Array ( [0] => 絶縁膜の形成 [1] => 無機絶縁膜の形成法 [2] => 気相堆積 [3] => 堆積物形成反応ガス ) 無機絶縁膜の形成法 | 気相堆積 | 堆積物形成反応ガス
説明

Fターム[5F058BF21]の内容

絶縁膜の形成 (41,121) | 無機絶縁膜の形成法 (10,542) | 気相堆積 (7,977) | 堆積物形成反応ガス (3,745)

Fターム[5F058BF21]の下位に属するFターム

主構成元素の化合物 (2,014)
酸化剤 (1,015)
窒化剤 (571)
添加物 (133)

Fターム[5F058BF21]に分類される特許