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Fターム[5F082BA17]の内容

バイポーラIC (6,722) | 素子構造 (2,196) | フローティング層 (1)

Fターム[5F082BA17]に分類される特許

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【課題】安価に製造することができ、そこに形成される各種半導体素子の特性を阻害することなく高集積化できる貼り合わせ基板の製造方法および貼り合わせ基板を提供する。
【解決手段】SOI層1aとなる第1基板11aの一方の第1面1S側に、埋め込み絶縁分離トレンチTを形成する、埋め込み絶縁分離トレンチ形成工程と、第1面1S側に、埋め込み拡散層1b,1cとなる不純物層1ib,1icを形成する、不純物層形成工程と、第1基板11aにおける第1面1S側を支持基板2となる第2基板11bに対向するようにして積層し、第1基板11aと第2基板11bを互いに貼り合わせる、基板貼り合わせ工程と、貼り合わされた第1基板11aのもう一方の第2面2S側を研磨して、埋め込み絶縁分離トレンチTを基板表面に露出し、SOI層1aとする基板研磨工程とを有する貼り合わせ基板11の製造方法とする。 (もっと読む)


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