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Fターム[5F046LA06]の内容

Fターム[5F046LA06]に分類される特許

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【課題】基板の面内で均一性高くパターンを形成することができる現像装置を提供すること。
【解決手段】表面にレジストが塗布され、露光された後の基板を水平に保持する基板保持部と、前記基板の表面に現像液を供給し、前記レジストを現像するための現像液供給部と、基板上において予め設定されている特定の領域に、現像液を加熱して現像液とレジストとの反応の度合を高めるために、基板の材料の波長吸収領域を含む輻射光を照射する輻射光照射部と、基板の表面に洗浄液を供給して現像液を除去する洗浄液供給部と、を備えるように現像装置を構成する。 (もっと読む)


【課題】フォトマスク石英基板の現像においてパターン線幅の面内均一性を改善する手段として、現像液の液盛りを形成した初期工程で液の攪拌を行うものであり、円形状の液盛りを保持しながら、スピンチャックが回転する現像装置及びそれを用いた現像方法を提供する。
【解決手段】フォトマスク石英基板のスピンチャックに円形状ガイドを有し、独立して昇降する基板保持プレートとスピンチャックが回転する構造を特徴とし、現像液の液盛りを円形状ガイド上に形成させた後、パドル状態を維持したままスピンチャックが基板を保持して、回転と停止を繰り返す動作を行うことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】基板を回転させながら、液処理を行う液処理装置において、ミストやパーティクルの流出を抑え、且つ排気ポートから排気するための排気流量を抑えることができる技術を提供すること。

【解決手段】基板の回転により基板上の液を振り切るときには、外カップの下縁部をベース部の上方の第1の高さ位置に位置させ、装置が待機状態にあるときには前記外カップの下縁部の下方側から外部の気体を排気空間に流入させるために当該下縁部を第1の高さ位置よりも高い第2の高さ位置に位置させる昇降部と、前記処理液を案内するために、前記外カップの下縁部から内側に下向きに傾斜しながら伸び出す傾斜面部とを備えるように液処理装置を構成する。スピンチャックが回転しているときに前記排気空間の気体が外カップの下縁部に回り込んでベース体との間から外カップの外にミストやパーティクルが流出することが抑えられる。 (もっと読む)


【課題】半導体基板からの剥離物(例えば、レジストや金属膜)等が周囲の飛散防止カバーに付着するのを効果的に防止する半導体基板の処理装置を提案する。
【解決手段】半導体基板11を保持する基板保持部材12と、これの回転駆動手段14と、半導体基板11に処理流体を噴射するノズル15と、基板保持部材12の周囲に設けられた飛散防止カバー16とを有する半導体基板の処理装置10において、飛散防止カバー16の内側上部に、シャワーヘッダー17を設け、飛散防止カバー16の下方には、不要物30を回収する取り外し式のメッシュ籠29を備えている。 (もっと読む)


【課題】処理液による処理をウェーハの被処理面に対して均一に、且つ、処理の長時間化を抑制しながら行うことができる。
【解決手段】内部に処理液3を貯留し、処理液3によりウェーハ4の被処理面4aに対する処理が行われる処理槽2を備える。処理槽2内の処理液3に被処理面4aが浸漬されるように、被処理面4aを下向きにしてウェーハ4を保持する保持部5を備える。処理液3を処理槽2内へ供給する供給手段(例えば、循環ポンプ6及び供給配管7)と、回転することによって処理槽2内の処理液3を撹拌する回転部材(例えば、スターラ21)を備える。供給手段は、ウェーハ4の被処理面4aに向かう上向きの噴流20が処理槽2内に形成され、且つ、処理槽2の上端2aから処理液3がオーバーフローするように、処理液3を処理槽2内へ供給する。回転部材は、噴流20の経路を避けて配置されている。 (もっと読む)


【課題】上下に分割されて上側のカップが昇降自在なカップ内にて基板を回転させながら、液処理を行う液処理装置において、上下のカップの間からミストが外部に飛散することを防止できる液処理装置を提供すること。
【解決手段】ウエハWを吸着保持するスピンチャック1と、ウエハWに現像液を供給する現像液ノズル14及び洗浄液を供給する洗浄液ノズル15と、スピンチャック1の側方を覆うように設けられ、下カップ4と、昇降自在な上カップ3とを組み合わせて構成されたカップ体2と、上カップ3が上昇したときに下カップの屈曲部42が嵌入するように全周に亘って形成され、洗浄液を貯留するための溝部32と、ウエハWの回転によって振り切られた洗浄液を溝部32に案内する液受容槽34及び貫通孔38と、を備え、溝部32に貯留された洗浄液により、下カップ4と上カップ3との間を気密にシールしてカップ体2からミストが漏れ出すことを防止する。 (もっと読む)


【課題】処理の均一性を向上させることができる基板処理方法および基板処理装置を提供すること。
【解決手段】基板Wの上面に遮断板4の下面を対向させた状態で、基板Wと遮断板4との間に処理液を供給して、基板Wと遮断板4との間を処理液によって液密にする。そして、基板Wと遮断板4との間が処理液によって液密にされた状態で、基板Wと遮断板4とを鉛直軸線まわりに相対回転させる。 (もっと読む)


【課題】部品点数を削減するとともに、制限空間内での高いデザイン裕度を有する現像処理装置を提供する。
【解決手段】共通の筐体50内に、相互に雰囲気を連通させた状態にて3つの現像処理ユニットDEVが同じ高さ位置に一列に並設されている。現像液を供給するスリットノズル610および多孔ノズル620は、3つの現像処理ユニットDEVに共用に設けられている。また、隣接する現像処理ユニットDEVの間には、待機状態のスリットノズル610および多孔ノズル620を受け入れる待機ポッド70が設けられている。待機ポッド70は隣接する現像処理ユニットDEV間の仕切壁としても機能する。このため、新たに別途仕切板を設ける必要がなくなり、現像処理装置の部品点数を削減することができるとともに、筐体50の制限空間内での高いデザイン裕度を持たせることができる。 (もっと読む)


【課題】最外周誘導壁によって容器の開口部を開閉することにより、占有面積の小型化、及び処理の短時間化を実現する。
【解決手段】回転式処理装置1に、容器1A、回転保持機構7、処理液吐出アーム30、誘導壁16,17、及びエアシリンダ22,23を設けた。回転保持機構7は、容器1Aの開口部37から搬入された被処理基板3を水平に保持して回転させる。誘導壁16,17は、回転保持機構7の外周側に同心状に配置され、処理液吐出アーム30から吐出された処理液の廃液を分別して排液する。エアシリンダ22,23は、誘導壁16,17のそれぞれを上端部が回転保持機構に保持された被処理基板3よりも上方に位置する回収位置と下方に位置する退避位置との間で昇降させる。誘導壁16,17のうち最外周誘導壁17は、回収位置で開口部37を閉鎖し、退避位置で開口部37を開放する。 (もっと読む)


【課題】上カバーが熱膨張を生じても、その上カバーに挿通される保持部材が上カバーにより押圧されることを防止する。
【解決手段】スピンベース6の上カバー21には、複数の貫通孔27が形成されている。各貫通孔27には、保持部材7が挿通されている。また、各貫通孔27内には、上カバー21と保持部材7との間をシールするためのシール部材52がその内周に沿って配置されている。そして、水平方向において、保持部材7とシール部材52との間にギャップが形成されている。また、シール部材52は、上方に向けて突出する環状の突出部53を有している。一方、保持部材7(シール押さえ部材54)は、環状のシール当接面59を有している。環状の突出部53は、環状のシール当接面59に下方から当接する。シール当接面59は、水平方向において、突出部53よりも大きい幅を有している。 (もっと読む)


【目的】タンクロック装置を備えて作業員の勝手な取り替えを禁止し、正確な対照を行って、空になった液体タンクを正確な新しい液体タンクに取り替えることを管理するために、液体供給を管理するシステムとその方法を提供する。
【解決手段】液体タンクを備える工程設備に適した液体供給を管理するシステムが開示される。システムは、ホストと、データ読み出しツールと、システムコントローラーと、タンクロック装置とを含む。ホストが内蔵の液体データベースを蓄積している。液体タンクに関連するデータを読み出すために使用されるデータ読み出しツールがホストに電気接続される。ホストは、データ読み出しツールから液体タンクに関連するデータを受信し、かつ受信したデータを液体データベースと対照する。システムコントローラーがホストからの液体タンクの取り替えを許容するか否かの信号に従ってタンクロック装置を駆動する。 (もっと読む)


【課題】処理液案内部材の内方に処理液雰囲気を保持することができ、処理液案内部材外への処理液雰囲気の流出を抑制または防止することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】内構成部材19は、スピンチャック1の周囲を取り囲むように設けられ、第1案内部25、廃棄溝26、内側回収溝27および外側回収溝52を一体的に有している。中構成部材20は、内構成部材19の外側においてスピンチャック1の周囲を取り囲むように設けられ、第2案内部48を有している。外構成部材21は、中構成部材20の第2案内部48の外側においてスピンチャック1の周囲を取り囲むように設けられている。外構成部材21には、スカート部80が備えられている。スカート部80の垂下部81の下端部は、液体貯留部70に貯留された液体中に浸漬されていて、液封構造を形成している。 (もっと読む)


【課題】処理槽の内部に形成される処理液の循環領域を狭小化して処理液の置換効率を向上させるとともに、複数枚の基板の間隙に処理液を良好に流入させる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】下段ノズル14bの吐出孔141の向きを、底板11aの上面の法線Nに対して内側方向に5°以上かつ40°以下の角度θに設定する。これにより、吐出孔141から吐出された処理液の流圧が過度に低減されることはなく、また、内槽11の内部において大きな処理液の循環領域CAが形成されることもない。したがって、基板Wの間隙に処理液を良好に流入させつつ、内槽11の内部の処理液を効率よく置換できる。 (もっと読む)


【課題】処理カップ内における気液分離効率を低下させることなく、処理カップからの薬液のミストの漏出を防止または抑制することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】処理カップ25の上段には、第2構成部材22の第2案内部38の上端部38bと第3構成部材23の上端部23bとの間に、ウエハWの端面に対向し、第1薬液を捕獲する第1薬液捕獲口としての第3開口57が形成される。処理カップ25内の下段には、傾斜部41の先端部と第4構成部材24の傾斜部46の先端部との間に、第1雰囲気捕獲口58が形成される。第3開口57と第1雰囲気捕獲口58との上下方向における中間位置(中段)に、処理カップ25内に下降気流を発生するための羽根部材61が配置されている。羽根部材61は、スピンチャック3のスピンベース8に、一体回転可能に設けられている。 (もっと読む)


【課題】回転させた基板に処理液を供給して所定の処理を行い、しかも、基板から外方へ飛散する処理液を受け止める飛散防止部材を設けた基板処理装置および該装置の制御方法において、装置の異常を確実に検出する。
【解決手段】飛散防止部材を昇降させる一対のサーボモータ119のそれぞれにかかる負荷トルクを検出するトルク検出部5122を設ける。両サーボモータ119のいずれかにかかる負荷トルクが極端に小さいとき、および、両サーボモータ119の負荷トルク差が大きいとき、同期制御装置511は装置に異常があるものと判定してモータの駆動を停止する。 (もっと読む)


【課題】基板面内により均一に処理を施すと共にスループットの向上を図る。
【解決手段】基板処理装置1は、基板2を水平搬送しながらその上面に現像液の液層Xを形成するための液ノズル16と、基板2上に形成された液層Xを除去するための除去手段とを備える。この除去手段は、基板2を横断するように設けられて該基板2の上面に向かってエアを吐出するエアナイフ18と、該エアナイフ18によるエア吐出位置よりも基板2の後端側に隣接する位置に配置され、前記エアの吐出時に生じる液層Xの波打ちを抑える波消し部材20と、を備えている。 (もっと読む)


【課題】処理液の使用量を抑えつつ基板表面を良好に処理する。
【解決手段】基板Wを第1回転速度(例えば1000rpm)で回転させる一方、薬液吐出ノズル4から基板表面Wfにフッ酸を第1流量、例えば2(L/min)で基板表面Wfに供給する。これにより、厚みT1のフッ酸液膜27が基板表面Wf全体に形成され、基板表面Wf全体がフッ酸と馴染んだ状態となる。次に、薬液吐出ノズル4からのフッ酸の吐出流量を2(L/min)に保ったまま、基板Wの回転速度を、第1回転速度よりも低速の第2回転速度、例えば10rpmに減速する(第2工程)。このように回転速度を減速することにより、基板表面Wf上に厚さT2(>T1)の液盛り28が形成される。また、液盛り形成後の第3工程において、フッ酸をさらに継続してノズル4から吐出させて液盛り状態を継続して常にフレッシュなフッ酸が補給される。 (もっと読む)


【課題】 基板現像工程を行うための装置が開示される。
【解決手段】 基板を支持するための基板支持部の互いに向い合う両側には現像ノズルを洗浄するための第1洗浄タンクと第2洗浄タンクを配置することができる。前記現像ノズルは前記第1洗浄タンクから前記第2洗浄タンクに向う水平方向に移動することができ、前記基板の上部面上に現像液を供給することができる。前記現像液を供給した後、前記現像ノズルは、前記第2洗浄タンクに収容されることが可能であり、前記現像ノズルについている現像液は前記第2洗浄タンク内で洗浄液によって除去することができる。 (もっと読む)


【課題】角形基板でもその角部分の先端までほぼ均一な薬液層を形成する事の出来る薬液塗布装置を開発する事にある。
【解決手段】(1) 角形基板(1)が嵌め込まれる角形凹所(16)が形成され、該角形凹所(16)の外接円(G)外に面一にて平坦縁部(10b)が形成され、角形基板(1)が前記角形凹所(16)に面一に嵌め込まれた状態で回転する回転チャック(10)と、(2) 角形基板(1)上に薬液(2)を供給するための薬液供給部(11)と、(3) 回転チャック(10)に載置された角形基板(1)を覆うためのものであって、回転チャック(10)の直上に気体流入孔(12)が穿設されており、気体流入孔(12)から角形基板(1)側に導入された気体にて角形基板(1)の中心(P)側から周縁(S)方向に流れる気流(4)を作り出す円錐台状のフード(13)とを有する薬液塗布装置(A)であって、(a) フード(13)の気体流入孔(12)が角形基板(1)の内接円(N)に等しく、且つ、(b) フード(13)の裾縁(14a)が回転チャック(10)の外周縁(10c)に等しく形成されている事を特徴とする。 (もっと読む)


【課題】レジストが塗布され、露光された後の基板を現像するにあたり、安定して基板に現像液を供給すること。
【解決手段】基板保持部を各々備えた複数の現像処理部と、これら複数の現像処理部に共通に設けられ、前記基板保持部に保持された基板の表面に現像液を帯状に供給するための第1の現像液ノズルと、各現像処理部にて第1の現像液ノズルから吐出された現像液の帯状領域の一端側が基板の中央に向いた状態で、基板の表面全体に現像液の液膜を形成するため、現像液の供給位置を基板の表面における中央部及び周縁部の一方から他方に移動するように第1の現像液ノズルを移動させる駆動機構と、第1の現像液ノズルにより現像液の液膜が形成された基板の中心部に、円形状または前記帯状領域よりも長さが短い帯状に現像液を供給する第2の現像液ノズルと、を備える現像装置を構成し、工程に応じてノズルを使い分ける。 (もっと読む)


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