【課題】 ステージの位置を高精度に計測するために有用な技術を提供する。
【解決手段】被測定物の位置を計測する計測装置は、前記被測定物に向けて光を射出し、前記被測定物で反射した光を検出する干渉計と、前記干渉計から射出された光と前記被測定物で反射した光の光路へ気体を吹き出す気体吹き出し部と、第１部材および第２部材を含み、前記光路が前記第１部材と前記第２部材の間にあり、前記気体吹き出し部により吹き出される気体を前記被測定物に向けて整流する構造体と、を備える。前記第１部材は、前記被測定物に取り付けられ、前記第２部材は、前記被測定物との間に隙間ができるように配置されている。 （もっと読む）

【課題】テーブルの位置決めに有利なステージ装置を提供する。
【解決手段】ベース部と、ＸＹ平面に沿って移動可能なテーブルと、Ｙ軸方向に沿った前記第１の端面の位置を計測する第１のＹ軸干渉計２２２と、前記Ｙ軸方向に沿った第２の計測光路を有する第２の端面の位置を計測する第２のＹ軸干渉計２２４と、前記第１のＹ軸干渉計及び前記第２のＹ軸干渉計から前記ＸＹＺ座標系のＸ軸方向に離間して、且つ、前記Ｙ軸方向に沿った第３の計測光路を有する第３のＹ軸干渉計２２８と、前記第１のＹ軸干渉計の計測値、前記第２のＹ軸干渉計の計測値及び前記第３のＹ軸干渉計の計測値に基づいて前記テーブルの変形量を求め、前記変形量に基づいて目標位置を補正した補正目標位置を求め、前記第１のＹ軸干渉計の計測値と前記第２のＹ軸干渉計の計測値から求まる前記テーブルの位置が前記補正目標位置に位置するように前記テーブルを位置決めする制御部とを有する。 （もっと読む）

【課題】安価な構成で、チャックのθ方向の傾きを精度良く検出して、基板のθ方向の位置決めを精度良く行う。
【解決手段】Ｘ方向（又はＹ方向）へ移動する第１のステージ（１４）、第１のステージに搭載されＹ方向（又はＸ方向）へ移動する第２のステージ（１６）、及び第２のステージに搭載されθ方向へ回転する第３のステージ（１７）を有する移動ステージにチャック（１０ａ，１０ｂ）を搭載する。チャック（１０ａ，１０ｂ）に複数の光学式変位計（４１）を設け、複数の光学式変位計（４１）により、第２のステージ（１６）に取り付けた第２の反射手段（３５）までの距離を複数箇所で測定する。複数の光学式変位計（４１）の測定結果から、チャック（１０ａ，１０ｂ）のθ方向の傾きを検出し、検出結果に基づき、第３のステージ（１７）によりチャック（１０ａ，１０ｂ）をθ方向へ回転して、基板（１）のθ方向の位置決めを行う。 （もっと読む）

【課題】干渉計の光路へのガス漏れを抑制しつつ、インプリント処理時に基板とモールドとの隙間にガスを迅速に高い濃度に充填させるインプリント装置を提供する。
【解決手段】モールド１１を保持するヘッドと、ウエハ２１を保持するウエハステージ２３と、樹脂を前記ウエハに供給する樹脂供給口３２と、前記ウエハステージの第１方向における位置を計測する干渉計と、型と前記ウエハとの間の空間に空気と置換するためのガスを供給する第１ガス供給口４１ａを前記ウエハステージの上に有する第１ガス供給部と、前記空間に前記ガスを供給する第２ガス供給口４１ｂを前記ウエハステージの上に有する第２ガス供給部と、前記空間に前記ガスを供給する第３ガス供給口４３を前記ウエハステージの前記干渉計側の縁部に有する第３ガス供給部と、制御部６０とを備える。 （もっと読む）

【課題】複数のレーザー変位計を用い、チャックのθ方向の傾きを精度良く検出して、基板のθ方向の位置決めを精度良く行う。
【解決手段】第２のステージ（Ｙステージ１６）に複数のレーザー変位計４３を設けて、複数のレーザー変位計４３をチャック１０ａ，１０ｂと共にＸＹ方向へ移動し、第２のステージに冷却装置を設けて、第２のステージが搭載されたガイド（Ｙカイド１５）で発生する熱により第２のステージが変形するのを防止しながら、複数のレーザー変位計４３によりチャック１０ａ，１０ｂの変位を複数箇所で測定する。測定結果からチャック１０ａ，１０ｂのθ方向の傾きを検出し、検出結果に基づき、第３のステージ（θステージ１７）によりチャック１０ａ，１０ｂをθ方向へ回転して、基板１のθ方向の位置決めを行う。 （もっと読む）

【課題】リニアモータの固定子と可動子との衝突を防止する。
【解決手段】Ｘボイスコイルモータ１８ｘの固定子７３に、ストッパブロック７０を固定する。ストッパブロック７０と可動子７１のヨーク７５との間のＹ軸方向に関するクリアランスは、コイルユニット７８と磁石ユニット７７とのＹ軸方向に関するクリアランスよりも狭く設定されている。従って、コイルユニット７８と磁石ユニット７７が接触するよりも前にストッパブロック７０とヨーク７５とが接触し、これによりコイルユニット７８及び磁石ユニット７７が保護される。 （もっと読む）

【課題】重量キャンセル装置の姿勢の安定化を図りつつ移動体の水平面に交差する方向に位置情報を求める。
【解決手段】 複数のレベリングセンサユニット７０は、微動ステージ５０に固定され、ターゲット用ステージ装置７５に取り付けられたターゲット７２，７４を用いて、微動ステージ５０の鉛直方向（Ｚ軸方向）、及び水平面（ＸＹ平面）に平行な軸線周りの回転量情報を求める。従って、ターゲット７２，７４を重量キャンセル装置４０に取り付ける場合に比べ、重量キャンセル装置４０を軽量化できる。従って、重量キャンセル装置４０が定盤１２上を移動する際の動作が安定する。 （もっと読む）

【課題】位置精度性能が向上した、改善されたリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】基準構造に対してある方向に移動可能である支持部と、第１の周波数範囲内で上記方向における基準構造に対する支持部の位置を表す第１測定信号を提供するように構成される第１位置測定システムと、第２の周波数範囲内で上記方向における基準構造に対する支持部の位置を表す第２測定信号を提供するように構成される第２位置測定システムと、（ａ）第２周波数範囲内の周波数を有する信号成分を減衰させるように第１測定信号をフィルタリングし、（ｂ）第１周波数範囲内の周波数を有する信号成分を減衰させるように第２測定信号をフィルタリングし、（ｃ）フィルタリング後の第１測定信号とフィルタリング後の第２測定信号とを結合して、上記方向における基準構造に対する支持部の位置を表す結合測定信号を生成するように構成されるプロセッサと、を備える。 （もっと読む）

【課題】ウエハステージを精度良く駆動する。
【解決手段】平面モータ３０により駆動されるウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の位置をエンコーダシステムを用いて計測し、エンコーダシステムからのウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２のそれぞれについての位置計測情報と、両ステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の位置に応じたエンコーダシステムの位置計測誤差の補正情報とに基づいて、ウエハステージＷＳＴ１を駆動する。これにより、主として両ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の移動に伴う周辺磁場の変動に起因する誤差を補正することができる。 （もっと読む）

【課題】反射光を常に入射光と平行な方向へ効率よく戻すことができるレーザ反射体を提供すること。
【解決手段】レーザ光の光軸（Ｐ軸）上に設けられるレンズ５および球体４と、球体４の表面を覆いレーザ光を反射する被覆体１２と、これらを収納する筺体７を備えており、レーザ光をレンズ５と球体４で１点に集光させ、被覆体１２で反射させる。レンズ５の中心と焦点Ｆ_１をＰ軸上に配置して、球体４の中心を、レンズ５の中心と焦点Ｆ_１を結ぶ線上に配置する。被覆体１２は、焦点Ｆ_１に近い方の半球面上の領域で、半球面とＰ軸との交点Ｑ_１を少なくとも含む領域を覆う。レンズ５と球体４の中心間距離Ｓ_１、球体４の屈折率ｎ１を、レンズ５により焦点Ｆ_１に向けて集光されるレーザ光が球体４で屈折して被覆体１２で覆われた交点Ｑ_１に集光するように設定する。 （もっと読む）

【課題】測定用レーザー光の遮断に影響されることなく、マスクステージと基板ステージの位置及び水平面内での姿勢を高精度で測定可能であるとともに、マスクステージと基板ステージを近接して配置して、環境温度を略同じにしてマスクと基板の熱膨張の差を抑制することができ、高精度な露光を実現する露光装置を提供する。
【解決手段】マスクステージ位置測定装置６６は、基板ステージ１１,１２の移動方向と直交する方向に離間し、マスクステージ１０の側面に配置された２箇所のマスクステージ測長ミラー７１Ａ,７１Ｂによりマスクステージ１０の位置及び水平面内での姿勢を測定する。また、基板ステージ位置測定装置６３，６４は、基板ステージ１１,１２の側面に配置される基板ステージ測長ミラー６１の２つの測定点７２Ａ,７２Ｂにより、基板ステージ１１,１２の位置及び水平面内での姿勢を測定する。 （もっと読む）

【課題】測長結果から精度よくデッドパスの影響を排除するヘテロダインレーザー干渉測長器を提供する。
【解決手段】ヘテロダインレーザー光源１０からのビームを２本の物理的に離れた平行なレーザービームに分岐させて測定ビームＢ１と参照ビームＢ２を生成する分岐器８０と、測定ビームＢ１及び参照ビームＢ２を測定光路ＬＰ１，ＬＰ２に向けて分割する偏光ビームスプリッタ３０と、測定光路ＬＰ１，ＬＰ２に設けられる１／４波長板３１，３２と、可動測定物５０に仮想直線上にお互いの反射面を反対方向に向けて固定され、測定ビームＢ１１，Ｂ１２が照射される測定ミラー３４１，３４２と、測定ミラー３４１，３４２近傍に配置され、参照ビームＢ２１，Ｂ２２が照射される反射ミラー４１１，４１２と、測定ミラー３４１，３４２の反射光を干渉させた光と反射ミラー４１１，４１２の反射光を干渉させた光に基づく２つのビート信号から変位を算出する演算回路７０を備える。 （もっと読む）

【課題】複数の光ファイバを接続した光ファイバケーブルを介してエンコーダヘッドから検出器へ出力ビームを接続損失なく送る。
【解決手段】エンコーダから出力ビームを検出器へ送る一系統の受光用ファイバとして、エンコーダ側に位置する光ファイバＦ１のコアＣＲ１の端面（射出端面）と該射出端面より大きな検出器側に位置する光ファイバＦ２のコアＣＲ２の端面（受光端面）とを対向して継がれた光ファイバケーブルを用いる。これにより、光ファイバの継ぎ部において光の漏れが生じることがなく、エンコーダの高い計測精度を確保することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】露光装置の製造を迅速に行う。
【解決手段】
露光装置１００の製造工場において、ボディ工具とステージモジュール２０とをドッキングさせ、ボディ工具が有する光干渉計を用いてステージモジュール２０の移動鏡の調整（傾き調整、直交度調整など）を行なった後、そのステージモジュール２０を所定の出荷先に出荷する。出荷先に設置されたボディＢＤは、予め製造工場にて光干渉計に関してボディ工具と同じ状態となるように調整（取付位置調整、光軸調整など）されている。従って、出荷先で改めてステージモジュール２０の移動鏡の調整を行う必要がなく、露光装置１００の製造を迅速に行うことができる。 （もっと読む）

【課題】アライメントマークの検出条件を最適化する。
【解決手段】 アライメント検出系ＡＳを用いてウエハＷ上に形成されたアライメントマーク（ＥＧＡマーク又はサーチマーク）が複数の照明条件及び結像条件で検出され、得られた検出信号が複数のフィルタ処理を用いて解析され（ステップ３０２〜３０６）、その解析結果に基づいて複数のフィルタ処理の処理条件を含む複数の照明条件及び結像条件以外の検出条件が最適化される（ステップ３０８〜３１４）。これにより、アライメントマークの検出条件を最適化することができる。 （もっと読む）

【課題】 プレートが搭載されるステージの位置を位置計測系を用いて管理する。
【解決手段】 主制御装置は、所定形状のプレート５０が着脱可能に搭載されたステージＷＳＴの位置を位置計測系（１８等）を用いて計測しつつ、アライメント系ＡＬＧを用いてプレート５０の一部を検出するとともに、その検出結果と対応する位置計測系の計測結果とに基づいてプレート５０の外周エッジの位置情報を取得する。このため、そのステージＷＳＴ上に位置計測用のマーク（基準マーク）などが存在しなくても、プレートの外周エッジの位置情報に基づいて、プレート（すなわちステージ）の位置を前記位置計測系で設定される移動座標系上で管理することが可能になる。 （もっと読む）

【課題】位置計測系の周期誤差が発生しても、精度良く周期パターンの位置を検出する。
【解決手段】可動ステージの位置を位置計測系を用いて計測し、その計測情報を用いて可動ステージを駆動するとともに、可動ステージ外の周期パターンから成る計測用マークを可動ステージに一部が配置された検出器を用いて検出する。ここで、位置計測系の計測周期（図１０（Ｂ）及び１０（Ｃ）に示される例では０．２５μｍ）の自然数倍と異なるピッチ（図１０（Ｃ）の例では２．０３１２５μｍ（なお、図１０（Ｂ）の例では２μｍ））の周期パターンを計測用マークとして用いることにより、計測周期に等しい位置計測系の周期誤差が発生しても、検出精度を損なうことなく、計測用マークの位置情報を計測することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】光源から供給された光ビームを空間的光変調器により変調して基板にパターンを描画する際に、光源から供給された光ビームの強度の低下を容易に検出して、不良の発生を防止する。
【解決手段】光ビームの強度を検出する検出装置（レーザーパワーメータ５１）をチャック１０に取り付け、光ビームの強度を検査するための検査用の描画データを光ビーム照射装置２０の駆動回路２７へ供給し、チャック１０と光ビーム照射装置２０とを相対的に移動して、チャック１０に取り付けた検出装置（レーザーパワーメータ５１）により光ビーム照射装置２０のヘッド部２０ａから照射された光ビームを受光し、検出装置（レーザーパワーメータ５１）により検出した光ビームの強度に応じて、光源の出力を調整する。 （もっと読む）

【課題】レーザ干渉計システムの計測精度を向上させる。
【解決手段】基板ステージ装置には、基板Ｐが載置された微動ステージ２１の位置情報を計測するためのＸ干渉計６０Ｘから照射されるレーザビームＬ１、Ｌ２の光路の上方にエアガイド装置７０が設けられている。エアガイド装置７０は、Ｘ干渉計６０Ｘから照射されるレーザビームＬ１，Ｌ２の上方に沿って配置されたガイド部材７１の下面に気体を噴出し、その気体は、コアンダ効果によりガイド部材７１の下面に付着した状態で、高速でレーザビームに平行に流れる。そして、高速で流れる気体に光路近傍の気体がベルヌーイ効果により引き寄せられることにより、その光路近傍の空気ゆらぎが抑制される。 （もっと読む）

【課題】 物体の変位量を高精度に測定可能な変位測定装置を提供すること。
【解決手段】 本発明の一側面としての変位測定装置は、格子パターン６が形成されたスケール７と、スケール７に光を照射する光源と、スケール７の格子パターン６で回折された光を受光する受光素子と、を備える。格子パターン６の形状は、その格子パターン６の格子方向Ｙに一定の周期で変化している。受光素子は、格子パターン６上の、格子方向Ｙにその周期の自然数倍の長さを有する領域１００で回折された光を受光する。 （もっと読む）