【課題】アライメントマークを形成する膜が薄くなると、マーク本体部とマーク周辺部からのアライメント光の反射率の差が小さくなり、十分なコントラストが得られないことが多くなった。
【解決手段】アライメントパターンを形成するマーク本体部と、マーク周辺部のいずれかに、二次元的な形状を有する回折格子を構成する凹凸を設けることにより、回折格子からの回折光と、非回折光とを利用して、光強度コントラストを大きくすることができる。 （もっと読む）

【課題】ブラックマトリックスに対する着色画素の位置ズレを算出するバーニアで、顕微鏡の焦点深度に影響されず、測定用マークのフリンジ部に影響されず精度よく、安定して位置ズレを算出するバーニア、及び露光位置の測定方法を提供する。
【解決手段】１）バーニアＶ２は、第一測定用マークＭ１１と第二測定用マークＭ１２で構成され、２）第一測定用マークは、遮光部Ｓと第一開口部Ｋａ−Ａと第二開口部Ｋａ−Ｂからなり、第二測定用マークは、遮光部上に形成されており、３）第二測定用マークの重心Ｄは、第一開口部の重心Ａと第二開口部の重心Ｂを結ぶ直線を底辺とする二等辺三角形又は直角二等辺三角形の頂点Ｃに位置すること。バーニアから一定距離離れた位置に、測定に用いる顕微鏡を移動させるためのターゲットマークＴＭを備えていること。 （もっと読む）

【課題】 位置検出用のマークを設計する際の担当者の人為的なパラメータの設定ミスを防止し、人為的ミスによる歩留まり低下や稼動率の低下を防止する。
【解決手段】 基板上に形成され且つ位置検出装置によって検出されるマークを設計するマーク設計装置において、マークの種類やマークを構成する線の幅や本数を含むパラメータを編集する手段と、それらパラメータにより決まるマークのイメージを形成する手段と、前記パラメータを編集するための要素と前記形成されたマークのイメージとを1つの画面でＧＵＩ表示する表示手段とを設ける。 （もっと読む）

【課題】埃等の不着の無い部分から基準パターンの抽出を行えるようにする。
【解決手段】実質的に同一の加工が施された複数の所定領域を有する物体上の該所定領域内に任意に設定される該所定領域よりも小さい面積を有する被計測領域内でユニークな信号特徴を有する基準パターンを抽出する基準パターン抽出方法である。前記複数の所定領域のうち任意に選択される第１所定領域内で、前記被計測領域の信号情報を計測する工程（Ｓ１２）と、この工程で計測された信号情報に基づいて、前記被計測領域内でユニークな信号特徴を有する候補パターンを抽出する工程（Ｓ１７）と、前記複数の所定領域のうちの前記第１所定領域とは異なる第２所定領域内で、前記被計測領域を計測する工程Ｓ２２と、この工程で計測された信号情報に基づいて、前記候補パターンに対応する比較パターンを抽出する工程Ｓ２３と、前記比較パターンに基づいて、前記候補パターンの前記基準パターンとしての適性を判断する工程Ｓ２５とを備えている。 （もっと読む）

【課題】 露光における作業性を向上させる。
【解決手段】 マスク８０が重ねられたウェハ７０に向けて光を照射する露光装置１００であって、ウェハ７０に複数の略ｍ角形又はｍ角形の素子７１が設けられる場合に、ウェハ７０を載置固定するウェハ固定ステージ３０と、マスク８０を固定するマスク固定ステージ２０と、ウェハ固定ステージ２０をウェハ７０を載置固定したまま所定の角度ごとに回動させる回動手段４０と、ウェハ固定ステージ３０に固定されたウェハ７０に斜めから光を照射する露光手段６０と、を備え、所定の角度が、３６０／ｎ度となり、回動手段４０が、ウェハ固定ステージ３０のウェハ７０を載置固定する面の中心であって当該面の法線方向を回動軸としてウェハ固定ステージ３０を回動させるように構成されることを特徴とする。 （もっと読む）

【解決手段】順応性のある対称性を持ったオーバレイターゲット及びかようなターゲットの二枚以上連続した層の間のオーバレイ誤差、或は同一の層の上の二つのセットの構成体の間のズレを計測するメトロロジ技術を提供するものである。或る実施例によれば、ターゲットにはx方向とy方向両方に沿ったオーバレイ誤差（或はズレ）を測定する構成体が含まれ、ここでx構成体はy構成体と異なる対称中心を持つ。別の実施例では、x構成体とy構成体の中の一つは１８０度の回転によって不変であり、他の一つは鏡面対称である。又、発明の一様相に於いて、１８０度の回転によって x構成体とy構成体共に変形である。更に別の例では、x方向及び／或はy方向でオーバレイを測定するためのターゲットは、 第一層の上の１８０度の回転対称の構成体と第二層の上の鏡面対称の構成体を含む。別の実施例に於いて、x方向及び／或はy方向のオーバレイを確定するターゲットは、第一層の上の構成体と第二層の上の構成体を含み、第一層の上の構成体の対称中心は第二層の上の構成体の対称中心から既知の量だけオフセットされて居る。或る特別の実施例として、開示された実施例のいずれのターゲットも装置構成体の形態をとってよい。使用の場合、第一と第二の各々の層で内在的に１８０度回転対称或は鏡面対称を持つ装置構成体が第一層と第二層でのオーバレイの測定に使用される。順応性のある対称性を持ったターゲットの撮像して取得した画像を解析してオーバレイや整列に関する誤差を確定する技術を開示する。 （もっと読む）

【課題】スクライブ・レーンのスペースを減少させることを可能にし、基板のスペースのより効率の良い使用を可能にする位置調整用マークを提供すること。
【解決手段】本発明は基板で使用するための位置調整用マークに関し、この位置調整用マークは、構造体の周期的な２次元配列からなり、構造体の間隔は位置合わせビームよりも小さいが、露光ビームよりも大きい。 （もっと読む）

【課題】複数レイヤ試料の２つのレイヤ間のオーバレイ誤差を決定する方法を提供する。
【解決手段】試料の第１レイヤから形成される第１構造および第２レイヤから形成される第２構造をそれぞれ有する複数の周期的ターゲットについて、光学システムを用い、周期的ターゲットのそれぞれについて光学信号が計測される。第１および第２構造の間には既定義されたオフセットが存在する。散乱計測オーバレイ技術を用いて既定義されたオフセットに基づいて周期的ターゲットからの前記計測された光学信号を分析することによって第１および第２構造間のオーバレイ誤差が決定される。本光学システムは、反射計、偏光計、画像化、干渉計、および／または走査角システムのうちの任意の１つ以上を備える。
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【課題】 ｎ＋配線基板を作製したり、走査信号線の形状をアライメント対象レイヤーによって変更することなく、フォトマスクのアライメント条件確認の精度を向上させる。
【解決手段】 フォトリソグラフィー技術によりステッパー装置を用いてフォトマスクを介して露光してパターニングを行う際に、それぞれ複数枚のフォトマスクを必要とし、各露光ショット間にマスクの継ぎ部が生じる中型または大型機種に対して、映像信号線２、ソース電極２ａ、ドレイン電極３ｂを形成する際に、ゲート電極１ａの先端上方にＴＥＧパターン９を形成し、画素電極４を形成する際に、ゲート電極１ａの先端上方にＴＥＧパターン１０を形成する。これらのＴＥＧパターン９，１０を用いてフォトマスクのアライメント確認を行う。 （もっと読む）