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Fターム[5F056BB02]の内容

電子ビーム露光 (6,230) | 検出・測定手段 (161) | 電子検出器 (50) | 複数個の検出器 (8)

Fターム[5F056BB02]に分類される特許

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【課題】 荷電粒子線の特性の計測精度の点で有利な照射装置を提供する。
【解決手段】 複数の荷電粒子線を物体に照射する照射装置は、複数の開口を有する遮蔽板と、前記複数の開口をそれぞれ通過した複数の荷電粒子線をそれぞれ検出する複数の検出器とを含み、前記複数の荷電粒子線の強度を計測する計測器と、前記複数の荷電粒子線がそれぞれ前記複数の開口のエッジを横切るように前記複数の荷電粒子線と前記計測器との間の相対的な走査を行う走査手段と、前記走査手段と前記計測器とを制御して前記複数の荷電粒子線それぞれの特性を求める制御部と、を備える。前記走査の期間において、前記複数の荷電粒子線の前記遮蔽板によって遮断されるエネルギーが時間とともに変動しないように構成されている。 (もっと読む)


【課題】 描画に使用する荷電粒子線の強度を計測する精度の点で有利な描画装置を提供する。
【解決手段】 荷電粒子線のパルスで基板に描画を行う描画装置は、入射した荷電粒子線に応じた電流を出力する検出器と、入射した前記パルスに応じた前記検出器の出力電流で充電されるキャパシタを含み、前記キャパシタの電圧値を検出し、前記キャパシタの容量値および前記電圧値に基づいて前記検出器に入射した前記パルスの強度を求める処理部と、を有する。前記処理部は、抵抗を含み、入射した荷電粒子線に応じた前記検出器の出力電流を前記抵抗での電圧降下を介して検出し、該検出に基づいて決定された電流値を有する電流を前記キャパシタに供給して前記キャパシタの電圧値を検出し、該電圧値と前記キャパシタに供給された前記電流の前記電流値とに基づいて、前記容量値を求める。 (もっと読む)


【課題】フォーカスのための基板の正確な位置決めの点で有利なマルチ電子線描画装置を提供する。
【解決手段】描画装置は、荷電粒子線を基板に対して射出する荷電粒子光学系と、基板を保持し、荷電粒子光学系の光軸の方向と光軸に垂直な方向とにそれぞれ可動なステージ103と、基準反射面を含み、光軸の方向におけるステージの位置を計測する干渉計と、荷電粒子線の特性を計測する計測器201と、補正情報を用いて干渉計の計測結果を補正する制御部と、を備える。制御部は、光軸に垂直な方向におけるステージの複数の位置それぞれに関して干渉計による計測としての第1計測と計測器による計測としての第2計測とを並行して行わせ、複数の位置それぞれに関して得られた第1計測および第2計測の結果に基づいて、補正情報を求める。 (もっと読む)


【課題】偏向制御回路内で描画すべきSF位置のステージ位置を予測することにより、前回のSF描画終了を待たずに、偏向歪の計算を行うことが可能になり、無駄時間を低減し、電子ビーム描画における生産性を向上させる。
【解決手段】N個目の描画領域の位置データを取得する手段と、ステージ位置及びステージ速度を取得する手段と、N個目の描画領域を処理する時点のステージ予測位置を求める手段と、ステージ予測位置とN個目の描画領域位置までの距離が偏向距離以下かどうかを判断する手段と、距離が偏向距離以下とされた場合,距離に応じた偏向歪の補正を行い,偏向電圧を決定する手段と、(N−1)個目の描画領域の描画終了を検出する手段と、(N−1)個目の描画領域の描画終了を確認した場合,決定した偏向電圧にて電子ビームを偏向させて描画する手段とを備えるステージ連続移動方式の電子ビーム描画装置及び描画方法。 (もっと読む)


【課題】原盤作製用ディスクに対するピット形成に必要な情報の記録を高精度に行うことができる電子ビーム装置を提供する。
【解決手段】原盤作製用ディスク2の1ピット形成部分を照射する情報記録用電子ビーム鏡筒の数が内周部から外周部にかけて多くなるように情報記録用電子ビーム鏡筒(46−1〜55−1、46−2〜55−2、46−3〜55−3、46−4〜55−4)を配置し、原盤作製用ディスク2を一定角速度で回転させる場合においても、原盤作製用ディスク2の半径方向の各点での単位面積あたりの電子ビーム照射量を均等化する。 (もっと読む)


【課題】スポットビーム型電子ビーム露光装置及び電子ビーム位置変動抑制方法に関し、各種の外乱に起因する電子ビームの位置変動をリアルタイムに抑制する。
【解決手段】電子源1から放出された広い断面積の電子ビームを一つの描画用電子ビーム3とそれを取り囲む四つの検出用電子ビーム4とに分ける五つの孔を配置したビーム制限絞り2と、四つの検出用電子ビーム4を四極子のレンズと双極子の偏向との重畳電場内に通過させる電場発生機構5と、描画用と検出用の双方電子ビームに作用するコンデンサレンズ6と、描画用電子ビーム3を照射面に集束させる対物レンズ8の主面付近の上下に検出エッジ及び検出器の組み合わせからなる電子ビーム検出機構9をx,y方向に計四つ配置し、一方の方向から二つの検出信号を処理する検出信号処理回路11を各々の方向に備え、各検出信号処理回路11からの出力により描画用電子ビーム3を偏向させる偏向器7を備える。 (もっと読む)


【課題】 試料に照射されるときの電子ビームの開き角をより正確に制御することができる電子ビーム制御方法およびその装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 動作曲線は、総合レンズ倍率Mおよび開き角αの相関関係を規定する曲線である。したがって、このような動作曲線に基づいて各レンズの励起強度NIcl,NIirisを操作すれば、従来のように試料に照射されるときのビーム電流値や電子ビームの輝度を直接的に求めなくても、最適な開き角を実現することができる。その結果、試料に照射されるときの電子ビームの開き角をより正確に制御することができる。 (もっと読む)


粒子ビーム装置のパターンロック装置において、パターンの投影は少なくとも2つの連続する投影段を用いてなされ、記録手段は、中間投影面の公称位置の箇所に配置され、基準マークは、最終でない投影段により生成された基準マークの中間像の位置において、粒子ビームの位置を決定する記録手段上に投影される。さらに、記録手段上の走査動作を起こすため、基準ビームレットは、パターン描画手段に設けられた偏向手段を用いて、時間依存性の電圧に依存して横方向にシフトされる。 (もっと読む)


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