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Fターム[5F051AA16]の内容

光起電力装置 (50,037) | 本体材料 (7,491) | ドーパント材料 (139)

Fターム[5F051AA16]に分類される特許

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【課題】結晶シリコン系太陽電池において、光電変換層への光の取り込み量を多くすることで光電変換効率の向上をはかる。
【解決手段】厚みが250μm以下の一導電型単結晶シリコン基板を用い、前記基板の一面にp型シリコン系薄膜層を有し、前記基板とp型シリコン系薄膜層の間に実質的に真正なシリコン系薄膜層を備え、前記基板の他面にn型シリコン系薄膜層を有し、前記基板とn型シリコン系薄膜層の間に実質的に真正なシリコン系薄膜層を備え、前記p型およびn型シリコン系薄膜層上に透明電極を備え、さらに前記透明電極上に集電極、その上に保護層を設けた結晶シリコン系太陽電池であって、上記透明電極が、500nmの波長における屈折率が1.2〜1.6である炭素系薄膜と、その上に導電性酸化物層を含んで形成されており、且つ上記導電性酸化物層が炭素系薄膜に入り込んでいることを特徴とする結晶シリコン系太陽電池。 (もっと読む)


【課題】半導体基板側と発電電力を取り出すための電極との接合およびキャリアの取り出しの改善を図ることにより、信頼性が高く光電変換効率の優れた太陽電池素子およびその製造方法を提供する。
【解決手段】一導電型の半導体層と逆導電型の半導体層とを有する半導体基板2を備え、半導体基板2の少なくとも一方主面が逆導電型の半導体層であり、前記半導体基板の一方主面に対向する他方主面および前記逆導電型の半導体層のそれぞれの上に、発電電力を取り出すための電極3〜6が形成された太陽電池素子1であって、前記逆導電型の半導体層の上に形成された電極3および電極4が少なくとも銀と銅を含有している。 (もっと読む)


【課題】薄膜光電変換装置において、大面積化に適した技術により歩留まりの低下を引き起こさずに高生産性を維持し、かつ、酸化亜鉛からなる透明電極層と光電変換ユニットとの間に良好な接合界面を形成することにより光電変換装置の変換効率を改善する。
【解決手段】光入射側から順に、少なくとも酸化亜鉛層と、p型半導体層と、光電変換層と、裏面電極層とを備える光電変換装置であって、酸化亜鉛層とp型半導体層からなる界面近傍における酸化亜鉛の化学量論組成比をZn:O=1+N:1(ただし、N>0)としたことを特徴とする、光電変換装置。 (もっと読む)


【課題】意匠性および光電変換効率に優れるとともに量産に適した安価な太陽電池を得ること。
【解決手段】p型半導体基板の表面にリンが拡散されたn型のリン拡散層とリン拡散層上に設けられた窒化膜とを備えた太陽電池の製造方法であって、半導体基板の表面にリンを拡散させてリン拡散層を形成する第1工程と、第1工程においてリン拡散層上を含む半導体基板の表面に形成されたリンガラス層を除去する第2工程と、リンガラス層が除去されたリン拡散層上に窒化膜を形成する第3工程と、を含み、第1工程後であって第2工程前の状態のリンガラス層の表面に対する、質量分析法によるマススペクトルが質量電荷比(質量数/電荷)88において一番大きいピークを有する有機物質の吸着を判定し、有機物質の吸着があったと判定された場合にのみ、第2工程後であって第3工程の前にリン拡散層の表面に対してアンモニアガスを用いたプラズマ処理を行う。 (もっと読む)


【課題】工数を低減して、効率的に製造することが可能な裏面電極型太陽電池、裏面電極型太陽電池の製造方法、および裏面電極型太陽電池モジュールを提供する。
【解決手段】シリコン基板4の受光面に、シリコン基板4の導電型と同じ導電型になるような不純物を含む化合物、チタンアルコキシドおよびアルコールを少なくとも含む溶液を塗布し熱処理することにより受光面拡散層6と反射防止膜7とを形成する工程と、シリコン基板4の受光面に熱処理により受光面パッシベーション膜8を形成する工程とを有する裏面電極型太陽電池の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 大きい電力を得ることができる太陽電池素子を提供する。
【解決手段】 第1導電型を示す半導体基板2と、半導体基板2の一主面A側に形成された第1の電極4と、半導体基板2の一主面Aから他主面Bにかけて形成された貫通孔7と、貫通孔7内に形成された第2の電極8と、第2の電極8の他端が接続されて第1の電極4と接続されている第3の電極11と、半導体基板2の他主面B上に第3の電極11とは絶縁されて形成された、第3の電極11とは極性が異なる第4の電極12とを有しており、貫通孔7は、複数個が半導体基板2の外周の一部に沿って配置されており、第4の電極12は、第3の電極11の近傍から貫通孔7が形成されている半導体基板2の一部と反対側の外周の近傍まで延在している太陽電池素子1である。 (もっと読む)


【課題】CIGS系光吸収層のバンド構造の制御性を向上させることができるAlを含むCIGS系カルコパイライト型薄膜太陽電池及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に、裏面電極、CIGS系化合物からなる光吸収層、バッファ層、窓層および上部電極が順次積層されたカルコパイライト型化合物半導体薄膜太陽電池であって、前記裏面電極よりも前記基板側にアルミニウム供給層を有し、かつ前記光吸収層の一部に前記アルミニウム供給層から供給されたアルミニウムがドーピングされていることにより、上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】安定的に、出力特性の高い太陽電池を製造する太陽電池の製造方法を提供する。
【解決手段】pn接合を有する半導体基板1と、該半導体基板1上に形成された電極とを備える太陽電池の製造方法であって、半導体基板1の表面および裏面のうちの少なくとも一方の面上に導電性ペーストを塗布する工程と、半導体基板1上の導電性ペーストを加熱室内で焼成して電極を形成する工程と、を有し、電極を形成する工程での焼成炉200内に供給されるガスの供給量(V1)と加熱室内から排出されるガスの排出量(V2)の比率(V1/V2)が1以上2.5以下である太陽電池の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】太陽電池モジュールの特性および生産性を向上することができる太陽電池セル、インターコネクタ付き太陽電池セルおよびその製造方法を提供すること。
【解決手段】pn接合部を形成するようにp型半導体層とn型半導体層とが積層されてなる半導体基板と、この半導体基板の受光面に形成された表面電極部と、半導体基板の受光面とは反対側の裏面に形成された裏面電極部と、半導体基板の受光面または裏面の外周縁に沿って形成された前記pn接合部の一部を分離するための接合分離溝と、前記接合分離溝の開口部の一部を塞ぐ絶縁材料からなる閉塞部とを備えることを特徴とする太陽電池セル。 (もっと読む)


【課題】 簡易な構成で高効率な太陽電池モジュールを提供する。
【解決手段】第1の面1F及び該第1の面1Fの裏面に相当する第2の面1Sを有する半導体基板1と、第2の面1Sに設けられた第1電極4と、第2の面1Sに設けられ、第1電極4と異なる極性を有する第2電極5と、を有する複数の太陽電池素子10を備え、一方の太陽電池素子10の第1電極4と他方の太陽電池素子10の第2電極5を電気的に接続してなる太陽電池モジュールであって、第2電極5は、集電部5bを具備し、該集電部5bは、透光性を有する。 (もっと読む)


【課題】透明電極層から微結晶シリコンp層への酸素の拡散を抑制することで、高い発電効率を有する光電変換装置を提供することを目的とする。
【解決手段】基板1上に、透明電極層2と、少なくとも1つの光電変換層3とを備え、前記光電変換層3が、p型結晶質シリコン層41と、i型結晶質シリコン層42と、n型シリコン層43とを含み、前記透明電極層2と前記p型結晶質シリコン層41との間に、非晶質シリコン層7が隣接して配置される光電変換装置100。 (もっと読む)


【課題】良好な耐プラズマ還元性を有するとともに、透明導電膜/光電変換層界面での反射損失を抑制することができる光電変換装置の製造方法、及び、電池特性が改善された光電変換装置を提供する。
【解決手段】基板1上に、順に透明電極層2と、酸化チタンを主に含む酸化チタン層51と、酸化亜鉛を主に含む酸化亜鉛層52と、光電変換層3とを形成する光電変換装置100の製造方法であって、入射光のスペクトルと光電変換層3の量子効率との積である重み関数を算出し、所定の膜厚の酸化チタン層51及び酸化亜鉛層52を透過する光のスペクトルと、算出された重み関数とから、所定の膜厚の酸化チタン層51及び酸化亜鉛層52を透過する光の平均透過率を算出し、算出された平均透過率と、酸化チタン層51の還元防止効果を考慮した酸化亜鉛層52の膜厚範囲に基づいて、形成する酸化チタン層51及び酸化亜鉛層52の膜厚を決定する。 (もっと読む)


【課題】シリコン多結晶系太陽電池等の光発電素子において、シリコン多結晶層を構成する微結晶の密度を高める。
【解決手段】基板50と基板50上に設けた金属電極層51を有する光発電素子の製造方法であって、ハロゲン化ケイ素化合物の超臨界流体状態を形成する超臨界流体状態形成工程と、形成されたハロゲン化ケイ素化合物の超臨界流体状態においてプラズマ放電を行い、基板50上に設けた金属電極層51上にシリコン多結晶層を形成するシリコン多結晶層形成工程と、を有することを特徴とする光発電素子の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 光電変換効率の高い集積型の光電変換装置を実現する。
【解決手段】 透明絶縁性の基板上に透明電極、光電変換層、裏面電極層が順次積層されてなる光電変換装置であって、光電変換装置は透明電極および光電変換層を分離する第1の分離溝と裏面電極および光電変換層を分離する第2の分離溝を有し、第1および第2の分離溝によりユニットセルに分離され、ユニットセルは透明電極および裏面電極層により電気的に直列に接続されてなる光電変換装置であって、第2の分離溝は、裏面電極を分離する間隙が前記光電変換層を分離する間隙より大きいことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】レーザーエッチングが容易であり、且つ、高い発電効率を有する光電変換装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板1上に、2つの光電変換層3と、裏面電極層4とを形成する工程を含む光電変換装置100の製造方法であって、前記裏面電極層形成工程が裏面透明電極層形成工程と、Cu薄膜形成工程とを備え、前記Cu薄膜形成工程が、順に排気工程と製膜工程とを含み、前記排気工程の到達圧力が、2×10−4Pa以下であって、前記製膜工程の温度が、120℃以上240℃以下であることを含む光電変換装置100の製造方法。 (もっと読む)


【課題】P型ドープシリコン前駆体を効率よく生成する。
【解決手段】シクロペンタシラン溶液11に、ドーパントをラジカル化するための第1の波長の光と、シクロペンタシランをラジカル化するための第2の波長の光を含む紫外線15を高圧水銀ランプ14から照射し、同時にドーパントガス16としてのジボランガスをシクロペンタシラン溶液11に供給することにより、シクロペンタシランの重合体にドーパントが結合したP型ドープシリコン前駆体を生成する。 (もっと読む)


【解決手段】シリコン基板1と、前記シリコン基板1の受光面側に形成され、ドーパント高濃度拡散層3とこの高濃度拡散層3よりもドーパント濃度が低い低濃度拡散層4とを有するp型セレクティブエミッタ層2と、前記p型セレクティブエミッタ層2の高濃度拡散層3と電気的に接続する受光面電極6と、前記シリコン基板1の裏面側に形成されたn型拡散層5と、前記n型拡散層5と電気的に接続する裏面電極7と、を備える太陽電池であって、前記受光面電極直下となる高濃度拡散層3がシリコン窒化膜8と接し、前記低濃度拡散4層がシリコン酸化膜9と接することを特徴とする太陽電池。
【効果】高濃度拡散層と低濃度拡散層とを有するp型セレクティブエミッタ層を有する太陽電池を簡便に製造することができ、容易に低オーミックコンタクトが形成でき、製造歩留まりを高レベルで維持しながら高性能の太陽電池及びその製造方法を提供することができる。 (もっと読む)


【課題】ドープシリコン膜中にドープ材料を多く残留させるドープシリコン膜の製造方法を提供する。
【解決手段】ドープシリコン膜110の製造方法は、液体材料108を塗布して塗布膜109を形成する工程と、塗布膜109を熱処理する工程と、を含み、液体材料108がシラン化合物11とドーパント化合物12とを含む溶液に、第1の光源111から射出される第1の光と、第2の光源112から射出される第1の光と波長の異なる第2の光とを照射することで得られるシリコン前駆体組成物を含むものであることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】モジュール化に伴い大きな応力が発生した場合であっても発電部の破損を防止することが可能な、太陽電池及びその製造方法を提供する。
【解決手段】発電部と、金属製の第1電極と、発電部の他面側に配設された第2電極とを有し、発電部の一面側の表面の一部と第1電極とが接触し、第1電極と接触していない発電部の一面側の表面の少なくとも一部に第1電極と同じ厚さの光を吸収しない炭素層が配設され、該炭素層の硬さは第1電極の硬さ以上である太陽電池とし、凸部を有する金属基板の凸部側に凸部の高さと同じ厚さの炭素層を作製する工程と、作製された炭素層の金属基板が設けられていない側の表面へ発電部を作製する工程と、作製された発電部の炭素層が設けられていない表面へ第2電極を作製する工程と、金属基板の凸部以外の部位を溶解させて除去することにより第1電極を作製する工程と、を有する太陽電池の製造方法とする。 (もっと読む)


【課題】多結晶半導体基板を用いた場合でも、裏面電極近傍における少数キャリアの再結合を従来に比して抑え、耐熱性を改善した裏面電極構造が得られる光起電力装置の製造方法を得ること。
【解決手段】P型多結晶シリコン基板101の受光面側にN型拡散層102と反射防止膜103を形成する工程と、反射防止膜103上に表面電極形状に導電性ペーストを形成し、800℃以上の温度で焼成する工程と、シリコン基板101の裏面側に裏面電極構造を形成する工程と、を含み、焼成前に、シリコン基板101の裏面上にプラズマCVD法によって、水素を含む第1の水素含有プラズマCVD膜を形成し、焼成後で裏面電極構造形成前に、第1の水素含有プラズマCVD膜を除去する工程をさらに含み、裏面電極構造を形成する工程では、プラズマCVD法によって形成された第2の水素含有プラズマCVD膜がシリコン基板101の裏面上に形成される。 (もっと読む)


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