Fターム[5F058BC00]の内容
絶縁膜の形成 (41,121) | 無機単層構造絶縁膜の材料 (5,394)
Fターム[5F058BC00]の下位に属するFターム
酸化物 (3,578)
窒化物 (1,113)
シリコン酸化窒化物 (400)
ダイヤモンド(ダイヤモンド状炭素を含む) (37)
その他 (265)
Fターム[5F058BC00]に分類される特許
1 - 1 / 1
減圧下照射による処理方法及び装置
【課題】
【解決手段】紫外光線を使用して、多孔質低誘電率半導体ウェハのような、基板を処理するシステム及び方法が開示されている。基板は、最初に、湿式処理モジュール内にて清浄化し、次に、減圧圧力及び100℃以下、好ましくは80℃以下の温度にて紫外線モジュール内にて乾燥させる。ロボット式モジュールが基板を湿式処理モジュールから紫外線モジュールまで搬送する。紫外線モジュールは、172nmのインコヒーレントな真空紫外VUV光線を提供するパルスキセノンエキシマーランプを含むことができる。
(もっと読む)
1 - 1 / 1
[ Back to top ]