を提供する。
【解決手段】 基板を収納する容器本体と、その開口部を閉鎖する蓋体とを有し、前記容器本体の内部と外部とを連通する貫通孔が設けられている基板収納容器１であって、貫通孔には、フィルタを備えた通気部材を収納保持するハウジング部材が、回転方向に回転されて基板収納容器に取り付けられていて、ハウジング部材が回転方向に緩むことを防止する手段が設けられている。 （もっと読む）