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Fターム[5F071DD03]の内容

レーザ (1,524) | 電極以外の管構造 (104) | 磁界(消磁、シールド) (12) | 磁界の付与 (11)

Fターム[5F071DD03]に分類される特許

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【解決手段】 マイクロ波によってレーザガスを励起させてレーザ光Lを発振させるようにしたレーザ発振装置1は、内部にレーザガスを収容する筒状の放電管3と、フロントミラーとリヤミラーとから構成された共振器を有するレーザ発振器31A、31Bと、マイクロ波を発生させるマイクロ波発生器15と、このマイクロ波発生器によって発生されたマイクロ波を上記放電管に導波する導波管17とを備えている。上記導波管17は、放電管3の外周面に螺旋状に配置してあり、この導波管に複数のスリットを設けてある。
【効果】 上記放電管3の外周面の略全体から放電管3の半径方向内方に向かってマイクロ波を放射して放電管3内に収容されるレーザガスを励起させることができるので、該レーザガスを効率的に励起することができる。 (もっと読む)


【解決手段】 レーザ発振装置1は、内部にレーザガスを収容する筒状の放電管3と、レーザガスを放電管3内と連通路4bとの間で循環させるガス循環通路4と、上記連通路4b内に設けられてレーザガスを循環させるクロスフローファン9とを備えている。上記クロスフローファン9は連通路4b内に斜めに配置されている。これにより連通路4b内はクロスフローファン9によって上流側の流入部4b−iと下流側の流出部4b−oとに区画され、レーザガスはクロスフローファン内を介して流入部から流出部へ流通されるようになる。
【効果】 クロスフローファン9を連通路4b内に斜めに配置することにより、大きなスペースを必要とすることなくクロスフローファン9を循環通路4内に設けることができる。 (もっと読む)


【課題】必要ガス流速の増大及びファンへの投入電力の増大を抑え、4kHz以上のさらなる高繰り返し動作と長時間使用を可能にした放電励起式パルス発振ガスレーザ装置を提供する。
【解決手段】細長いアノードとカソードの放電面形状が、電極長手方向に直交する断面において凸面の曲線形状であり、接地電位の電極の幅Weと放電電極間の最小間隔gがg/We>3の関係を有し、放電電極間へ4KHz以上のパルス繰り返し数で、50mJ/cm3以上の密度の電力を供給する電源を備えており、放電面の凸面の曲線形状が、楕円、双曲線、又は、xN/(We/2)N+yN/hN=1(hは電極曲線部高さ、xは電極の幅方向の位置座標、yは電極の凸面方向の座標、Nは3以上の整数)で表現される高次関数の何れかであり、電極幅内において、ΔE=電界強度の差、Eave=電界強度平均値とし、その割合ΔE/Eaveが35%以下である。 (もっと読む)


【課題】送風機によるガス循環冷却を行わないガスレーザ発振装置において、スラブ方式でなく、安定型共振器によるレーザビーム生成実現のためのガス冷却手段の開発が大きな課題となっていた。
【解決手段】レーザガスを励起する放電手段と、レーザガスを内部に配置して放電を行う放電管1と、放電管1を光軸方向に配置し対向する全反射鏡6、部分反射鏡7によって挟むことで形成された光共振器と、放電管1の円周上に複数個の電磁石12を備え、放電管1に接する冷媒手段をもち、光軸と一致した回転軸を中心として回転可能な構造とし、電磁石12と、冷媒を回転させる駆動手段を設け、この複数個の電磁石12を順番にON・OFFすることにより放電管1内部のガス分子が移動し、冷媒により冷却される。 (もっと読む)


【解決手段】 ガスレーザ発振器1は、レーザガスが封入されたハウジング2と、ハウジング2内部に設けた筒状の外側電極4と、該外側電極4の内側に設けられて上記外側電極4との間に筒状の放電空間を形成する内側電極5と、上記外側電極4および内側電極5を冷却する冷却手段7と、上記放電空間の軸方向に離隔するとともに異なる磁極が相互に向き合うように配置された永久磁石6a、6bからなる磁界発生手段6とを備えている。
上記外側電極4と内側電極5との間で放電するとともに、上記磁界発生手段6が磁界を発生させることで、ローレンツ力により上記放電空間のレーザガスを周回させ、さらに上記永久磁石を外側電極4または内側電極5に隣接した位置に設けて、上記電極とともに上記冷却手段7によって冷却する。
【効果】 放電空間内のレーザガスを高速に周回させて効率的にレーザ光Lを発振することができる。 (もっと読む)


【課題】すなわち送風手段を用いずにレーザガスを冷却する事、および良質なレーザビームを取り出せる安定型共振器を両立させる事が大きな課題となっていた。
【解決手段】レーザガスを循環するレーザガス流路1のチャンバー2に、電極5、6と直流の電源7からなる放電手段を設け、この放電手段による直流電流方向13と直行方向に磁界を印加するための磁界発生手段12を設け、チャンバー2内の放電手段によりレーザガスに流れる電流と、この電流に直角方向に磁界を掛けたので、放電によりプラズマ化したレーザガスが電磁力によって移動するので従来のような送風手段を廃止できるものである。 (もっと読む)


【課題】短時間でレーザ発振を開始することができ、またプラズマ電源に数十kVというような高電圧を要せず、しかも高出力で安定性に優れた蒸気レーザ装置を提供する。
【解決手段】真空容器1内で発生させた放電プラズマPによって前記真空容器1内の物質蒸気を励起してレーザを発生させる蒸気レーザ装置である。前記真空容器1内に対向配置された一対のターゲット2A,2Bと、前記ターゲット2A,2Bの表面に対して垂直ないし略垂直に磁界を形成するマグネット3A,3Bと、バッファガス中で前記ターゲット2A,2Bをスパッタすると共にこれによって発生した物質蒸気を励起する放電プラズマPを前記ターゲット2A,2Bの間に形成するプラズマ電源5を備える。 (もっと読む)


【課題】 レンズ材料やその表面への負荷が少なく、かつ、ミラーもしくはレンズスキャンの制御系を簡略にすることができ、かつエキシマレーザ の寿命が十分長くなって量産の使用に耐えるエキシマレーザ 発振装置及び発振方法並びに露光装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 Kr,Ar,Neから選ばれた1種以上の不活性ガスとF2ガスとの混合ガスからなるレーザガスを収納するためのレーザ管2からなるレーザチャンバ20と、該レーザチャンバ20を挟んで設けられた一対の反射鏡5,6からなる光共振器とを有するエキシマレーザ 発振装置において、レーザガスを収容するためのレーザチャンバ20の内面を、248nm,193nm,157nmといった所望の波長の光に対する無反射面とするとともに、該内面の最表面をフッ化物で構成し、レーザチャンバ20内のレーザガスを励起するためのマイクロ波の導入手段(導波管1)を設けたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 必要ガス流速の増大及びファンへの投入電力の増大を抑え、4kHz以上のさらなる高繰り返し動作と長時間使用を可能にした放電励起式パルス発振ガスレーザ装置。【解決手段】 細長いアノードとカソードの放電面形状が、電極長手方向に直交する断面において凸面の曲線形状であり、接地電位の電極の幅Weと放電電極間の最小間隔gがg/We>3の関係を有し、放電電極間へ4KHz以上のパルス繰り返し数で、50mJ/cm3 以上の密度の電力を供給する電源を備えており、放電面の凸面の曲線形状が、楕円、双曲線、又は、xN /(We/2)N +yN /hN =1(hは電極曲線部高さ、xは電極の幅方向の位置座標、yは電極の凸面方向の座標、Nは3以上の整数)で表現される高次関数の何れかであり、電極幅内において、ΔE=電界強度の差、Eave =電界強度平均値とし、その割合ΔE/Eave が35%以下である。 (もっと読む)


【目的】 高精度の安定化レーザ装置には制御回路にコンパレータと積分器から構成される補正装置がついていた。この補正装置は積分器による大きな遅れ要素のため必ず発振を起こすので信号のラインに交流やランダムノイズを重ね発振を抑えていたが重ね方が難しく、発振を止めるための素子の選定などに多大の時間を要していた。さらに重ね方に不合理性がありそのため、制御の目的値の誤差および誤差の分散(ばらつき)が大きかった。発振を止めるに要する時間を短縮すると共に、上記制御の目的値の誤差および誤差の分散を小さくする。
【構成】 上記補正装置を振幅が可変である正弦波発振器とオフセットが小さい演算増幅器と正確な限界電圧を持つ電圧リミッターとを組み合わせて合成増幅器を作りこの合成増幅器の出力を積分する構成とした。高精度の安定化レーザ装置が耐えられる環境温度の範囲を拡げるため、同じような補正装置を二個用いた。 (もっと読む)


【課題】 レンズ材料やその表面への負荷が少なく、かつ、ミラーもしくはレンズスキャンの制御系が簡略にすることができる連続発光エキシマレーザ発振装置を提供すること。
【解決手段】 Kr,Ar,Ne等の不活性ガスとF2ガスが混合され、レーザ ガスを収納するためのレーザチャンバと、一対の反射鏡からなる光共振器とを有するエキシマレーザ発振装置において、該レーザガスを収容するためのレーザチャンバの内表面をフッ化物で構成し、かつ248nm、193nmといった所望の波長の光に対する無反射面とするとともに、該レーザーガスを連続的に励起するためのマイクロ波の導入手段を設けた、出力側反射鏡前記波長の光に対する90%以上の反射率としたことを特徴とする。レーザガスは連続的に供給することが好ましく、また、F2濃度は、1〜6%、圧力を数10Torr〜1atmが 好ましい。 (もっと読む)


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