【課題】 本体構造体の弾性変形によるフォーカス精度の低下と、先読み領域の計測計を用いることで発生する基板処理枚数の劣化の両問題について解決する露光装置の提供を行う。
【解決手段】 上記目的を達成するために、本体構造体の位置変位量と、基板ステージ、もしくは原版ステージの位置を用いて、本体構造体が弾性変形をした時のフォーカス変動量をリアルタイムで計算し、予測補正する手段を有することを特徴とする。また、フォーカス変動量の予測補正量を算出する時に、本体構造体に強制的な作用力を加えて本体構造体の変位量を測定すると同時に、投影光学系と基板ステージ間の相対位置、もしくは、投影露光系と原版ステージの相対高さを測定し、回帰分析することで前記補正量の更正を行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】テーブルの位置決めに有利なステージ装置を提供する。
【解決手段】ベース部と、ＸＹ平面に沿って移動可能なテーブルと、Ｙ軸方向に沿った前記第１の端面の位置を計測する第１のＹ軸干渉計２２２と、前記Ｙ軸方向に沿った第２の計測光路を有する第２の端面の位置を計測する第２のＹ軸干渉計２２４と、前記第１のＹ軸干渉計及び前記第２のＹ軸干渉計から前記ＸＹＺ座標系のＸ軸方向に離間して、且つ、前記Ｙ軸方向に沿った第３の計測光路を有する第３のＹ軸干渉計２２８と、前記第１のＹ軸干渉計の計測値、前記第２のＹ軸干渉計の計測値及び前記第３のＹ軸干渉計の計測値に基づいて前記テーブルの変形量を求め、前記変形量に基づいて目標位置を補正した補正目標位置を求め、前記第１のＹ軸干渉計の計測値と前記第２のＹ軸干渉計の計測値から求まる前記テーブルの位置が前記補正目標位置に位置するように前記テーブルを位置決めする制御部とを有する。 （もっと読む）

【課題】 本体構造体の弾性変形を計測するレーザ干渉計を追加することなく、本体構造体の弾性変形により発生するステージ間の相対位置誤差を補正する露光装置を提供すること。
【解決手段】 露光装置1は、マスク2を保持するマスクステージ4と、基板3を保持するプレートステージ5と、マスクステージ4とプレートステージ5の位置を計測するレーザ干渉計と、レーザ干渉計の計測結果に基づいてマスクステージ4とプレートステージ5の位置を制御する制御演算器16および駆動装置と、マスク2に描画されたパターンを基板3に投影する投影光学系6とを有する。本体構造体7上のレーザ干渉計支持台と投影光学系6の傾き量を傾斜角計１７(ａ),１７(ｂ),１７(ｃ)により計測して、該計測結果からマスクステージ4とプレートステージ5の相対位置誤差を補正する。 （もっと読む）

【課題】リニアモータを小型化及び軽量化できるようにする。
【解決手段】リニアモータ１は、Ｘ軸方向に沿って極性が交互となるように等間隔に配置された複数の磁極１１を有する界磁１０と、界磁１０の一方側に対向して配置され、Ｘ軸方向に沿った推進力を発生するための複数のＸ軸用巻線２２を有するＸ軸用電機子２０と、界磁１０の他方側に対向して配置され、Ｙ軸方向に沿った推進力を発生するための複数のＹ軸用巻線３２を有するＹ軸用電機子３０とを備えることにより、Ｘ軸方向への駆動に用いられる界磁とＹ軸方向への駆動に用いられる界磁とを共通化する。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で、対象ワークの位置姿勢制御を極めて高い精度で行うことができる載置ステージを提供する。
【解決手段】露光光が結像されて所定のマスクパターンが露光される対象ワーク２２の基準平面に対する位置および姿勢を制御する載置ステージ３０である。基準平面に対して固定的に設けられたベース部材３１と、基準平面に沿う第１方向（Ｙ軸方向）に移動可能にベース部材３１上に設けられた第１駆動機構（３２）と、第１駆動機構により支持される第１スライダ（３３）と、基準平面に沿いかつ第１方向に対して傾斜する第２方向（Ｘ軸方向）に移動可能に、第１スライダ上で第１方向に間隔を置いて対を為して設けられた２つの第２駆動機構（３４）と、各第２駆動機構により個別に支持される２つの第２スライダ（３５）と、対象ワーク２２を載置すべく両第２スライダを第１方向に架け渡して基準平面に沿って設けられた平面調整板（３６）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】ステージの位置を計測する。
【解決手段】ステージ定盤に設けられたエンコーダ７２，７７及びＺヘッド７３，７８とステージＲＳＴに設けられたグレーティングＧＲ１，ＧＲ２とを用いて、ステージ定盤に対するステージＲＳＴの位置を計測する第１計測システムと、ステージ定盤に設けられたエンコーダ８２〜８４及びＺヘッド８７〜８９と投影光学系ＰＬに設けられたグレーティングＧＲ３〜ＧＲ５及び反射面ＲＦ１〜ＲＦ３を用いて、ステージ定盤に対する投影光学系ＰＬの位置を計測する第２計測システムと、から計測システムが構成される。これを用いることにより、投影光学系ＰＬに対するステージＲＳＴの位置を高精度に計測することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】マスク保護用の複数のスペーサを、簡単な構成で短時間にチャックの表面に設置する。
【解決手段】チャック１０の内部から上昇する突き上げピン１２及び突き上げピン１２を上下に移動するモータ１１を有する複数の突き上げピンユニットをチャック１０に設け、マスク２をマスク搬送装置によりチャック１０へ搬入し、複数の突き上げピン１２により、マスク２をマスク搬送装置から受け取ってマスクホルダ１０に装着する。マスク２を載せた突き上げピン１２が下降したときマスク２のパターン面の周辺部を支持する複数のスペーサ３０を、チャック１０の内部に収納し、各スペーサ３０をチャック１０の内部からチャック１０の表面に出して、マスク２を載せた突き上げピン１２が下降したときマスク２のパターン面がチャック１０の表面に接触するのを防止する。 （もっと読む）

【課題】大型の露光装置用マスクステージ装置を軽量化、小型化すること。
【解決手段】 マスクステージＭＳＴでは、マスクＭを保持するステージ本体６０がＹ軸（クロススキャン）方向に移動する際には、一対のＸビーム７０及び一対のＸテーブル９０と一体的にＹ軸方向に移動する。これに対し、ステージ本体６０がＸ軸（スキャン）方向に移動する際は、一対のＸテーブル９０がステージ本体６０と共に静止したＸビーム７０上をＸ軸方向に移動する。従って、マスクＭをスキャン方向に移動させるためのリニアモータの推力が小さくて良く、駆動反力の影響も低減できる。また、マスクステージＭＳＴがＹ軸方向に移動するとき、一対のステージガイド５０も同時にＹ軸方向に移動するので、ステージガイド５０のＹ軸方向幅を小さくすることができ、装置が軽量化できる。 （もっと読む）

【課題】リニアモータの固定子ユニットと可動子ユニットとの間の距離の変化を検知可能な移動体装置、この移動体装置を備える露光装置、及びこの露光装置を利用してデバイスを製造するデバイス製造方法を提供すること。
【解決手段】移動体装置は、第１の方向に沿って設けられた固定体部と、第１の方向に沿って固体体部に対して相対移動可能に固定体部に対向して配置された移動体部と、第１の方向に沿って固定体部に配列された複数の第１ユニット、および複数の第１ユニットに対向するように移動体部に設けられた第２ユニットを有し、第１ユニットと第２ユニットとの間に相互に作用させる電磁力によって移動体部を相対移動させるリニアモータと、第１ユニットと第２ユニットとの間に張設された線状部材と、線状部材の動きを検出し、線状部材の動きの検出結果に基づいて第１ユニットと第２ユニットとの間の距離の変化を検知する検知部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】リニアモータの固定子ユニットと可動子ユニットとの間の距離の変化を検知可能な移動体装置、この移動体装置を備える露光装置、及びこの露光装置を利用してデバイスを製造するデバイス製造方法を提供すること。
【解決手段】移動体装置は、第１の方向に沿って設けられた固定体部と、第１の方向に沿って固体体部に対し相対移動可能に固定体部に対向配置された移動体部と、第１の方向に沿って固定体部に配列された複数の第１ユニット、および複数の第１ユニットに対向するように移動体部に設けられた第２ユニットを有し、第１ユニットと第２ユニットとの間に相互に作用させる電磁力によって移動体部を相対移動させるリニアモータと、第２ユニットに対し第１ユニット側へ突出するように移動体部に設けられた接触子を有し、接触子の端部と第１ユニットとの接触状態に基づいて第１ユニットと第２ユニットとの間の距離の変化を検知する検知部とを備える。 （もっと読む）

【課題】センサにより計測されたアライメントのズレ量を、各装置を制御するためのレシピを用いて補正することにより、アライメント処理時間を短縮し、露光ラインを止めずにアライメント補正することを可能として、スループットを向上させることができる露光システム及びその制御方法を提供する。
【解決手段】制御装置２１は、前回のプリアライメント時に検出された基板ステージ１６と基板Ｗとのズレ量Ｅ１、Ｅ２に基づいて算出した補正値をプリアライメント制御レシピＲ１に書き込むと共に、露光装置１３における前回の基板ＷとマスクＭとのアライメント調整時に検出された基板ＷとマスクＭとのズレ量ｅ１、ｅ２に基づいて算出した補正値を露光制御レシピＲ２に書き込む。そして、次回のプリアライメント及び露光の際、プリアライメント制御レシピＲ１及び露光制御レシピＲ２に基づいてプリアライメント装置１２及び露光装置１３を制御する。 （もっと読む）

【課題】マスクステージの回転中心の座標を精度良く求め、これによりマスクと基板との位置決めを高精度で行うことができるマスクの位置決め装置及びマスクの回転中心算出方法を提供する。
【解決手段】位置決め装置７０は、回転機構１６ｘを具備するマスクステージ１０と、マスクＭ及び基板Ｗに設けられた複数のアライメントマークＭｍ、Ｗｍを検知するための複数のアライメントカメラ１８と、アライメントカメラ１８により得られた画像を用いて各アライメントマークＭｍ、Ｗｍの位置が合うようにマスクステージ１０の動作を制御する制御装置７１と、を備える。アライメントカメラ１８は、各アライメントカメラ１８にそれぞれ対応するアライメントマークＭｍ、Ｗｍを撮像し、マスクステージ１０を回転させた後、各アライメントマークＭｍ、Ｗｍを再度撮影して、マスクステージ１０の回転中心Ｅの座標を算出する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、不感帯等の存在に依らず、高速且つ安定した位置決めを行う試料ステージの提供を目的とする。
【解決手段】上記目的を達成するために、試料ステージのテーブルと駆動機構との間の結合を機械的に分離可能な結合部と、当該結合部を駆動機構によるテーブルの移動停止の前に分離するように制御する制御装置と、テーブル位置の位置を検出する位置検出器を備え、制御装置は、テーブルの粗動時には位置検出器によるテーブルの位置情報に基づいて、フィードバック制御を実施し、微動時には予め設定した速度変位パターンを用いて前記駆動機構をオープン制御するシーケンス制御を実施する試料ステージを提案する。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる物体の移動制御方法を提供する。
【解決手段】露光光が射出される光学部材の射出面との間に液体を保持して移動可能な物体の移動制御方法は、第１時点から第２時点までの所定期間において物体の速度が第１速度から第２速度へ変化するように所定の移動プロファイルに基づいて物体を移動させることを含む。その移動プロファイルは、所定期間において物体を第１加速度で移動させる第１プロファイルと、第１加速度とは異なる第２加速度で移動させる第２プロファイルとを含む。 （もっと読む）

【課題】交差する２軸方向に移動体を駆動させるときに生じる反力により、移動体が振動することを抑制することが可能なステージ装置を提供することを課題とする。
【解決手段】駆動手段２１２によってＹ方向に駆動されるＹ移動体２０２と駆動手段２１３によってＸ方向に駆動されるＸ移動体２０９と設置面６０に防振手段２０８を介して設置される基板ステージ定盤２０８とから構成されるステージの本体と、この本体と所定の間隔を維持した状態で前記Ｙ方向の駆動に同期して追従移動する補助ステージを備え、前記本体のＹ方向の駆動で生じる反力を設置面６０に逃がすと共に、前記補助ステージは、前記本体のＸ方向の駆動で生じる反力を案内手段２１６、支持手段２１７を介して設置面６０に逃がすように構成されたステージ装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】重量キャンセル装置の姿勢の安定化を図りつつ移動体の水平面に交差する方向に位置情報を求める。
【解決手段】 複数のレベリングセンサユニット７０は、微動ステージ５０に固定され、ターゲット用ステージ装置７５に取り付けられたターゲット７２，７４を用いて、微動ステージ５０の鉛直方向（Ｚ軸方向）、及び水平面（ＸＹ平面）に平行な軸線周りの回転量情報を求める。従って、ターゲット７２，７４を重量キャンセル装置４０に取り付ける場合に比べ、重量キャンセル装置４０を軽量化できる。従って、重量キャンセル装置４０が定盤１２上を移動する際の動作が安定する。 （もっと読む）

【課題】高速かつ高精度位置決めを実現できるステージ装置，それを用いた荷電粒子線装置及び縮小投影露光装置，およびステージ制御方法を提供することにある。
【解決手段】ステージ装置は、ステージ１０を駆動するモータ３０と、モータにより駆動されるステージの位置が最終目標位置となるような前記アクチュエータの駆動量を算出するステージ制御演算器１００を有する。ステージ制御演算器１００は、ステージの目標位置とステージの位置の差分に基づいて、ＰＩＤ制御する補償演算器１２０を有する。また、ステージの特性を同定するモデル同定器１３０と、モデル同定器によって得られた情報を基に、補償演算器におけるステージ制御用補償パラメータを演算する制御ゲイン演算器１４０を備える。 （もっと読む）

【課題】充分な保持剛性で基板を浮上保持すると共に省スペース化を可能とする。
【解決手段】エア浮上ユニット５０は、ベース５１の盤面５１ａ上でエアを吹出及び吸引することで基板を浮上保持する。ベース４１は、盤面５１ａに形成されエアを噴き出すための複数の噴出孔５２と、盤面５１ａに形成されエアを吸引するための複数の吸引孔５３と、ベース５１の内部にて水平方向に延在するように設けられ噴出孔５２から噴き出すエアを流通させて該エアの圧力を損失させるための圧損回路５４と、を備えている。ここで、圧損回路５４は、水平方向に曲がる曲がり部６４を有しており、水平方向に曲がりくねるよう構成されている。 （もっと読む）

【課題】位置精度性能が向上した、改善されたリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】基準構造に対してある方向に移動可能である支持部と、第１の周波数範囲内で上記方向における基準構造に対する支持部の位置を表す第１測定信号を提供するように構成される第１位置測定システムと、第２の周波数範囲内で上記方向における基準構造に対する支持部の位置を表す第２測定信号を提供するように構成される第２位置測定システムと、（ａ）第２周波数範囲内の周波数を有する信号成分を減衰させるように第１測定信号をフィルタリングし、（ｂ）第１周波数範囲内の周波数を有する信号成分を減衰させるように第２測定信号をフィルタリングし、（ｃ）フィルタリング後の第１測定信号とフィルタリング後の第２測定信号とを結合して、上記方向における基準構造に対する支持部の位置を表す結合測定信号を生成するように構成されるプロセッサと、を備える。 （もっと読む）

【課題】露光機内のマスクステージにマスクを装着した状態でフォトマスク上の異物の有無を検査することができるフォトマスク及び露光装置を提供する。
【解決手段】フォトマスク１のマスク基板１０の表面に、マスク基板１０の表面上を伝搬する弾性表面波を発生させる弾性表面波素子２０Ａと、弾性表面波を受信する弾性表面波素子２０Ｂとを設け、当該弾性表面波によって半導体回路パターン４１の異物の有無を検出する。このとき、フォトマスク１を露光機１００のマスクステージ１０３に載置した状態で異物検査を行う。また、弾性表面波素子２０Ａ，２０Ｂをマスク基板１０上に複数組設ければ、半導体回路パターン４１の異物の位置を特定できる。 （もっと読む）