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Fターム[5F046AA28]の内容

Fターム[5F046AA28]に分類される特許

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【課題】環境特性、離型性に優れた硬化物を形成でき、フッ素界面活性剤と他の成分との相溶性に優れた光硬化性組成物、およびモールドの反転パターンが精密に転写された微細パターンを表面に有し、かつ表面の組成が均一な成形体を製造できる方法を提供する。
【解決手段】メタ)アクリロイルオキシ基を1個以上有する化合物を主成分とするインプリント用光硬化性組成物であって下記重合体(D)を含む光硬化性組成物。CH2=C(R11)-C(O)O-Q-Rfの単位20〜45質量%とCH2=C(R21)-C(O)O-(CH2CH(R22)O)n-H(数平均分子量350以下)単位の20〜65質量%とCH2=C(R31)-C(O)O-R32の単位5〜40質量%とを含む、質量平均分子量1000〜5000の重合体(D)。R11、R21、R31=水素原子、メチル基、Q=2価の連結基等、R=炭素数1〜6のポリフルオロアルキル基等、R22=水素原子等、n=3〜6、R32=炭素数2〜15の脂肪族炭化水素基。 (もっと読む)


【課題】比較的大面積化が可能なナノインプリントプロセスによるマスクの形成と、大面積の処理が可能な化学エッチングとに着目することで,基板の表面に比較的大面積の所望の微細凹凸構造を形成可能な方法を提供する。
【解決手段】半導体材料または金属材料からなる基板の表面上に設けられたマスク形成用層に対し、陽極酸化ポーラスアルミナまたはそれを鋳型として作製した他の材料からなるネガ型またはポジ型を規則的な凹凸構造を有するモールドとして用いたナノインプリント法により、基板の表面上にモールドの凹凸構造を転写した形状を有するマスク層を形成し、基板の前記マスク層によるマスク部分または非マスク部分に化学エッチングを行うことにより、基板の表面に規則的な凹凸構造を形成することを特徴とする基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 インプリント処理がなされる空間内の気体がインプリント装置外に流出することの防止とインプリント装置外のパーティクルが前記空間内に流入することの防止との両立。
【解決手段】 インプリント装置は、モールド11を保持するヘッド12と、基板13を保持するステージ14と、樹脂を前記基板に塗布する塗布機構20と、インプリント処理がなされる第1空間Aとその外側の第2空間Bとの境界を定める第1隔壁41と、前記第2空間とその外側の第3空間Cとの境界を定める第2隔壁40と、を備え、前記第2空間を経由した前記第1空間と前記第3空間との間の気体の流通を阻害するように前記第2空間の圧力を調節する。 (もっと読む)


【課題】モールドのパターン内部への樹脂充填性と、樹脂層に対するモールドの離型性を確保したパターン形成方法と、このパターン形成方法を利用したナノインプリント転写に使用するナノインプリントモールドとナノインプリント用転写基材とを提供する。
【解決手段】ナノインプリントモールド1を、基体2と、この基体2の一方の面2aに位置する転写形状部3と、少なくとも転写形状部3上に位置する濡れ性変化層4とを備えたものとし、濡れ性変化層4は第1の波長の光を照射することによる水に対する接触角の減少と、第2の波長の光を照射することによる水に対する接触角の増加が可逆的に起こるものとする。 (もっと読む)


【課題】基板との密着性に優れた光硬化性組成物を提供する。
【解決手段】(A)光重合性単量体と、(B)光重合開始剤と、(C)シランカップリング剤と、(D)重量平均分子量が30〜1000である酸とを含む、光硬化性組成物。 (もっと読む)


【課題】低コストでナノインプリンティングを行うことを可能とすること。
【解決手段】救済可能領域と、前記救済可能領域に置換可能な冗長領域とを備えるメモリセルアレイを製造するためのテンプレートを検査対象とする。まず、欠陥を検出したテンプレートの欠陥位置と救済可能領域の位置情報とに基づいて前記検出した欠陥が救済可能領域内に位置しているか否かを判定する。そして、前記欠陥が検出された救済可能領域数が予め定められた許容数を越えるか否かを判定する。そして、前記検出した欠陥が救済可能領域外に位置している場合または前記欠陥が検出された救済可能領域数が前記許容数を越える場合、当該テンプレートを検査結果不合格とする旨の通知を出力する。 (もっと読む)


【課題】光学部材の光学面に清掃用媒体を衝突させることにより、該光学面から異物を除去することができる清掃装置、露光装置、清掃方法、露光方法及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】清掃装置は、光学部材の光学面の少なくとも一部に対向して配置されることにより、チャンバ内の環境から分離された清掃用空間を形成する環境形成部材61と、清掃用空間内で光学面の少なくとも一部に清掃用媒体を噴射する清掃用媒体噴射部70と、光学面の少なくとも一部に噴射された清掃用媒体及び清掃用媒体によって光学面の少なくとも一部から除去された異物を回収する回収部72とを備えている。 (もっと読む)


【課題】電子線照射によるレジストパターンのドライエッチング耐性を向上させる手段において、酸素が存在する雰囲気中でも、レジストパターンの形状劣化を防止し、微細な転写パターンを形成することを可能とするナノインプリント用モールドの製造方法およびレジストパターンの形成方法を提供する
【解決手段】レジストパターン2を形成した後に、前記レジストパターンの上に、オゾンアッシングからレジストを保護する保護膜3を形成し、次に、大気中のように、酸素が存在する雰囲気中において、前記保護膜を介して前記レジストパターンに電子線4を照射し、その後、前記保護膜を除去してドライエッチング耐性が向上した前記レジストパターンを形成する。 (もっと読む)


【課題】微細構造が転写成形された被成形体を付着基体から剥離する際に、剥離の部分や順序を制御し、転写成形された微細構造に損傷を与えることなく迅速に被成形体を付着基体から剥離することができる剥離治具本体、剥離治具及び剥離方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る剥離治具本体は、プレス式の微細構造転写成形装置により、前記微細構造が転写成形された被成形体をこれが付着したスタンパ、上金型又は下金型から剥離する剥離治具本体であって、前記被成形体の開放面側の縁部を保持固定する保持手段と、前記保持手段の前記被成形体を保持固定する保持部15を前記スタンパ、上金型又は下金型に対して垂直方向に上下動させるアクチュエータ20と、前記被成形体の縁部に空気を吹き付ける空気噴射手段と、前記保持手段、アクチュエータ20及び空気噴射手段の作動を制御する制御手段と、を有してなる。 (もっと読む)


【課題】樹脂部へのパターン転写の際に生じるバリに起因する悪影響を抑制することが可能なナノインプリント用モールドの製造方法等を提供する。
【解決手段】ナノインプリント用モールドの製造方法は、パターン5Pが形成された第1面5S1と、第1面5S1とは反対側の第2面5S2とを有し、紫外線が透過可能な材料からなるモールド本体部5を準備する工程と、モールド本体部5を固定するための表面3Sを有し、紫外線が透過可能な材料からなるモールド基体部3を準備する工程と、モールド本体部5の第2面5S2をモールド基体部3の表面3Sの一部に固定する工程とを備える。モールド本体部5において、第1面5S1から第2面5S2に向かう方向と垂直方向の幅が、一定、又は、第1面5S1から第2面5S2に向かうに従って減少する。 (もっと読む)


【課題】微細パターンを形成する際に生じるバリの高さを抑制することと、樹脂にパターン面を押し付ける際にモールドの基体部が樹脂に接触することを抑制することを両立することが可能なナノインプリント用モールドを提供する。
【解決手段】モールド1aは、モールド基体部3とモールド本体部5とを備える。モールド本体部5の表面5Sは、ナノインプリント用のパターン5Pが形成されたパターン面5S1と、パターン面5S1の外縁5S1X、5S1Yに沿って設けられた副表面5S2とを有する。表面3Sと垂直な方向における副表面5S2からモールド基体部3の表面3Sまでの最長距離H5S2は、モールド基体部3の表面3Sと垂直な方向におけるパターン面5S1からモールド基体部3の表面3Sまでの距離H5S1よりも短く、これらの差D5Sは、ナノインプリント用のパターン5Pの深さよりも大きい。 (もっと読む)


【課題】干渉計の光路へのガス漏れを抑制しつつ、インプリント処理時に基板とモールドとの隙間にガスを迅速に高い濃度に充填させるインプリント装置を提供する。
【解決手段】モールド11を保持するヘッドと、ウエハ21を保持するウエハステージ23と、樹脂を前記ウエハに供給する樹脂供給口32と、前記ウエハステージの第1方向における位置を計測する干渉計と、型と前記ウエハとの間の空間に空気と置換するためのガスを供給する第1ガス供給口41aを前記ウエハステージの上に有する第1ガス供給部と、前記空間に前記ガスを供給する第2ガス供給口41bを前記ウエハステージの上に有する第2ガス供給部と、前記空間に前記ガスを供給する第3ガス供給口43を前記ウエハステージの前記干渉計側の縁部に有する第3ガス供給部と、制御部60とを備える。 (もっと読む)


【課題】基板との密着性、インプリント性、モールドとの離型性に優れ、表面硬度が高いパターンガ提供できる光インプリント用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】(A)光重合性単量体と(B)光重合開始剤と(C)3級アミノ基含有化合物を含むことを特徴とする光インプリント用硬化性組成物。 (もっと読む)


【課題】より薄く均一な薄膜の形成が可能で、より微細化した微細パターンの転写精度に優れ、薄膜の硬化時間が短い微細構造転写用の光重合性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】(a)から(f)に示す工程で、微細構造体5を作製するに当り、光重合性樹脂組成物1は、下記の成分(A)、成分(B)、成分(C)、成分(D)及び成分(C)を下記の割合で含む。(A)6〜15官能のアクリレート;0.5〜10質量%(B)重量平均分子量(Mw)が1000〜10000のアクリレート;0.5〜10質量%(C)ベンゼン環を有するアクリレート;0.5〜10質量%(D)反応性希釈剤;80〜98質量%(E)光重合開始剤;0.1〜5質量% (もっと読む)


【課題】良好なスループットを維持できるように十分な光透過性を有すると共に、被転写体に対する微細パターンの転写精度に優れ、しかも繰り返し転写性にも優れるナノインプリント用樹脂スタンパ及びこれを使用したナノインプリント装置を提供する。
【解決手段】複数の重合性官能基を有する主成分としてのシルセスキオキサン誘導体と、複数の重合性官能基を有し、前記シルセスキオキサン誘導体とは別の重合性樹脂成分と、光重合開始剤とを含有する樹脂組成物の重合体からなる微細構造体層を、光透過性の支持基材上に備えるナノインプリント用樹脂スタンパ3であって、前記光重合開始剤は、前記シルセスキオキサン誘導体、及び前記重合性樹脂成分の合計の質量に対して、0.3質量%以上、3質量%以下であり、前記微細構造体層は、波長365nmの光を80%以上透過することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】実施形態は、品質トラブルにつながる装置異常を高い確率でリアルタイムに検知することができる露光装置の管理方法および管理システムを提供する。
【解決手段】実施形態に係る露光装置の管理方法は、ウェーハの露光時におけるアライメント補正の補正量と、前記露光時における露光光学系の光軸に対するウェーハステージの傾き量と、をデータベースから取得するステップと、前記傾き量について、予め定められた条件に基づいて判定するステップと、前記補正量について、予め定められた条件に基づいて判定するステップと、前記傾き量および前記補正量の両方について、前記条件を充足したときに警報を発信するステップと、を備える。 (もっと読む)


【課題】ポリマーアロイに配向性の高い相分離構造のパターンを短時間で形成することのできるパターン形成方法及びポリマーアロイ下地材料を提供する。
【解決手段】基板上に自己組織化単分子膜とポリマー膜を積層する工程と、エネルギー線を照射することにより前記ポリマー膜と前記自己組織化単分子膜を化学結合させ、ポリマー表面層を前記自己組織化単分子膜上に形成する工程と、相分離構造のパターンを有するポリマーアロイを前記ポリマー表面層上に形成する工程と、を含むパターン形成方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】硬化後に高い耐熱性を有し、高精細なレリーフパターンを基材上に形成するのに使用される光硬化性組成物、このような特性を有する硬化膜、及びこの有機膜を有する電子部品を提供する。
【解決手段】一般式(1)で表されるエポキシ樹脂(A)、イソシアヌル環を有する多官能(メタ)アクリレート(B)、マレイミド共重合体(C)、光重合開始剤(D)とを含有する光硬化性組成物を用い、この光硬化性組成物から得られるパターン状硬化膜を電子部品の適所に形成する。

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【課題】多段構造の寸法精度を向上したインプリントモールドの製造方法およびインプリントモールドを提供することを課題とする。
【解決手段】3次元の多段構造パターンを有するインプリントモールドの製造方法において、基板11に酸化膜12を形成する第1の工程と、第1の工程後に、感光性樹脂14を基板11に形成し、感光性樹脂14は酸化膜12を被覆する第2の工程と、感光性樹脂14をマスクにして基板11を選択的に除去して、基板11に第1凹部パターン15を形成する第3の工程と、感光性樹脂を除去した後、酸化膜12をマスクにして基板11を選択的に除去して、基板11に第2凹部パターン16を形成する第4の工程とを有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】良質にパタンを形成することが可能なパタン形成方法を提供する。
【解決手段】原板に形成されたパタンを互いに異なった転写条件で複数のチップ領域に転写する工程と、各チップ領域それぞれを複数の領域に分割する工程と、複数のチップ領域の互いに対応する分割領域ごとに最適な転写条件を求める工程と、分割領域ごとに求められた最適な転写条件を用いてウエハ上にパタンを転写する工程と、を含む。 (もっと読む)


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