【課題】 ステージの位置を高精度に計測するために有用な技術を提供する。
【解決手段】被測定物の位置を計測する計測装置は、前記被測定物に向けて光を射出し、前記被測定物で反射した光を検出する干渉計と、前記干渉計から射出された光と前記被測定物で反射した光の光路へ気体を吹き出す気体吹き出し部と、第１部材および第２部材を含み、前記光路が前記第１部材と前記第２部材の間にあり、前記気体吹き出し部により吹き出される気体を前記被測定物に向けて整流する構造体と、を備える。前記第１部材は、前記被測定物に取り付けられ、前記第２部材は、前記被測定物との間に隙間ができるように配置されている。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、液体を介して露光光で基板を露光する。露光装置は、露光光が射出される射出面を有する光学部材と、基板を保持する第１保持部１５と、第１保持部１５の周囲の少なくとも一部に配置され、射出面が対向可能なスケール部材Ｔと、を有し、所定面内を移動可能な基板ステージ２Ｐと、所定面内を移動するスケール部材Ｔの表面が対向可能な位置に配置され、スケール部材Ｔの表面の異物を除去可能な除去部材を有する除去装置と、を備える。 （もっと読む）

【課題】露光装置において、マスクを基板に近接させる時に、両者に空気圧が発生し、マスクが変形して、これが平坦（露光可能な状態）に戻るまでに時間を要するために、マスク近接速度向上の妨げとなり、高スループット化の妨げとなる可能性がある。
【解決手段】マスクをガラス基板に近接させる時の速度プロファイルを、加速時の加速度を減速時の加速度より大きくするように制御することにより前記空気圧力上昇を小さくでき、マスクの変形量を小さくできる。その結果、マスク近接速度を向上できるので、スループットを向上できる。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、液体を介して露光光で基板を露光する。露光装置は、露光光が射出される射出面を有し、物体と射出面との間に液体が保持される第１空間を形成する光学部材と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、射出面の周囲に配置される光学部材の第１面との間で第１空間の液体の少なくとも一部が流入可能な第２空間を形成する第２面を有する液浸部材と、第２空間の圧力変動を抑制するバッファ装置と、を備える。 （もっと読む）

【課題】空間光変調器の長寿命化を図るとともに、空間光変調器で空間変調された光が空気のゆらぎによる影響を受けることを抑える技術を提供する。
【解決手段】描画装置１００は、光学ユニット４０を備えている。光学ユニット４０は、主にレーザ発振器４１、照明光学系４３、三角プリズム４７、投影光学系４６、および空間光変調ユニット４４を備えている。レーザ発振器４１からの光が三角プリズム４７に入射し、光学面４７３で三角プリズム４７の内部に向けて全反射される。このとき、光学面４７３の外側で生成されたエバネッセント光を空間光変調器４４１が空間変調して、光学面４７３で反射される光の空間変調が行われる。空間変調された光は、大気圧よりも低い圧力環境に調節されたチャンバ５０に導入され、光は投影光学系４６を通って基板Ｗ表面に照射される。 （もっと読む）

【課題】型（モールド）の倍率補正を高精度に実施する点で有利な保持装置を提供する。
【解決手段】インプリント用の型７を保持する保持装置３は、型７を引きつけて保持する複数の吸着部２３と、複数の吸着部２３を支持する支持部１５とを含むチャック１１と、支持部１５に支持され、力を加えて型７を変形させるアクチュエーター３２と、を有し、吸着部２３の少なくとも１つは、アクチュエーター３２により加えられる力の方向に変位可能に支持部１５に支持されている。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ露光装置のチャンバ内で発生したコンタミネーションによるマスクや光学系の汚染を抑制する。
【解決手段】ＥＵＶ露光装置１０Ａのチャンバ２５内に設置されたウエハステージ２４の近傍にエネルギー線発生源４１を配置し、ウエハ２３の表面に塗布されたレジストから発生する放出ガスをエネルギー線４２で分解することにより、照明光学系１３を構成する照明ミラー１４〜１６、投影系光学系３７を構成する投影ミラー３１〜３６、マスク２１などをコンタミネーションによる汚染から保護する。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できるメンテナンス方法を提供する。
【解決手段】光学部材の射出面から射出される露光光で液体を介して基板を露光する露光装置のメンテナンス方法は、脱気処理された第１の液体を介して射出面からの露光光が照射された非晶質フッ素樹脂を含有する膜の表面に、第１の液体よりも所定ガス濃度が高い第２の液体を供給することと、膜の表面に第２の液体を介して紫外光を照射することと、を含む。 （もっと読む）

【課題】不活性ガスの供給流量にばらつきが生じてもチャンバー内を圧力を安定して保つことができ、初期動作時、不活性ガスの供給流量を増やして不活性ガス化に必要な時間を短縮させることができる基板処理システムを提供する。
【解決手段】基板に対し所定の処理を行う基板処理部と、前記基板処理部を密封状態に収容するチャンバーと、チャンバー内に不活性ガスを供給するガス供給部と、チャンバー内のガスを排気するガス排気部と、を備えており、前記チャンバー内の圧力がチャンバー外の圧力よりも高いチャンバー設定圧力になるように、前記ガス供給部の不活性ガスの供給流量と前記ガス排気部の排気流量とが調整される構成とする。 （もっと読む）

【課題】露光量のきめ細かな監視および調整を可能にする。
【解決手段】実施形態の露光装置は、ＥＵＶ光を発光し、パターンが作成された第１の基板に照射する光源と、光学素子を有し、前記第１の基板から発せられる光束を縮小して第２の基板に照射することにより前記パターンを前記第２の基板に転写する縮小光学系と、前記ＥＵＶ光の照射により前記光学素子から発生する光電子を検出する光電子検出手段と、前記光電子検出手段の検出信号と前記光学素子表面の座標情報とから前記光学素子表面の状態分布を表す面内分布情報を作成する面内分布情報作成部と、を持つ。 （もっと読む）

【課題】液浸露光における露光不良の発生を抑制する。
【解決手段】第１の態様の液浸部材３は、液浸露光装置において、光学部材８と物体との間の液体ＬＱを通過する露光光の光路Ｋの周囲の少なくとも一部に配置される液浸部材３である。第１面、第１面と異なる方向を向く第２面、及び前記第１面と第２面とを結ぶ孔３２を有し、第１面と対向する物体上の液体の少なくとも一部を孔３２から回収可能な第１部材３１と、孔３２を通った液体ＬＱを含む流体Ｆ中の気泡の膨張を抑制する第２部材３４と、を備える。 （もっと読む）

【課題】露光後の熱反応型レジストの再酸化を抑制でき、現像差の減少を抑制して微細パターンを正確に形成できる微細パターン形成方法及び露光装置を提供すること。
【解決手段】本発明の微細パターン形成方法は、基材上に設けられ、加熱により還元反応する熱反応型レジスト材料を含んでなるレジスト層にパターンを形成する微細パターン形成方法であって、レジスト層の所定の領域を加熱還元する加熱期間と、不活性雰囲気下又は還元性雰囲気下において、レジスト層の所定の領域を冷却する冷却期間と、を含む還元工程と、レジスト層を現像する現像工程と、を具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】干渉計の光路へのガス漏れを抑制しつつ、インプリント処理時に基板とモールドとの隙間にガスを迅速に高い濃度に充填させるインプリント装置を提供する。
【解決手段】モールド１１を保持するヘッドと、ウエハ２１を保持するウエハステージ２３と、樹脂を前記ウエハに供給する樹脂供給口３２と、前記ウエハステージの第１方向における位置を計測する干渉計と、型と前記ウエハとの間の空間に空気と置換するためのガスを供給する第１ガス供給口４１ａを前記ウエハステージの上に有する第１ガス供給部と、前記空間に前記ガスを供給する第２ガス供給口４１ｂを前記ウエハステージの上に有する第２ガス供給部と、前記空間に前記ガスを供給する第３ガス供給口４３を前記ウエハステージの前記干渉計側の縁部に有する第３ガス供給部と、制御部６０とを備える。 （もっと読む）

【課題】露光装置において、基板をチャックに接触支持する方法では、基板に付着した塵埃、基板保持形状に倣った「裏面転写」が発したり、基板とチャックとの接触の順番などにより基板に皺などが発生し平坦度が損なわれて、露光不良が発生する可能性があった。
【解決手段】基板をチャック上に空気力を利用して基板を浮上させる手段を設けて、非接触で基板を保持することにより、接触状態により発生する可能性がある平坦度の棄損と皺の発生を防ぎ、露光パターンを高精度で基板に露光することができる。また、恒温（定温）手段を設けることにより、浮上させた基板の温度変化（上昇）を防ぐことができるので、基板の浮上露光による遜色はない。 （もっと読む）

【課題】稼動速度で基板の載置位置が正常であるか否かを確実に検出すること。
【解決手段】基板を保持して搬送する水平、鉛直方向の移動及び鉛直軸回りに回転自在な搬送アームＡ３と、搬送アームとの間で基板を受け渡しすると共に、基板を載置して処理を施す熱処理装置７０と、歪み量を測定する歪みセンサを同心円上の等間隔の位置に複数個備える、基板と同形状の歪みセンサ付きウエハＷＡと、搬送アーム及び熱処理装置の駆動部を制御すると共に、歪みセンサからの検出データを入力し、入力された検出データと予め記憶された正常動作時の歪みデータ標準データとを比較解析する判別部８０Ａを備える制御部８０と、を具備し、歪みセンサ付きウエハを搬送アームから熱処理装置へ受け渡すとき、又は熱処理装置が歪み測定用基板を載置するときに、判別部によって歪みセンサからの検出データの値が正常であるか否かを判定し、その判定結果を制御部に伝達する。 （もっと読む）

【課題】ホイルトラップを交換するタイミングを適切に判断することが可能な光源装置を提供する。
【解決手段】プラズマによる光を発生するプラズマ生成部（１、２、３）と、プラズマ生成部で発生した光を集光する集光鏡（６）と、プラズマ生成部で発生したデブリが集光鏡に到達することを抑制するホイルトラップ（８）と、ホイルトラップと接地部との間に流れる電流を測定する電流測定部（１１）とを備える。 （もっと読む）

【解決課題】
消耗部品の交換による運転停止が最小限ですみ、かつ装置構成を小型化可能な液浸露光用超純水の製造方法及び装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
液浸露光装置における投影光学系の最下面とレジスト間の露光光通過空間に供給される液浸露光用の超純水を製造するにあたり、流路に沿って複数の紫外線照射装置を直列配置し、その下流にイオン交換装置を配置して、ＴＯＣ１０ｐｐｂ以下の一次超純水を供給し、紫外線照射装置の一つを使用して液浸露光用の超純水を連続的に製造するとともに使用中の紫外線照射装置の性能を監視する。この紫外線照射装置の性能が所定のレベル以下になったとき、他の紫外線照射装置に切替えて連続運転を続ける。 （もっと読む）

【課題】加湿器の加湿能力過多による結露を抑制し、かつ、加湿能力不足による制御不良を抑制する露光装置を提供する。
【解決手段】加湿エア供給装置３０は、気体３２を加湿する気化式加湿器３４と、気化式加湿器３４を通過する第１の気体の流量を制御する第１の流体制御機器３３ａと、通過しない第２の気体の流量を制御する第２の流体制御機器３３ｂと、気化式加湿器３４の加湿能力を可変する加湿能力可変機器３８、３９と、湿度検出部４５と、制御演算部４６とを有し、制御演算部４６は、湿度検出部４５が検出した加湿エア４１の湿度と、予め設定した目標湿度とに基づいて、第１及び第２の流体制御機器３３ａ、３３ｂを制御して第１及び第２の気体の流量比を調整し、第１の流体制御機器３３ａの操作量と、予め設定した目標湿度操作量に基づいて、加湿能力可変機器３８、３９を制御して気化式加湿器３４に導入される第１の気体の流量を一定とする。 （もっと読む）

【課題】輸送管内壁への酸化物の付着を低減できる洗浄装置を提供する。
【解決手段】対象物１１に水素ラジカルを供給することによって前記対象物１１を洗浄する洗浄装置２７であって、加熱された触媒１に気体を供給することによって水素ラジカルを生成する生成手段と、前記生成手段から前記対象物１１への気体の供給を制限可能な制限手段と、前記制限手段により気体の供給が制限された状態で、前記触媒１の周囲の気体を前記対象物１１を介さずに排気可能な排気手段と、を備える。 （もっと読む）

【課題】極端紫外光発生装置における高効率でしかもコンパクト、低価格なデブリ回収装置を提供する。
【解決手段】極端紫外光発生装置において、バルク高温超伝導体とパルス磁場発生用のコイルを極低温に冷却できるようにした構造体による磁場発生装置とその磁場発生装置の磁力線の通る中心軸を中空とし、駆動用レーザ光とマイクロ波の導波管となるようにする。ＥＵＶ光を発生するプラズマ近傍が、マイクロ波の開放共鳴領域内になるように、マイクロ波の反射鏡をプラズマ発生点に対して磁場発生装置と反対側に適切に配置し、磁場とマイクロ波によるＥＣＲ共鳴により、中性デブリをほぼ完全にイオン化し、デブリのプラズマ閉じ込め、そして、磁場発生装置の中空部へのデブリの移動による高効率でしかもコンパクト、低価格なデブリ回収装置を実現する。 （もっと読む）