【課題】短時間で規則的な微細パターンを形成することができるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】実施の形態のパターン形成方法は、露光処理により、フォトマスクのパターンを下地材に転写して下地材の表面エネルギーを変化させた第１のガイドを形成すると共に、露光処理により生じる露光光の回折により、第１のガイド間に下地材の表面エネルギーを変化させた第２のガイドを形成する。下地材に複数種類のポリマーブロック鎖からなるブロック共重合体を塗布する。加熱処理によるブロック共重合体のミクロ相分離により、第１及び第２のガイドに従っていずれかのポリマーブロック鎖がパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】目標とする形状に変形させるのに有利な原版を提供する。
【解決手段】転写されるパターンを有する原版であって、この原版は、負の実効ポアソン比を有する。又は、この原版は、石英板の実効ポアソン比より小さい実効ポアソン比を有する。 （もっと読む）

【課題】様々な厚さ、材料、形状のテンプレートの保持及び変形制御が可能なテンプレートチャック、インプリント装置、及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】インプリント装置用のテンプレートチャック１１１であって、前記テンプレートチャックは、テンプレート１０１の上面及び下面にそれぞれ接触させて、前記テンプレートを上下方向から挟み込むための第１及び第２の構造体４０１，４０２と、前記テンプレートの側面に接触させて、前記テンプレートを側面方向から挟み込むための複数の接触部材４０３とを備える。更に、前記テンプレートチャックは、前記複数の接触部材を介して前記テンプレートに応力を加えることで、前記テンプレートを変形させる変形制御装置４０４を備える。更に、前記第１の構造体、前記第２の構造体、及び前記複数の接触部材は、それぞれが個別に駆動可能なよう構成されている。 （もっと読む）

【課題】 簡単な構造で容易に位置調節を行うことができるインプリント装置及びこれに用いるアライメント機構又は着脱機構を提供すること。
【解決手段】 移動体２とベース部材１との間をシールし閉じた空間を形成するためのシール部材３と、移動体２又はベース部材１に設けられ、シール部材３を収納するための収納溝４と、シール部材３を収納溝４内で移動させるためのシール部材移動手段５と、移動体２、ベース部材１及びシール部材３の間に形成された空間の流体を排出する流体排出手段６と、を具備する着脱手段。また、当該着脱手段と共に、移動体２をベース部材１に対して浮揚させるために、移動体２とベース部材１の間に流体を供給する浮揚流体供給手段８と、移動体２の位置を変えるための変位手段９とを備えるアライメント機構。当該アライメント機構を用いたインプリント装置。 （もっと読む）

【課題】Ｓｂ等の毒性の高い元素を含まず、かつ熱あるいは光などの活性エネルギー線に対して、高感度なスルホニウム塩を提供する。
【解決手段】下記式（１）で示されるフッ素化アルキルリン酸スルホニウム塩。
【化１】


〔式（１）中、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立にアルキル基又はアラルキル基を表し、Ｒ^３は水素、アルキル基、ヒドロキシ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アラルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基等を表し、ｍは、Ｒ^３の個数を表し、０〜５の整数である。Ｒｆは水素の８０％以上がフッ素原子で置換されたアルキル基を表す。ｂはその個数を表し、１〜５の整数である。Ｒｆはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。〕 （もっと読む）

【課題】ナノインプリントに有利に使用することが出来る円筒状モールドの製造方法であって、高い生産性で高精度に製造する方法を提供する。
【解決手段】外周面に微細な凹凸パターンを有する円筒状モールドの製造方法であって、
光透過性の円筒部材１２、及びその外周面に形成された加圧により変形可能な光硬化性転写層１３からなる外側円筒部２０を有する円筒状転写版５０を回転させながら、
外側円筒部２０の転写層１３を、円筒状転写版５０と同方向に移動する表面に微細な凹凸パターンを有する原版モールド７０の当該微細な凹凸パターン７２に押圧下に接触させ、微細な凹凸パターン７２を転写層１３に転写し、
前記転写と同時に、外側円周部２０の内周側から、転写層１３の転写領域１５に紫外線を照射し、硬化させることにより、転写層１３に反転凹凸パターンを連続的に形成することを特徴とする円筒状モールドの製造方法。 （もっと読む）

【課題】被転写基板からテンプレートを離型する際の被転写基板の脱離を抑制することが可能なインプリント装置及び方法を提供する。
【解決手段】インプリント装置は、インプリント用のテンプレート１０１を保持するテンプレート保持部と、前記テンプレートを、被転写基板２０１上の光硬化樹脂２０２に押印するよう移動させる、又は前記光硬化樹脂から離型するよう移動させるテンプレート移動部を備える。更に、前記装置は、前記光硬化樹脂に光を照射して、前記光硬化樹脂を硬化する光源１１４を備える。更に、前記装置は、前記テンプレートを前記光硬化樹脂から離型する際に、前記テンプレートの離型速度又は離型角度を、前記テンプレートが離型されるショット領域の位置に基づいて制御する離型制御部を備える。 （もっと読む）

【課題】 近接場露光装置における光エネルギーの利用効率を向上させること。
【解決手段】 光源１０と、露光ヘッド１００と、を含み、露光ヘッド１００は、少なくとも第１開口８７ａおよび第２開口８７ｂを有する近接場光発生部８０と、光源１０からの露光光ＬＳを、第１開口８７ａに対応する第１ビームＬＢ１および第２開口８７ｂに対応する第２ビームＬＢ２を含む複数のビームに分割する回折光学素子４０を含む光学系５５と、を有し、第１ビームＬＢ１を、第１開口８７ａに入射させて第１開口８７ａの光射出側から近接場光ＥＬＶ１を発生させ、第２ビームをＬＢ２、第２開口８７ｂに入射させて第２開口８７ｂの光射出側から近接場光ＥＬＶ２を発生させ、第１開口８７ａおよび第２開口８７ｂの各々から発生する前記近接場光の各々によって、並行に被露光物を露光する。 （もっと読む）

【課題】インプリントレシピの作成時間を短縮する。
【解決手段】本実施形態によれば、インプリントレシピ作成装置は、第１作成部１１１〜第５作成部１１５を備える。第１作成部１１１は、充填量情報及び残膜厚情報を用いて、標準ショット内情報を作成する。第２作成部１１２はショット位置情報、エッジ情報、及び標準ショット内情報を用いて、第１ウェーハ面内情報を作成する。第３作成部１１３は、下地の凹凸を示す凹凸情報及び凹凸のウェーハ面内ばらつきを示す凹凸分布情報を用いて、第１補正情報を作成する。第４作成部１１４は、後工程の加工寸法のばらつきを示す後工程情報を用いて、第２補正情報を作成する。第５作成部１１５は、第１ウェーハ面内情報、第１補正情報、及び第２補正情報を合成して第２ウェーハ面内情報を作成する。 （もっと読む）

【課題】側壁部の形成の基礎となるパターンをレジストにより形成する場合であっても、側壁部の傾きを抑制できる微細パターンの形成方法を提供する。
【解決手段】基板上に形成されたエッチング対象層の上に有機膜を形成する有機膜形成ステップと、有機膜上にレジスト膜を形成し、このレジスト膜をパターニングするパターニングステップと、パターニングされたレジスト膜から露出する有機膜と、パターニングされたレジスト膜とを覆うように酸化シリコン膜を常温にて堆積する堆積ステップと、基板を加熱して酸化シリコン膜に引っ張り応力を生じさせる加熱ステップと、処理ステップの後に、パターニングされたレジスト膜の側壁に酸化シリコン膜が残るように当該酸化シリコン膜をエッチングする第１のエッチングステップと、パターニングされたレジスト膜を除去する除去ステップとを含む、微細パターンの形成方法が開示される。 （もっと読む）

【課題】エッチング工程を行うことなく極めて微細な導電膜の回路パターンを形成する。
【解決手段】導電膜２２と金属酸化物膜２３とがこの順に形成された積層膜を表面に有する基体２１上の金属酸化物膜２３に電極４０を接触又は所定の距離まで近づける。この状態で電極４０と導電膜２２との間に電圧を印加するとともに、距離を保持したまま電極４０と金属酸化物膜２３との相対位置を変化させ金属酸化物膜２３の比抵抗を局所的に変化させることにより回路パターンを形成する。印加する電圧は、金属酸化物膜２３に含まれる酸素を酸素イオンとして移動させるために必要かつ十分な電界を生じさせるものとする。 （もっと読む）

【課題】化学増幅型レジスト層の未露光部について高い残膜率を維持し、露光部ついては現像後の未露光部に対して高いパターンコントラストと高い解像度の提供。
【解決手段】所定の露光前ベーク温度条件で露光前ベークを行い、且つ、所定の露光後ベーク温度条件で露光後ベークを行った後の試験用レジスト層に対して現像処理を行い、露光前ベーク温度条件及び露光後ベーク温度条件毎の残膜率を得る工程と、露光前ベーク温度軸及び露光後ベーク温度軸を有するグラフにて前記残膜率が９５％以上の領域における温度条件で、前記試験用レジスト層と同組成且つ基体上に形成されたレジスト層に対して露光前ベーク及び露光後ベークを行う。 （もっと読む）

【課題】高い精度および効率でパターン転写を行うインプリント装置を提供する。
【解決手段】被転写基板に転写するパターンの形状を有するテンプレートを前記被転写基板上に形成されたレジストに接触させた状態で前記レジストを硬化することによりレジストパターンを形成するインプリント装置は、アレイ状をなすように所望の間隔で複数のテンプレートを保持するテンプレート保持手段と、前記テンプレートの位置を個々に制御する位置制御手段と、を持つ。 （もっと読む）

【課題】離型する際、型や被成型品が対応する設置体から離れるのを防止することのできる転写装置を提供する。
【解決手段】型Ｍを設置する型設置体１３と、被成型品Ｗを設置し、型設置体１３に対して相対的に移動自在な被成型品設置体２１とを有し、被成型品設置体２１が、真空吸着によって被成型品Ｗを保持するように構成され、型設置体１３と被成型品設置体２１とを互いに接近させて型Ｍを被成型品Ｗに押圧することによって微細な転写パターンを被成型品Ｗに転写をした後、被成型品Ｗから型Ｍを離すときに型Ｍ、被成型品Ｗ、型設置体１３の型Ｍを設置している型設置部位１３ｍ、被成型品設置体２１の被成型品Ｗを設置している被成型品部位２１ｗが内部に入る部屋Ｒを形成し、真空吸着による保持力を増加させるために部屋Ｒ内の気圧を大気圧よりも高くするように構成する。 （もっと読む）

【課題】ＴＡＴ（turn around time）の向上に対して有利なパターン形成方法およびパターン形成装置を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、パターン形成方法は、基板上にパターンが形成された複数のパターン領域が配置されるテンプレート２１を用いて、前記複数のパターン領域のうちの第１パターン領域Ｓ１０１を被加工基板に転写する第１ステップＳＴ１１と、前記第１パターン領域の転写回数をカウントアップし、前記転写回数を保存する第２ステップＳＴ１２と、前記保存された第１パターン領域のパターン転写回数が、規定回数を超えたか否かを判定する第３ステップＳＴ１３と、前記第３ステップの際に、前記規定回数を越えた判定された場合に、前記複数のパターン領域のうちの第２パターン領域Ｓ１０３に切り替えて、前記第２パターン領域を前記被加工基板に転写する第４ステップＳＴ１４とを具備する。 （もっと読む）

【課題】環境特性、離型性に優れた硬化物を形成でき、フッ素界面活性剤と他の成分との相溶性に優れた光硬化性組成物、およびモールドの反転パターンが精密に転写された微細パターンを表面に有し、かつ表面の組成が均一な成形体を製造できる方法を提供する。
【解決手段】メタ）アクリロイルオキシ基を１個以上有する化合物を主成分とするインプリント用光硬化性組成物であって下記重合体（Ｄ）を含む光硬化性組成物。CH₂=C(R¹¹)-C(O)O-Q-R^fの単位２０〜４５質量％とCH₂=C(R²¹)-C(O)O-(CH₂CH(R²²)O)_n-H（数平均分子量３５０以下）単位の２０〜６５質量％とCH₂=C(R³¹)-C(O)O-R³²の単位５〜４０質量％とを含む、質量平均分子量１０００〜５０００の重合体（Ｄ）。Ｒ^１１、Ｒ^２１、Ｒ^３１＝水素原子、メチル基、Ｑ＝２価の連結基等、Ｒ^ｆ＝炭素数１〜６のポリフルオロアルキル基等、Ｒ^２２＝水素原子等、ｎ＝３〜６、Ｒ^３２＝炭素数２〜１５の脂肪族炭化水素基。 （もっと読む）

【課題】比較的大面積化が可能なナノインプリントプロセスによるマスクの形成と、大面積の処理が可能な化学エッチングとに着目することで，基板の表面に比較的大面積の所望の微細凹凸構造を形成可能な方法を提供する。
【解決手段】半導体材料または金属材料からなる基板の表面上に設けられたマスク形成用層に対し、陽極酸化ポーラスアルミナまたはそれを鋳型として作製した他の材料からなるネガ型またはポジ型を規則的な凹凸構造を有するモールドとして用いたナノインプリント法により、基板の表面上にモールドの凹凸構造を転写した形状を有するマスク層を形成し、基板の前記マスク層によるマスク部分または非マスク部分に化学エッチングを行うことにより、基板の表面に規則的な凹凸構造を形成することを特徴とする基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 インプリント処理がなされる空間内の気体がインプリント装置外に流出することの防止とインプリント装置外のパーティクルが前記空間内に流入することの防止との両立。
【解決手段】 インプリント装置は、モールド１１を保持するヘッド１２と、基板１３を保持するステージ１４と、樹脂を前記基板に塗布する塗布機構２０と、インプリント処理がなされる第１空間Ａとその外側の第２空間Ｂとの境界を定める第１隔壁４１と、前記第２空間とその外側の第３空間Ｃとの境界を定める第２隔壁４０と、を備え、前記第２空間を経由した前記第１空間と前記第３空間との間の気体の流通を阻害するように前記第２空間の圧力を調節する。 （もっと読む）

【課題】装置の大型化を招くことなくパーティクルやミストの再付着を抑制するフォトマスクの洗浄装置を提供する。
【解決手段】処理槽１２の内側において、壁部２１の周方向に複数の第一案内翼２４を設ける。この第一案内翼２４は、その上端と下端とを周方向にずらしつつ、中央部を周方向に湾曲した曲面状に形成する。これにより、フォトマスク１９の洗浄時に供給され、フォトマスク１９の回転により壁部２１方向に移動したクリーンエアおよび処理液を、第一案内翼２４により下方に導く。また、第一案内翼２４の下方において、壁部２１の周方向に複数の第二案内翼２５を設ける。第二案内翼２５は、第一案内翼２４により導かれたクリーンエアを、処理槽１２の底部２２に接続さている排出管部１５に導く。これにより、パーティクルやミストなどを含むクリーンエアを処理槽１２から排出する。 （もっと読む）

【課題】放射線照射による微細パターン形成方法において、大型サイズの基材に微細パターンを一括で形成する簡便、且つ高スループットの微細構造体の製造方法を実現し、且つ、パターン形成後に干渉縞の発生しない均一な塗膜が得られる微細パターン形成用放射線硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】アルキレン基、アリーレン基、−ＣＯＯ−などと、放射線硬化性官能基と、環状エーテル基などから成る単位を有する感放射線硬化性ポリマー（Ｐ）と、放射線硬化性モノマー（Ｍ）と、放射線重合開始剤（Ｉ）とを有し、組成物中の放射線硬化性成分全量に対して、感放射線硬化性ポリマー（Ｐ）の割合が５５〜９５重量％、放射線硬化性モノマー（Ｍ）の割合が５〜４５重量％である。 （もっと読む）