【課題】離型に伴う力がフレームに作用しても、型と基板との間の相対的な位置決めに有利なインプリント装置の提供。
【解決手段】インプリント装置１は、型２を保持する型保持部３と、基板４を保持する基板保持部５と、基板４と型３との間の相対的な位置決めを行うための位置計測器１５、１６と、型保持部３および基板保持部５の少なくとも一方と位置計測器１５、１６とを支持する第１フレーム１０と、離型により第１フレーム１０に作用する力Ｆ_Ｓとは逆向きの力を第１フレーム１０に作用させるアクチュエータ２２と、離型と並行して逆向きの力を第１フレーム１０に作用させるようにアクチュエータ２２を制御する制御部６とを有する。 （もっと読む）

【課題】 両面インプリント装置においてディスクを選択的に剥離できる光インプリント方法を提供する。
【解決手段】 前記方法は、両面インプリント装置において、下面側スタンパ装置を上面側スタンパ装置に対峙させた後、下面側スタンパ装置に載置された、両面にレジストが塗布された被転写体に上面側スタンパ装置を押圧しながら、前記被転写体のレジストに下面側スタンパ装置のＵＶ光源及び上面側スタンパ装置のＵＶ光源から紫外線を照射して前記レジストを硬化させ、硬化レジストに前記スタンパのパターンを転写する際に、下面側スタンパ装置に配設されたＵＶ光源の照射時間を上面側スタンパ装置に配設されたＵＶ光源の照射時間よりも短くすることにより、転写済みディスクを下面側スタンパ装置から選択的に剥離させることができる。 （もっと読む）

【課題】新規な被転写体及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】被転写体は、表面に、複数の異なる方向に凹凸パターンが形成された被転写体であり、前記複数の異なる方向の凹凸パターンの繰り返し単位の長さのうち、２つの最小繰り返し単位長さが0.01〜10 nmの範囲内にある。ここで、被転写体の材質は、ガラス、有機高分子化合物などの、ガラス転移点を有する物質であることが好ましい。
被転写体の製造方法は、被転写体用の部材の表面に、平坦表面体の表面を接し、加圧加熱する工程と、前記工程により得られた部材の表面に、鋳型の表面を接し、加圧加熱する工程を有する方法である。ここで、鋳型は、マイカまたはグラファイトであることが好ましい。また、平坦表面体の表面粗さは、0.01〜1.0 nmの範囲内にあることが好ましい。また、平坦表面体の材質は、サファイアまたはチタン酸ストロンチウムであることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】ウェハとテンプレートとの位置合わせの精度を向上する。
【解決手段】本実施形態のテンプレートは、基板１０上に設けられ、ウェハに転写されるパターンに対応するパターン部１１と、基板１０上に設けられ、ウェハとの位置合わせに用いられ、基板１０の屈折率より高い屈折率を有するアライメントマーク部１１と、を含む。 （もっと読む）

【課題】テンプレート上への処理液の供給量を抑えつつ、当該テンプレートのパターン領域に処理液を適切に供給する。
【解決手段】処理液塗布治具１１０の塗布面１１１がテンプレートＴのパターン領域Ｄ_１を覆い、且つ塗布面１１１とパターン領域Ｄ_１との間の隙間１１６の距離が離型剤Ｓの毛細管現象を発生させる距離となるように、処理液塗布治具１１０をテンプレートＴに対向して配置する（図１２（ａ））。その後、処理液供給部１２０から隙間１１６に離型剤Ｓを供給し、当該離型剤Ｓを毛細管現象によってパターン領域Ｄ_１上にのみ拡散させる（図１２（ｂ）〜（ｄ））。その後、エアノズル１５０から離型剤Ｓに空気を吹き付けて、当該離型剤Ｓを乾燥させる（図１２（ｅ））。 （もっと読む）

【課題】反射率、鉛筆硬度および耐クラック性に優れた微細構造体を提供する。
【解決手段】（１）アルカリ現像性基を実質的に有さず、かつ、側鎖に重合性基を有するポリマー（Ｘ）を有するインプリント用硬化性組成物。（２）前記重合性基が、ビニルエーテル基、エポキシ基、オキセタン基および（メタ）アクリレート基から選ばれる少なくとも１種である、（１）に記載のインプリント用硬化性組成物。（３）前記ポリマー（Ｘ）が下記式（Ｘａ）〜（Ｘｄ）で表される繰り返し単位から選ばれる少なくとも１種を含む、（１）に記載のインプリント用硬化性組成物。
（もっと読む）

【課題】高Ｓ／Ｎを有するビットパターンドメディアを製造でき、パターン欠陥の発生を抑制でき、製造を比較的短時間で行えるインプリントモールド及びその製造方法を提供する。
【解決手段】ビットパターンドメディアにおいて磁性体領域の元となるドット状の凸部が基板の主表面に形成されており、前記ドット状の凸部が前記基板の主表面において所定の方向に一定周期で形成されているインプリントモールドにおいて、前記ドット状の凸部は、前記基板の主表面を削って形成された、複数の連続的な平面視ライン状の溝が交わってなる格子状の溝部に囲まれることによって形成され、前記一定周期において、前記ライン状の溝の幅は、前記ドット状の凸部の幅よりも小さい。 （もっと読む）

【課題】基板の表面を改質し、当該基板の表面と結合対象物との密着性を向上させる。
【解決手段】表面改質ユニットにおいて、テンプレートの表面に紫外線を照射し、当該テンプレートの表面を洗浄する（工程Ａ２）。続いて、表面改質ユニットにおいて、テンプレートの表面に紫外線を照射しながら、当該テンプレートの表面に表面改質液を供給して、テンプレートの表面に多量の水酸基を付与する（工程Ａ３）。その後、塗布ユニットにおいて、テンプレートの表面に紫外線を照射しながら、当該テンプレートの表面に離型剤を塗布する（工程Ａ４）。その後、リンスユニットにおいて、離型剤をリンスして、当該離型剤の未反応部を除去する（工程Ａ５）。こうしてテンプレートの表面に離型剤が所定の膜厚で成膜される。 （もっと読む）

【課題】高い離型性を有し、かつ簡単に再現可能であるとともに、微細パターンの形状保持性に優れたインプリント用モールドおよびその製造方法、並びに微細構造の製造方法を提供することである。
【解決手段】微細パターン２を表面１ａに有する表面層１と、この表面層１の裏面１ｂを支持する支持層５とを備え、表面層１が紫外線硬化性官能基を有する紫外線硬化型側鎖結晶性ポリマーからなるインプリント用モールド１０およびその製造方法である。モールド１０を用いて微細構造を製造する方法である。 （もっと読む）

【課題】インプリント用モールドの製造において微細なモールドパターンを高いパターン精度で形成することができ、しかも基板をエッチング加工するために形成した薄膜パターンを最終的にモールドパターンにダメージを与えないように除去できるインプリント用モールドの製造方法を提供する。
【解決手段】透光性基板１上に、ハフニウムおよびジルコニウムのうちの少なくとも一方の元素を含有する材料で形成された下層３と、該下層の酸化を抑制する材料で形成された上層４の積層膜からなる薄膜を有するマスクブランクを用いて、前記薄膜をエッチング加工して薄膜のパターンを形成する工程と、該薄膜のパターンをマスクとして透光性基板１をエッチング加工してモールドパターンを形成する工程と、該モールドパターンを形成した後、薄膜の下層を、塩素、臭素、ヨウ素、およびキセノンのうちいずれかの元素とフッ素との化合物を含む非励起状態の物質に接触させて除去する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】 両面インプリント装置において、下面側スタンパ装置の下側スタンパ上に位置決めされて載置された未硬化レジスト塗布ディスクが下面側スタンパ装置の移動の際に位置ズレを起こさないための方法を提供する
【解決手段】 前記方法は、(a)未硬化レジストが両面に塗布されているディスクを、前記下面側スタンパ装置に実装された、微細転写パターンを有する下側スタンパの上面に位置決めして載置するステップと、(b)前記下側スタンパと前記ディスク下面側との界面に存在する前記レジストのうち、前記スタンパの微細転写パターンにかからない部分の少なくとも一部分にＵＶ光を照射するステップと、(c)前記ＵＶ光照射部分のレジストを硬化させて前記ディスクを前記下側スタンパの上面に部分的に仮固着させるステップとからなる。 （もっと読む）

【課題】原版に形成された複数のマークの位置を並行して検出するのに有利なリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、複数の第１マークが形成された原版３を保持する保持体４と、第２マークが形成された基準板８１を保持するステージ１と、前記第２マークに対する前記複数の第１マークそれぞれの位置を検出する検出系５と、を備え、前記第２マークは、前記保持体４により保持された原版３における前記複数の第１マーク及び転写されるべき回路パターンが形成された第１領域以上の大きさを有する第２領域にわたって形成され、前記第２マークに対する前記複数の第１マークそれぞれの位置を前記検出系５により並行して検出する。 （もっと読む）

【課題】モールドと樹脂層との離型時の転写欠陥の発生を防止したインプリント方法と、このようなインプリント方法を可能とする転写基材、密着剤を提供する。
【解決手段】インプリント方法を、密着層形成工程にて、１個の加水分解性基と２個の不活性基とを有する４価の原子と該原子に結合した反応性官能基とを１分子中に有する化合物を含有する密着剤を、基材に接触させ、その後、洗浄することにより、基材に密着層を形成して転写基材を作製し、充填工程にて、モールドと密着層との間に被加工物が介在するようしてモールドと転写基材とを近接させ被加工物をモールドの転写形状部に充填し、硬化工程にて、被加工物を硬化させ、離型工程にて、被加工物からモールドを引き離すような各工程を有するものとした。 （もっと読む）

【課題】インプリント時の合わせずれについて精度の高い補正を可能とするナノインプリント法を提供すること。
【解決手段】実施の形態に係るナノインプリント法は、テンプレートを用いてインプリントし、第１の被転写基板上にパターンを形成する工程と、前記パターンの前記第１の被転写基板に対する合わせずれを計測する工程と、計測した前記合わせずれに基づいて合わせずれの補正を行ない、前記テンプレートから本番用テンプレートを作製する工程と、前記本番用テンプレートを用いてインプリントし、第２の被転写基板上にパターンを形成する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】グローバルアライメントで求めた目標位置に精度良くパターンを転写することができるインプリント装置を提供する。
【解決手段】基板上に塗布された転写材料とパターンを有する型との少なくとも一方を他方に押し付け、パターンを転写するインプリント装置であって、型２のマーク４と、基板１上に形成された複数のマーク５を検出することで算出された目標転写位置に対応する基板１上のマーク５とを検出する検出部６と、目標転写位置にパターンを転写するために、型２と基板１を位置合わせした状態で、型２のマーク４と目標転写位置に対応する基板１上のマーク５との相対位置を示す情報を検出部９から取得し、目標転写位置で型２と転写材料とが押し付けられた状態で、型２のマーク４と基板の目標転写位置に対応する基板１上のマーク５との相対位置を、位置合わせをした状態における相対位置となるように制御する制御部１６とを有するインプリント装置。 （もっと読む）

【課題】シート状のモールドに形成されている微細な転写パターンを被成型品に転写した後、被成型品に貼り付いているシート状モールドを被成型品から剥がすモールド剥離装置において、装置の構成を簡素化する。
【解決手段】転写装置５から離れた箇所に位置しお互いがくっついているモールドＭＡと被成型品Ｗとのうちの被成型品Ｗを保持する被成型品保持体１９と、被成型品保持体１９で保持された被成型品Ｗに貼り付いているモールドＭＡが巻き掛けられ被成型品保持体１９に対して移動することで、被成型品ＷからモールドＭＡを剥がす剥離ローラ２３とを有するモールド剥離装置７である。 （もっと読む）

【課題】 ナノインプリント方法において、パターン倒れが起こらず、離型性に優れたナノインプリント用硬化性組成物およびナノインプリント方法を提供することにある。
【解決手段】 （Ａ）重合性化合物および（Ｂ）ラジカル発生剤を含有する組成物であって、窒素雰囲気下で該組成物をガラス基板上に塗布し、メタルハライド紫外線照射装置を用いて紫外線１００ｍＪ／ｃｍ^２を３秒間照射して得られた膜厚２００μｍの硬化膜の、動的熱機械分析（ＤＭＴＡ）を用いて測定した２０℃における貯蔵弾性率Ｅ’が、１．５ＧＰａ以上である、ナノインプリント用硬化性組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、基板に局所的でない歪が発生している場合でも、基板の広い領域の歪みの傾向をとらえて的確にその変位を算出できる変位算出方法、描画装置を提供する。
【解決手段】 アライメントマークＭ１１〜Ｍ１４、Ｍ２１〜Ｍ２４、Ｍ３１〜Ｍ３４、Ｍ４１〜Ｍ４４、の各位置におけるＸ方向のずれ量ΔＸを算出し、そのずれ量から第１スプライン曲線ＳＬ１を描き、評価点Ｅ（ｘe、ｙｅ）のＸ位置（Ｘ＝ｘｅ）における補正値ΔＸ１〜ΔＸ４を算出する。ΔＸ１〜ΔＸ４から第１副スプライン曲線ＳＬ１Ｓを描き評価点Ｅ（ｘe、ｙｅ）のＹ位置（Ｘ＝ｙｅ）における補正値ΔＸｅを算出し、Ｘ方向の補正量とする。Ｙ方向の補正量も同様に算出する。 （もっと読む）

【課題】微細な転写用凹凸構造と、当該転写用凹凸構造の凹部の深さ（凸部の高さ）を正確に測定するための測定用凹凸構造とを備えているにもかかわらず、ステップ・アンド・リピート法により転写用凹凸構造のみを被加工物に転写することのできるナノインプリント用モールド及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基材の基部上及び凸構造部上にエッチング用マスク材料膜を形成し、基部上のマスク材料膜に測定用凹部形成用の第１開口パターンを形成し、凸構造部上のマスク材料膜に転写用凹部形成用の第２開口パターンを形成し、第１及び第２開口パターンが形成されたマスク材料膜をマスクとしてエッチングして、基部における凸構造部側の面への測定用凹部の形成及び凸構造部への転写用凹部の形成を行う。この測定用凹部の開口面の短手方向長さは、非破壊式測定装置を用いて測定用凹部の深さを測定可能な長さである。 （もっと読む）

【課題】 空気と置換するためのガスの供給量を必要最小限に低減したインプリント装置を提供する。
【解決手段】 インプリント装置は、テンプレートを保持する保持部と、基板を保持するステージと、前記テンプレートを囲むように配置された複数のガス供給開口を介して前記テンプレートと前記基板との間の空間に空気と置換するためのガスを供給するガス供給部と、前記複数のガス供給開口を囲むように前記保持部の前記ステージ側の表面に形成された第１ガス回収開口を介して前記ガスを回収する第１ガス回収部と、前記基板を囲むように前記ステージに形成された第２ガス回収開口から前記ガスを回収する第２ガス回収部と、前記第１ガス回収開口により囲まれる第１領域と、前記第２ガス回収開口により囲まれる第２領域とが重なり合う第３領域が形成される場合に、前記複数のガス供給開口のうち前記第３領域内に位置するガス供給開口のみから前記ガスを供給するように前記ガス供給部を制御する制御部と、を備える。 （もっと読む）