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Fターム[5F046EA21]の内容

Fターム[5F046EA21]に分類される特許

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【課題】簡単な構成で基板の裏面からアライメントを適切に行う露光装置を提供すること。
【解決手段】露光装置は、二次元方向に移動可能な基板ステージと、基板ステージ上に配設され、貫通孔362,363を有する基板載置部360上に露光基板を載置する基板載置ユニット350と、基板載置部360の貫通孔362,363に設けられる視標マーク378,398と、基板載置ユニット350に設けられるアライメント検出系370,390と、を備える。 (もっと読む)


【課題】基板の位置を容易に検出可能にする。
【解決手段】本発明の露光装置EXは、露光対象の基板Pに回路パターンを露光する露光部と、基板Pを貫通して設けられ、露光の位置基準となるアライメントマークAMに光を通して基板Pの位置を検出するアライメント系4を備える。アライメント系4は、光を射出する光学部材と、光学部材から射出されてアライメントマークAMを通った光を反射させる反射部とを備えてもよい。 (もっと読む)


【課題】精度よくアライメントできるアライメント装置及びアライメント方法並びにそれらを用いて高精度に蒸着できる有機ELデバイス製造装置及び成膜装置を提供することである。
または、アライメントに必要な駆動部等を大気側に配置することで真空内の粉塵や発熱を低減した生産性の高い、あるいは、保守性を高めて稼働率の高い有機ELデバイス製造装置及び成膜装置を提供することである。
【解決手段】シャドウマスクはアライメント用の貫通孔を有し、アライメント部は、前記貫通孔の一端側から光を入射する光源と前記他端を撮像する撮像手段とを有するアライメント光学系と、前記撮像手段の出力に基づいてアライメントを行なう制御部とを有することを特徴とする。さらに、上記特徴に加え、前記貫通孔は前記シャドウマスクの前後に貫通した孔であり、前記アライメント光学系は前記少なくとも前記基板への処理時に前記貫通孔への処理材の付着を遮蔽する遮蔽手段を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、半導体集積回路等のリソグラフィーで用いられる露光装置およびレチクルと感応基板ステージとの位置合わせ方法に関し、レチクルステージまたはレチクルのマークの位置測定を感応基板ステージで行うことを目的とする。
【解決手段】 レチクルステージに配置されるレチクルからの反射光により、感応基板ステージに配置される感応基板の露光を行う露光装置において、前記感応基板ステージに、前記レチクルステージまたは前記レチクルに形成される位置測定用マークを検出する位置測定用空間像センサと、前記レチクルステージまたは前記レチクルに形成されるフォーカス検出用マークを検出するフォーカス用空間像センサと、を各々設けてなることを特徴とする。 (もっと読む)


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