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Fターム[5F046EB00]の内容

半導体の露光(電子、イオン線露光を除く) (57,085) | 位置合わせマークの配置 (959)

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Fターム[5F046EB00]に分類される特許

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【課題】従来のアライメント方式では、テンプレート側のアライメントマークの凹凸にインプリント用の樹脂が流れ込んで該マークの信号が取れなくなり、良好なアライメントが行えない。
【解決手段】押印パターンの形成されたメサ部から離れた位置に、テンプレート側のアライメントマーク形成用で押印パターン部と同じ高さの微小メサを設ける。該アライメントマークにより押印ショットとは異なるショットのウェハー側アライメントマークを観察してアライメントを行う。 (もっと読む)


【課題】スループットを向上する。
【解決手段】スキャッタロメトリによって計測されるマークMとして、第1マークM1と第2マークM2とのそれぞれを、ウエハWの面において互いに直交する方向であって互いに異なったピッチで繰り返されたライン・アンド・スペース・パターンになるように、ウエハWの面に形成する。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、同一の露光マスクにおけるアライメントマーク間の最小許容間隔を保ちつつ、対象体のアライメントマークに必要な領域を縮小することのできる露光マスクの位置合わせ方法、これを用いた薄膜素子基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明は、アライメントマークが形成された複数のホログラムマスクを用いて、アライメントマークが形成された露光対象となる対象体にパターン露光を行うに際し、両アライメントマークを用いてホログラムマスクと対象体との位置合わせを複数回行う露光マスクの位置合わせ方法で、連続する三回以上の位置合わせのうち、対象体上の3回目の位置合わせ用アライメントマークを、2回目と1回目の位置合わせ用アライメントマーク間に設けるか又は1回目の位置合わせ用アライメントマークに対して2回目の位置合わせ用アライメントマークのある側とは反対側に設けて位置合わせを行う方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】 本発明の目的は、同一露光マスクのアライメントマーク間の最小許容間隔を保ち、対象体のアライメントマークに必要な領域を縮小でき、対象体の同マークの再利用が可能な露光マスクの位置合わせ方法及び薄膜素子基板の製造方法の提供。
【解決手段】 本発明は、アライメントマークが形成された複数のホログラムマスクを用いて、アライメントマークが形成された露光対象となる対象体にパターン露光を行うに際し、両アライメントマークを用いてホログラムマスクと対象体との位置合わせを複数回行う露光マスクの位置合わせ方法で、対象体上のパターン露光のための一領域と、該一領域の露光に用いるマスクとの位置合わせ用マークとを結ぶ直線が、対象体上の一領域に隣接するパターン露光のための他領域と、該他領域の露光に用いるマスクとの位置合わせ用マークとを結ぶ直線に対して交差するように各アライメントマークを設けて位置合わせを行う方法を提供する。 (もっと読む)


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