【課題】 像の平坦性が良好で且つローカルフレアの発生が良好に抑えられた高開口数の反射屈折結像光学系。
【解決手段】 第１面（Ｒ）からの光に基づいて第１中間像を形成する第１結像光学系（Ｇ１）と、凹面反射鏡（ＣＭ）と往復光学素子（Ｌ２１，Ｌ２２）とを含んで第２中間像を形成する第２結像光学系（Ｇ２）と、第２面（Ｗ）上に最終像を形成する第３結像光学系（Ｇ３）と、第１結像光学系と第２結像光学系との間および第２結像光学系と第３結像光学系との間に配置された偏向鏡（Ｍ１，Ｍ２）とを備えている。第２結像光学系中の往復光学素子の全ては、非球面形状に形成された光学面を含まない。 （もっと読む）

【課題】 液浸方式による露光装置の生産性を向上させる。
【解決手段】 投影光学系を有し、投影光学系と基板との間に液体を介在させて、原版と投影光学系とを介して基板を露光する露光装置は、基板に対するアライメント計測およびフォーカス計測と、基板の露光とが行われる第１のチャンバーと、露光の後に、基板の乾燥が行われる、第１のチャンバーとは隔離された第２のチャンバーと、露光の後の基板を第１のチャンバーから第２のチャンバーへ搬送する搬送ユニットとを有する。 （もっと読む）

【課題】被処理基板上の塗布状態の検査を簡易かつ安価に行うことが可能な塗布検査方法及び液浸露光方法を提供する。
【解決手段】被処理基板（１２）上に処理液を塗布して塗布膜を形成し、前記塗布膜が形成された前記被処理基板表面の外周部の塗布状態に関する情報を取得し、前記塗布状態に関する情報に基づいて前記処理液の塗布状態の良否を判定する。 （もっと読む）

【課題】液浸液を保護膜またはレジスト膜中に誘導する物質の低減化を図れるパターン形成方法を実現すること。
【解決手段】パターン形成方法は、被加工膜上に感光性樹脂膜を形成する工程（Ｓ２）と、感光性樹脂膜を保護するための保護膜を塗布法により感光性樹脂膜上に形成する工程（Ｓ３）と、保護膜上に液浸液を供給し、該液浸液を介して感光性樹脂膜の一部の領域を選択的に液浸露光する工程（Ｓ６）と、保護膜を形成する工程（Ｓ３）の後、かつ、感光性樹脂膜の一部の領域を選択的に液浸露光する工程（Ｓ６）の前において、保護膜から液浸液に対する親和性部位を有する残留物質を除去する工程（Ｓ４）と、前記保護膜を除去する工程（Ｓ９）と、感光性樹脂膜の露光領域あるいは非露光領域を選択的に除去することにより、感光性樹脂膜からなるパターンを形成する工程（Ｓ１０）とを含む。 （もっと読む）

【課題】 複数の構成機器を気体バネを用いて支持した場合でも構成機器同士の接触を防止する。
【解決手段】 移動ステージ４０を用いてパターンの像を投影光学系ＰＬにより基板Ｗに露光する。第１気体室３００ａに供給した気体の圧力により投影光学系ＰＬを支持する第１支持装置３００と、第２気体室１８０に供給した気体の圧力により移動ステージ４０を支持する第２支持装置５８と、第１気体室３００ａの排気量と第２気体室１８０の排気量とを異ならせて、投影光学系ＰＬと移動ステージ４０との干渉を防止する排気装置７０、８０と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】装置の大型化を抑えながら高い基板の処理能力を有する周縁露光装置及び周縁露光方法を提供すること
【解決手段】光源からの光ビームの横断面で見たときに当該光ビームが分割されるように、各々の基端側が当該光ビームの通路内に配置された第１及び第２の光路形成部材と、基板を載置して鉛直軸まわりに回転自在に構成され、基板の周縁部が前記第１の光路形成部材の先端側からの光ビームの照射領域に位置する第１の載置台と、基板の周縁部が前記第２の光路形成部材の先端側からの光ビームの照射領域に位置する第２の載置台と、第１及び第２の光路形成部材からの各々の光の照射を遮断する遮光手段とを備えるように周縁露光装置を構成する。共通の光源を用いて第１及び第２の載置台上の基板に対して例えば同時に周縁露光を行うことができるため高い処理能力を有しかつ装置の大型化を抑えることができる。 （もっと読む）

本発明はサブミクロンのデカール転写リソグラフィの方法を提供する。この方法は、第１のシリコン含有エラストマー２００の表面内に第１のパターンを形成する段階と、第１のパターンの少なくとも一部分を基板２１０に接着する段階と、第１のシリコン含有エラストマー及び基板のうちの少なくとも１つの一部分をエッチング２２０する段階とを含む。
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本発明は、第１の物質からなる犠牲層が部分又は全面に形成された基板を提供する第１の段階；第１の手段を用いて、犠牲層に、前記第１の物質が存在しないと共に、線幅が最高第１の解像度を持つパターン溝を形成する第２の段階；第２の手段を用いて、第２の物質を前記パターン溝に充填する第３の段階；及び、光又は熱照射により残余犠牲層に存在する前記第１の物質を除去する第４の段階を含み、第１物質の閾値フルエンスが、第２の物質の閾値フルエンスより小さく、第４の段階において、第１の物質の閾値フルエンス以上第２の物質の閾値フルエンス未満の調査量により、第１の物質を除去することを特徴とする、基板上に第２の物質によりパターンを形成する方法及び前記方法によりプレパターンが形成された基板を提供する。
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【課題】 ＴＴＲキャリブレーション精度を高める露光装置及び方法を提供する。
【解決手段】 レチクルのパターンの像を被露光体に投影する投影光学系と、前記投影光学系と前記被露光体との合焦を行うために前記投影光学系を介して所定のマークを検出する検出系と、前記検出系の検出動作時に前記投影光学系よりも前記レチクル側に配置された部材を駆動制御する制御部とを有することを特徴とする露光装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】 液体による装置の損傷を防止する。
【解決手段】 保持面３４Ａで基板Ｐを保持するホルダＰＨと、保持面３４Ａに開口する開口部７１を介して基板Ｐを保持面３４Ａとほぼ直交する方向に駆動する駆動機構８１とを有する。駆動機構８１の駆動により、開口部７１を介して保持面３４Ａとほぼ直交する方向に移動する移動部７０を有する。開口部７１と移動部７０との少なくとも一部がそれぞれ撥液性を有する。 （もっと読む）

本発明は、第１の物質からなる犠牲層が部分又は全面に形成された基板を提供する第１の段階と、直接犠牲層を線加工する第１の手段を用いて、前記犠牲層に、第１の物質が存在しないと共に、線幅が最高第１の解像度を持つパターン溝を形成する第２の段階と、第２の手段を用いて、第２の解像度で第２の物質を前記パターン溝に充填する第３の段階とを含む、基板上に第２の物質によりパターンを形成する方法及び前記方法によりプレパターンが形成された基板を提供する。
本発明によるパターン形成方法は、パターン形成用第２の物質を浪費することなく、或いは最小化して、高解像度のパターンが得られるため、生産費用を節減でき、インクジェット方式のように低解像度を持つ第２の手段と、レーザーなどの集束可能なエネルギービームのように高解像度を持つ第１の手段とを組合わせることで、高解像度のパターンを高い工程効率で生産できる。
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【課題】
位相シフターなどの光学素子を含む微細表面構造物品の生産において、歩留まりと精度を向上させる
【解決手段】
製品基板として用いる基板２の表面には研磨加工による微細な凹凸が存在するので、これらの凹凸を小さくするために基板２の表面及び裏面に、堆積薄膜４が真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法等の成膜方法により形成されている。 （もっと読む）

パターン（１２）をスタンプ（１０）から基板（２０）に転写するための装置（１）は、基板（２０）を支持するためのテーブル（２２）と、可撓なスタンプ（１０）と、該スタンプ（１０）の一部に圧力を加えるための圧力室（２７）を有する可動に配列される本体（２５）とを含むので、その部分は基板（２０）に向かって押し付けられ、基板（２０）と接触する。パターン転写プロセス中、本体（２５）は移動される。結果として、スタンプ（１０）の隣接する部分は、基板（２０）に向かって押し付けられ、基板（２０）と接触し、且つ、再び所定位置に移動して戻ることが許容されるプロセスを連続的に通る。このようにして、振動の導入なしに、スタンプ（１０）のパターン（１２）を基板（２０）に転写することが達成されるので、パターン（１２）の転写は極めて正確に行われる。
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【課題】基板と、高精度な所望レジストパターンを有し、かつエッチング耐性に優れるレジスト膜とが一体化した加工基板の簡易な製造方法を提供する。
【解決手段】基板と所望レジストパターンの反転パターンを表面に有するモールドとを組み合わせて、含フッ素界面活性剤と、環構造を有する重合性モノマー、または重合により環構造を形成する重合性モノマーとを含むレジスト組成物を、該基板表面と該モールドのパターン面との間に挟持させる工程、前記レジスト組成物中の重合性モノマーを重合させて該組成物をレジスト膜とする工程、およびモールドをレジスト膜から剥離して、所望レジストパターンが形成されたレジスト膜を具備する加工基板を得る工程を順に行う、加工基板の製造方法。 （もっと読む）

フォトリソグラフィプロセスが説明される。このプロセスは、フォトレジスト層（２）を基板（１）に塗付するステップと、フォトレジスト層（２）を適切な波長をもつ放射線源に局所的に露光させるステップと、適切な液性現像剤組成物を基板（１）に供給するステップと、フォトレジスト層（２）の露光領域又は非露光領域を現像剤組成物で溶解させるステップと、フォトレジスト層（２）をリンスし乾燥させ、それにより上記の溶解ステップを中断させるステップと、を含む。基板（１）はフォトレジスト層（２）と接触する金属表面（１ｃ）をもち、フォトレジスト層（２）は厚さｄｒ＜１００ｎｍをもつ。７０度以上の比較的高いフォトレジスト壁のスティープネスが達成される。このプロセスは、該プロセスで製作されたスタンパ（３）を用いることによって、高密度光データ記憶媒体を製作するために使用され得る。
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【課題】 各種の光学素子として用いる埋め込み微細パターンを有するプラスチックフィルムにおいて、４００ｎｍ以下の周期を有する埋め込み型微細パターンを容易に得、特に透明なプラスチックフィルムに一度に埋め込み微細パターンを形成して、精度の良いかつ外圧によって微細凸状パターンのようなパターン倒れがないような光学素子を得ること。
【解決手段】 プラスチックフィルム上に薄膜を設け、これらのプラスチックフィルムと薄膜を共に加熱した状態で、微細凹凸パターンを設けた加熱原盤を前記薄膜に押しつけて、該薄膜を前記加熱原盤の凸部により、プラスチックフィルム実体に陥没させた後、前記原盤の凹部に対応する陥没していない薄膜を除去することを特徴とする埋め込み微細パターンの形成方法を主たる構成にする。 （もっと読む）

【課題】 基板上の処理液の成分が露光装置における液体中に溶出することを防止できる基板処理装置および基板処理方法を提供することである。
【解決手段】 基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２およびインターフェースブロック１３を備える。インターフェースブロック１３に隣接するように露光装置１４が配置される。インターフェースブロック１３は洗浄処理部９５およびインターフェース用搬送機構ＩＦＲを備える。露光装置１４において基板Ｗに露光処理が施される前に、基板Ｗはインターフェース用搬送機構ＩＦＲにより洗浄処理部９５に搬送される。洗浄処理部９５において基板Ｗの洗浄および乾燥が行われる。 （もっと読む）

【課題】 液浸投影露光装置が備える投影光学系を構成する光学部品に付着した汚染物質を容易に除去することができる光学部品の洗浄方法を提供する。
【解決手段】
露光光でマスクを照射し、投影光学系を介して前記マスクのパターンを基板上に転写し、前記基板の表面と前記投影光学系との間に純水を介在させた液浸投影露光装置に使用される光学部品の洗浄方法であって、前記基板を載置する基板ステージ上から前記基板を退避させる基板退避工程（Ｓ１２）と、前記基板ステージと前記投影光学系との間に前記純水を供給する純水供給工程（Ｓ１４）と、前記純水供給工程により前記純水が供給されることにより、前記純水に接液し、前記投影光学系を構成する最も前記基板ステージ側に配置される接液光学部品に前記露光光を照射する照射工程（Ｓ１５）と、前記純水供給工程により供給された前記純水を排出する純水排出工程（Ｓ１６）とを含む。 （もっと読む）

【課題】基板の裏面側に液体が浸入することを抑制することができる基板保持装置を提供する。
【解決手段】基板保持装置ＰＨは、基材ＰＨＢと、基材ＰＨＢ上に形成され、基板Ｐの裏面Ｐｂを支持する第１支持部３０と、基材ＰＨＢ上に形成され、基板Ｐの裏面Ｐｂに対向し、第１支持部３０を囲むように設けられた第１周壁部３１と、基材ＰＨＢ上に形成され、基板Ｐの裏面Ｐｂに対向し、第１周壁部３１を囲むように設けられた第２周壁部３４と、第１周壁部３１と第２周壁部３４と基板Ｐの裏面Ｐｂとで囲まれた第３空間に気体を供給する給気口４２と、第３空間の気体を排出する排気口とを備えている。 （もっと読む）

【課題】基板と、高精度な所望レジストパターンを有し、かつエッチング耐性に優れるレジスト膜とが一体化した加工基板の簡易な製造方法を提供する。
【解決手段】基板と、所望レジストパターンの反転パターンを表面に有するモールドとを組み合わせて、含フッ素界面活性剤と、環構造を有する重合性モノマー、または重合により環構造を形成する重合性モノマーとを含むレジスト組成物を、該基板表面と該モールドのパターン面との間に挟持させる工程、前記レジスト組成物中の重合性モノマーを重合させて該組成物からレジスト膜を形成させる工程、およびモールドをレジスト膜から剥離して加工基板を得る工程を順に行う、加工基板の製造方法。 （もっと読む）