インプリント・リソグラフィと共に多段構造を有するテンプレートを用いるデュアルダマシン構造の製造方法の一例は、多段構造を有するリソグラフィ用テンプレート（１３０）をレジスト層（１２０）と接触するように配置するステップ（ステップ１５０）と、テンプレート（１３０）に圧力を加えることによりレジスト材料（１２０）がテンプレート（１３０）のレリーフパターン内に流れ込み、パターン化されたレジスト層（１２５）が形成されるステップと、そのパターン化されたレジスト層（１２５）を必要に応じて硬化するステップと、テンプレート（１３０）をパターン化されたレジスト層（１２５）から取り外すステップ（ステップ１６０）と、及びパターニング層（１１７）にビアやトレンチを作製するためパターン化されたレジスト層（１２５）をエッチングするステップ（ステップ１７０，１８０）とからなる。開示された特徴や仕様は、デュアルダマシン構造や他の多段構造の作製を改良したり、他の方法で最適化したりするため、様々に制御したり、設定したり、適合させたり、他の方法で部分的に変更したりしてもよい。
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光学アセンブリ（１６）とデバイス（３０）との間のギャップ（２４６）の環境を制御するための環境システム（２６）は、流体バリア（２５４）及び液浸流体システム（２５４）を含む。流体バリア（２５４）はデバイス（３０）の近傍に位置付けられる。液浸流体システム（２５２）は、ギャップ（２４６）を満たす液浸流体（２４８）を送出する。液浸流体システム（２５２）は、流体バリア（２５４）とデバイス（３０）との間に直に存在する液浸流体（２４８）を回収する。流体バリア（２５４）はデバイス（３０）の近傍に位置付けられる排出インレット（２８６）を含むことができ、液浸流体システム（２５２）は排出インレット（２８６）に連通する低圧源（３９２Ａ）を含むことができる。流体バリア（２５４）は液浸流体（２４８）のいかなる蒸気（２４９）も閉じ込め、測定システム（２２）に悪影響を与えない。加えて、環境システム（２６）は、デバイス（３０）に対して流体バリア（２５４）を支持するように、流体バリア（２５４）とデバイス（３０）との間にベアリング流体（２９０Ｃ）を向けるベアリング流体源（２９０Ｂ）を含むことができる。
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【課題】リソグラフィ工程において寸法精度が向上して微細化が可能であり、また、スループットの向上が可能な製造方法を提供する。
【解決手段】凹凸構造のモールドパターンを有するモールド１２を、レジスト３を有する基板２に一括して押し付けることでレジストパターンを形成する方法であり、光源３１を用いてモールド１２の温度を制御して、モールド１２の保持寸法などを調整する。 （もっと読む）

【課題】 レジストを高精度に加熱・冷却する。
【解決手段】 熱伝導性の悪い基板１１上にレジストパターン形成を行うため、レジスト１２を加熱冷却する際に、温度調整板１３の温度を段階的又は連続的に変化させることにより、レジスト１２のベークの温度管理と時間管理を高精度に制御することが可能となり、レジストパターンの線幅制御性が向上し、特に微細パターンに対応することができる。 （もっと読む）

【課題】 ナノインプリントによるパターニングのアライメント可能な微細パターン形成装置、その製造方法、および形成方法を提供する。
【解決手段】 ナノインプリントのモールドを、光等を透過可能なモールド基板に設け、このモールド基板に位置参照用のマークを設ける。ウェハにも、モールド基板のマークに対応したマークを形成する。モールド基板でのモールドの位置決めを精度良く行うために、ナノインプリントのモールドは、モールド基板にマークを形成した後に、マーク位置を参照して形成する。モールド基板にモールドとマークを形成することによって、ウェハ上側から、光等によってモールド基板を透過してモールド基板のマークとウェハのマークを同時に観察・参照することでウェハとモールドとの相対位置をアライメントする。 （もっと読む）