Fターム[5F046FC00]の内容
半導体の露光(電子、イオン線露光を除く) (57,085) | 位置合わせマークの検出一般及び検出の補助 (970)
Fターム[5F046FC00]の下位に属するFターム
ウェハマーク部の保護、保存 (21)
ウェハマーク部のレジスト除去 (9)
位置合わせ状態(結果)の表示 (46)
検出されたマーク情報のデータ処理 (440)
マーク検出結果によるステージ等の移動 (266)
2種類以上の位置合わせを行うもの (38)
プリアライメントも行うもの (64)
両面露光のためのもの (18)
その他 (67)
Fターム[5F046FC00]に分類される特許
1 - 1 / 1
基板テーブル、基板位置の測定方法、およびリソグラフィ装置
【課題】高精度の位置決めを実現する。
【解決手段】放射が光学アーム10a,10bの中を通るように配された第1の窓および第2の窓を含む光学システムが、基板テーブルに設けられる。少なくとも2つのミラー12が、前記光学アーム10a,10b内に設けられ、かつ前記窓を通過した放射を反射するように配される。少なくとも2つのレンズ16,18が、前記ミラー12から反射された放射を受けるように位置付けられ、前記第1の窓には第1のアライメントマークWM1が設けられ、かつ前記少なくとも2つのミラー12および前記少なくとも2つのレンズ16,18は、前記第2の窓に前記第1のアライメントマークの像20aを形成するように配される。第2のアライメントマークWM1が、前記第2の窓の中に、または前記第2の窓に隣接した位置にある前記基板テーブルの中に設けられる。
(もっと読む)
1 - 1 / 1
[ Back to top ]